一种真空镀膜设备真空腔室结构制造技术

一种真空镀膜设备真空腔室结构，包括腔室容器，腔室容器内部设置有真空腔室，真空腔室截面为中部矩形与两侧半圆形结合的形状；腔室容器由腔室前板、腔室后板和腔室侧板连接而成；腔室容器下方连接有安装支架，用于连接腔室容器和设备；本实用新型专利技术同时兼具长方形结构真空腔室和圆形结构真空腔室的优点，具有结构强度高、空间利用率大、便于安装、生产效率高等优势。优势。优势。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜设备真空腔室结构


[0001]本技术涉及真空镀膜设备
，具体涉及一种真空镀膜设备真空腔室结构。

技术介绍

[0002]真空镀膜设备常用于在薄膜表面沉积金属薄层，其工作原理为：将镀层材料的原子在真空环境下从加热源离析出来，并打到被镀物体的表面上，通常包含有真空腔室、加热系统、离子溅射系统、工艺气体输入系统、电源及其他部分，其中真空腔室部分的作用在于从密闭容器中抽离空气，为设备提供真空环境，以便于之后的工艺流程。
[0003]目前，真空镀膜设备所用真空腔室的结构为长方形或圆形，这两种结构都存在一定问题：长方形结构的腔室缺乏结构强度，且腔室内容积大，在安装时会占用较大空间，延长抽气时间；圆形结构的真空腔室难以适配多种镀膜设备，且不方便安装或检修内部零件。
[0004]中国专利申请(申请号CN202220418234.8，名称为一种卷对卷镀膜设备的真空室结构)公开的内容包括真空容器和设于真空容器底部的支撑脚，真空容器内部设有真空室，该真空室的截面呈多边形结构；此种设计缺乏结构强度，且制作工艺繁杂，空间利用率仍不高。

技术实现思路

[0005]为了克服上述现有技术的缺点，本技术的目的在于提供了一种真空镀膜设备真空腔室结构，同时兼具长方形结构真空腔室和圆形结构真空腔室的优点，具有结构强度高、空间利用率大、便于安装、生产效率高等优势。
[0006]为了实现上述目的，本技术采取的技术方案为：
[0007]一种真空镀膜设备真空腔室结构，包括腔室容器1，腔室容器1内部设置有真空腔室2，真空腔室2截面为中部矩形与两侧半圆形结合的形状。
[0008]所述腔室容器1的材料采用20Mn高锰低碳渗碳钢。
[0009]所述腔室容器1由腔室前板4、腔室后板5和腔室侧板6连接而成。
[0010]所述腔室前板4与腔室后板5呈真空腔室2截面形状，呈平行状态安装于真空腔室2的前、后位置；所述腔室侧板6从侧面包裹真空腔室2，其外形呈矩形与两侧半圆形结合的形状。
[0011]所述腔室侧板6由低碳钢板弯折而成。
[0012]所述腔室容器1下方连接有安装支架3，用于连接腔室容器1和设备。
[0013]本技术的有益效果为：
[0014]1、由于本技术真空腔室2截面中部为上下边平行的矩形结构，所以便于安装工作盘、磁控靶等内部装置，同时平面结构也便于腔室容器1安装在镀膜设备上，节省了技术人员的安装时间与维护时间。
[0015]2、由于本技术真空腔室2截面两侧为半圆形机构，在提升腔室容器1结构强度
的同时节约了其安装空间，使得真空室可以采用功率更大的空气抽取装置，从而提升了设备的生产效率。
[0016]3、由于本技术腔室侧板6采用低碳钢板弯折的一体化设计，相比传统腔室侧板6的焊接工艺，减少了局部受力点的产生，从而进一步提高了结构强度与使用寿命。
附图说明
[0017]图1为本技术的正视图。
[0018]图2为本技术的侧视图。
具体实施方式
[0019]下面结合附图和实施例对本技术进行详细阐述。
[0020]参照图1和图2，一种真空镀膜设备真空腔室结构，包括腔室容器1和安装支架3，腔室容器1内部设置有真空腔室2，真空腔室2截面为中部矩形与两侧半圆形结合的形状，真空腔室2同时兼具长方形结构真空腔室和圆形结构真空腔室的优点。
[0021]所述腔室容器1的材料采用20Mn高锰低碳渗碳钢；所述腔室容器1由腔室前板4、腔室后板5和腔室侧板6连接而成；所述腔室前板4与腔室后板5呈真空腔室2截面形状，呈平行状态安装于真空腔室2的前、后位置，用于密封真空腔室2；所述腔室侧板6从侧面包裹真空腔室2，其外形呈矩形与两侧半圆形结合的形状，减少了真空腔室2的容积，提升了真空腔室2抽取空气的效率，提升了空间利用率，且具有较高的结构强度。
[0022]所述腔室侧板6由低碳钢板弯折而成，使真空腔室2抽取空气时的受力更加均匀，进一步提升了腔室容器1的结构强度。
[0023]所述腔室容器1下方连接有安装支架3，用于连接腔室容器1和设备。
[0024]最后应说明，以上实施例仅用以对本技术的技术方案进行说明，而非对其限制，尽管参照较佳实施例对本技术进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本技术的技术方法进行修改或等同替换，而这些修改和替换并不脱离本技术技术方案的精神和范围。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜设备真空腔室结构，包括腔室容器(1)，腔室容器(1)内部设置有真空腔室(2)，其特征在于：真空腔室(2)截面为中部矩形与两侧半圆形结合的形状。2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备真空腔室结构，其特征在于：所述腔室容器(1)的材料采用20Mn高锰低碳渗碳钢。3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备真空腔室结构，其特征在于：所述腔室容器(1)由腔室前板(4)、腔室后板(5)和腔室侧板(6)连接而成。4.根据权利要求3所述的一种真空镀膜设备真空...

【专利技术属性】
技术研发人员：葛晓林，冯庆，苗东，刘子安，
申请(专利权)人：西安泰金工业电化学技术有限公司，
类型：新型
国别省市：