柔性防反射防污膜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种柔性防反射防污膜，包括依次层叠设置的PET基材层、HC硬化层、高折射率树脂层、氧化铌镀层、氧化硅镀层以及防污涂层。本实用新型专利技术的柔性防反射防污膜，通过使用高折射率树脂层替代传统SiO2、Nb2O5镀层，使磁控氧化物镀层的厚度直接降低到原始值的1/2,在不影响薄膜降反射、硬度以及耐磨性能的前提下，大大提升了防反射、防污膜层整体的耐弯折性能。折性能。折性能。

【技术实现步骤摘要】
柔性防反射防污膜


[0001]本技术是关于一种膜，特别是关于一种柔性防反射防污膜。

技术介绍

[0002]光学PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)薄膜具有高透过、抗拉伸、抗冲击、高强韧等优异的光学和机械性能，且价格相对低廉，非常适用于消费类电子折叠触控屏产品的防反射膜。磁控溅射(干法)工艺制备的多层防反射镀层相比于涂布(湿法)工艺制备的单层防反射层具有防反效果好(能在较宽的光谱区实现较好的防反射效果)、可视角度大、均一性好等优点。现有技术的防污防反射膜的结构(如图1所述)，通过磁控溅射方式形成的多层减反镀层通常是高折射率氧化物(Nb2O5)与低折射率氧化物(SiO2)交替堆叠而成，所以其弯折性能较差。
[0003]公开于该
技术介绍
部分的信息仅仅旨在增加对本技术的总体背景的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域一般技术人员所公知的现有技术。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种柔性防反射防污膜，其能够提升防反射防污膜的折弯性能。
[0005]为实现上述目的，本技术提供了一种柔性防反射防污膜，包括依次层叠设置的PET基材层、HC硬化层、高折射率树脂层、氧化铌涂层、氧化硅涂层以及防污涂层。
[0006]在一个或多个实施方式中，所述高折射率树脂层的折射率为1.7
‑
2。
[0007]在一个或多个实施方式中，所述高折射率树脂层的厚度为80
‑
100nm。
[0008]在一个或多个实施方式中，所述高折射率树脂层和氧化铌涂层之间设置有打底层。
[0009]在一个或多个实施方式中，所述打底层的厚度为5
‑
10nm。
[0010]在一个或多个实施方式中，所述HC硬化层的厚度为4
‑
5μm。
[0011]在一个或多个实施方式中，所述PET基材层的厚度为23
‑
50μm。
[0012]在一个或多个实施方式中，所述氧化铌涂层的厚度为10
‑
20nm。
[0013]在一个或多个实施方式中，所述氧化硅涂层的厚度为75
‑
100nm。
[0014]在一个或多个实施方式中，所述防污涂层的厚度为15
‑
25nm。
[0015]与现有技术相比，根据本技术的柔性防反射防污膜，通过HC硬化层和氧化铌涂层之间设置的高折射率树脂层，从而降低柔性防反射防污膜氧化铌涂层、氧化硅涂层的厚度以及层数，降低柔性防反射防污膜的厚度，且提升了本技术的柔性防反射防污膜的折弯性能。
附图说明
[0016]图1是根据统的防反射防污膜的结构示意图；
[0017]图2是根据本技术一实施方式的柔性防反射防污膜的结构示意图；
[0018]图3是根据本技术另一实施方式的柔性防反射防污膜的结构示意图；
[0019]图4是根据本技术的实施例与对比例的反射率数据曲线图。
[0020]主要附图标记说明：
[0021]1、PET基材层；2、HC硬化层；3、高折射率树脂层；4、打底层；5、氧化铌镀层；6、氧化硅镀层；7、防污涂层。
具体实施方式
[0022]下面结合附图，对本技术的具体实施方式进行详细描述，但应当理解本技术的保护范围并不受具体实施方式的限制。
[0023]除非另有其它明确表示，否则在整个说明书和权利要求书中，术语“包括”或其变换如“包含”或“包括有”等等将被理解为包括所陈述的元件或组成部分，而并未排除其它元件或其它组成部分。
[0024]如图1所示，传统的防反射防污膜的结构中有多层反复交替的氧化铌层、氧化硅层，导致传统的防反射防污膜的折弯性能较差。
[0025]如图2所示，根据本技术一实施方式的柔性防反射防污膜，包括依次层叠设置的PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)基材层、HC硬化层、高折射率树脂层、氧化铌镀层、氧化硅镀层以及防污涂层。
[0026]其中，高折射率树脂层的折射率为1.7
‑
2，高折射率树脂层的厚度为80
‑
100nm。由于高折射率树脂层本身的柔性较好，因此可以起到增强技术的柔性防反射防污膜的折弯性能的作用。优选的，高折射率树脂层按重量百分比计，可以包括以下原料组分：甲基丙烯酸
‑2‑
羟基丙酯(3％
‑
7％)、三羟基甲基丙烷三丙烯酸酯(18％
‑
22％)、甲基丙烯酸环氧丙酯(3％
‑
7％)、无机纳米氧化锆(8％
‑
15％)、氧化钛(8％
‑
15％)、二氧化硅粒子(3％
‑
8％)、甲基异丁基酮(30％
‑
50％)组合物。
[0027]具体的，PET基材层的厚度可以为23
‑
50μm。HC硬化层具体可以为爱克太尔胶黏剂(广东)有限公司Z
‑
706
‑
P08C型号UV光固化型树脂涂布液，主要作用：为基材提供高硬度的厚度为4
‑
5μm的硬化层。
[0028]进一步的，氧化铌涂层的厚度可以为10
‑
20nm。氧化铌镀层的材质可以为Nb2O5。
[0029]进一步的，氧化硅涂层的厚度为75
‑
100nm。氧化硅镀层的材质可以为SiO2。
[0030]进一步的，防污涂层的厚度可以为15
‑
25nm。防污涂层可以由苏州瑞康真空科技有限公司研发的AF喷涂药液制得，AF喷涂药液的有效成份为一种特殊分子设计的氟硅高聚物。起到防污的作用。
[0031]如图3所示，另一实施方式中，高折射率树脂层和氧化铌涂层之间可以设置有打底层。打底层的厚度为5
‑
10nm。打底层的材质可以为SiO
x
。可以起到增强有机涂层和无机涂层之间的粘结强度的作用。
[0032]一具体实施方式中，本技术的柔性防反射防污膜的制作方法可以为：首先在上PET基材上涂布一层HC硬化层，接着采用湿法涂布的方式在HC硬化层上涂覆一层高折射
率树脂涂层，然后磁控溅射法在高折射率树脂涂层上依次溅射打底层、氧化铌镀层、氧化硅镀层，最后喷涂一层防污涂层，得到，本技术的柔性防反射防污膜。
[0033]通过磁控溅射法依次溅射15nm、100nm左右的氧化铌镀层、氧化硅镀层，再通过喷涂20nm左右防污涂层，最终实现一种防反射、防污的制备。图2所述为改进后的防反射、防污膜结构，在该结构中我们通过增加一层80
‑
100nm左右折射率为1.7～2.0的高折射率树脂涂层。
[0034]下面将结合具体的实施例详细介绍本技术的柔性防反射防污膜。
[0035]实施例1
[0036]柔性防反射防污膜的结构依次为：P本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种柔性防反射防污膜，其特征在于，包括依次层叠设置的PET基材层、HC硬化层、高折射率树脂层、氧化铌镀层、氧化硅镀层以及防污涂层。2.如权利要求1所述的柔性防反射防污膜，其特征在于，所述高折射率树脂层的折射率为1.7
‑
2。3.如权利要求2所述的柔性防反射防污膜，其特征在于，所述高折射率树脂层的厚度为80
‑
100nm。4.如权利要求1所述的柔性防反射防污膜，其特征在于，所述高折射率树脂层和氧化铌涂层之间设置有打底层。5.如权利要求4所述的柔性防反射防污膜，其特征在于，所述打底层的厚度为5
‑
10nm。6.如...

【专利技术属性】
技术研发人员：成桂强，顾豪栋，
申请(专利权)人：江苏日久光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：