投影光刻物镜及光刻机制造技术

本发明专利技术提供一种投影光刻物镜及光刻机。其中，投影光刻物镜的第一镜组中的第一负透镜和第一正透镜形成了密接双分离式透镜组，以实现场曲/像散矫正。第五镜组中第三正透镜、第二负透镜和第四正透镜形成了密接三分离形式透镜组，以实现色差矫正。第二镜组、第三镜组、第四镜组和第五镜组中均包括至少一个非球面。因非球面相比于球面增加了优化的自由度，则一片非球面原理上可以代替2

【技术实现步骤摘要】
投影光刻物镜及光刻机


[0001]本专利技术涉及光刻机制造
，特别涉及一种投影光刻物镜及光刻机。

技术介绍

[0002]光学曝光装置，又称为光刻机，是利用光学投影成像的原理将掩模版上集成电路(Integrated circuit,IC)图形以分布重复或扫描的方式转移至涂胶硅片上，由此来制备半导体器件。但随着市场需求量的增加，以及集成电路器件集成度的不断提高，对光刻的精度要求和产量要求也越来越高。因此，在高产率的前提下，提高光刻物镜的分辨率成为本领域的技术难题之一。
[0003]众所周知，提高光刻的分辨率可以通过缩短波长、增大数值孔径(NA)、降低工艺因子等途径来实现。高产率可采用大的投影物镜曝光视场来实现。然而，采用大数值孔径实现大视场在投影光学系统很难实现。因为光学系统按类别可分为高数值孔径小视场和低数值孔径大视场光学系统，如果要同时实现高数值孔径和大视场，设计难度将会呈指数增加。另外，在投影曝光的纯折射光学系统中，类似于对像差进行校准的各种需求，会随数值孔径或视场的增大而增大。并且投影光学系统的重量和尺寸往往会随着这些系统的数本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种投影光刻物镜，其特征在于，包括：沿光路依次设置的第一镜组、第二镜组、第三镜组、第四镜组、第五镜组以及第六镜组；所述第一镜组包括沿光路依次设置的第一负透镜和第一正透镜，且所述第一负透镜靠近物面的一侧呈非球面；所述第五镜组包括沿光路依次设置的第二正透镜、孔径光阑、第三正透镜、第二负透镜和第四正透镜；所述第三镜组中的透镜均为正透镜；所述第二镜组、所述第四镜组和所述第六镜组中的透镜均为负透镜；其中，所述第二镜组、所述第三镜组、所述第四镜组和第五镜组中均包括至少一个呈非球面的透镜。2.根据权利要求1所述的投影光刻物镜，其特征在于，所述第一镜组和所述第五镜组的光焦度值均为正数。3.根据权利要求1所述的投影光刻物镜，其特征在于，所述第五镜组包括至少一个双凹负透镜，且所述双凹负透镜具有至少一个非球面。4.根据权利要求1所述的投影光刻物镜，其特征在于，所述第一负透镜为弯月负透镜，所述第一正透镜为双凸正透镜。5.根据权利要求1所述的投影光刻物镜，其特征在于，所述第一负透镜为双凹负透镜，所述第一正透...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭银章，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：