一种硅片的传送装置制造方法及图纸

技术编号:36136303 阅读:27 留言:0更新日期:2022-12-28 14:54
本申请公开了一种硅片的传送装置,包括:若干组传送组件,包括传动轮组和套设于传动轮组上的传送带,所述传动轮组中的传动轮周期性地旋转以带动所述传送带周期性地运动;支撑组件,设置在所述传送带传送硅片的表面上并且支撑在硅片的下方,所述支撑组件于所述硅片且两者之间线面接触;通过靠支撑组件与硅片之间线面接触支撑,可以使传送带与硅片分离,有效减少硅片与传送带两者之间因面接触而导致摩擦面积增大所产生的粉尘污染,继而可以提升生产线的良品率。线的良品率。线的良品率。

【技术实现步骤摘要】
一种硅片的传送装置


[0001]本申请涉及硅片制备领域,特别是涉及一种硅片的传送装置。

技术介绍

[0002]光伏行业中,电池片生产使用的设备基本实现了整体自动化,自动化上下料设备与主体设备之间的对接,大部分靠平面皮带对硅片进行传输。
[0003]随着皮带对硅片的传输过程中接触次数的增加,皮带与传动轮摩擦出现污染粉尘,皮带与硅片接触出现粉尘转移,光伏电池片生产过程中由于工艺条件的限制,对洁净度有极其严格的要求,粉尘对硅片的污染极易使电池片出现局部点黑、块黑、低效片等品质异常,且这些异常肉眼不可见,只能通过专用检测仪器测试发现,极大的影响了问题发现解决的时效性,一旦出现问题,就会出现批量的异常电池片,对生产线的良品率带来严重的影响。
[0004]现有技术中往往通过频繁擦拭或更换皮带临时解决此问题,不仅增加了员工擦拭皮带的劳动强度,同时还增加了频繁更换皮带的运行成本。

技术实现思路

[0005]本申请提供一种硅片的传送装置,为解决现有技术中采用平面皮带对硅片进行传输时,皮带与硅片摩擦出现污染粉尘,污染粉尘的出现极易使电池片出现点黑、块黑以及低效片等异常,对生产线的良品率带来严重影响的问题。
[0006]根据一些实施例,本申请提供了一种硅片的传送装置,包括:若干组传送组件,包括传动轮组和套设于传动轮组上的传送带,所述传动轮组中的传动轮周期性地旋转以带动所述传送带周期性地运动;支撑组件,设置在所述传送带传送硅片的表面上并且支撑在硅片的下方,所述支撑组件与所述硅片线面接触。
[0007]可选的,所述支撑组件包括至少两个凸起线型条,至少两个所述凸起线型条沿所述传送带的宽度方向上间隔排布且沿所述传送带的传送方向延伸。
[0008]可选的,所述支撑组件包括若干组凸起线型条组,若干组所述凸起线型条组沿所述传送带的传送方向间隔排布,其中每组所述凸起线型条组包括至少两个凸起线型条,至少两个凸起线型条沿传送带的传送方向间隔排布且沿所述传送带的宽度方向延伸。
[0009]可选的,所述凸起线型条从所述传送带的表面向硅片一侧凸起。
[0010]可选的,所述凸起线型条垂直其延伸方向的横截面为半圆形。
[0011]可选的,所述凸起线型条垂直其延伸方向的横截面为三角形。
[0012]可选的,所述凸起线型条的上表面镀有防滑膜。
[0013]可选的,所述传送带与传动轮接触的表面设置为向所述传动轮凸出的凸结构,所述传动轮与所述传送带接触的表面设置为与所述凸结构相匹配的凹结构。
[0014]可选的,所述凸结构和所述凹结构为彼此贴合的圆弧面。
[0015]本公开的实施例至少具有以下优点:通过改变传送带结构,靠凸起线型条支撑传
输,通过此设计可以使传统传送带与硅片分离,有效减少硅片与传送带的摩擦产生粉尘污染,提升生产线的良品率。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本申请实施例或传统技术中的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0017]图1是本申请实施例中一种硅片的传送装置的结构示意图;
[0018]图2是本申请实施例中一种硅片的传送装置的剖面示意图;
[0019]图3是图2中的A部放大图。
[0020]附图说明:1、传送组件;11、传动轮;12、传送带;2、硅片;3、支撑组件;31、凸起线型条;4、凸结构;5、凹结构。
具体实施方式
[0021]下面结合具体实施方式对本申请作进一步的说明,其中,附图仅用于示例性说明,表示的仅是示意图,而非实物图,不能理解为对本专利的限制;为了更好地说明本申请的实施例,附图某些部件会有省略、放大或缩小,并不代表实际产品的尺寸;对本领域技术人员来说,附图中某些公知结构及其说明可能省略是可以理解的。
[0022]本申请实施例提供一种硅片的传送装置,参照图1所示,包括:若干组传送组件1,传送组件1主要是用于对硅片2进行传输,在本实施例中,需要说明的是,传送组件1包括传动轮组和传送带12,传送带12套设于传动轮组中的传动轮11上,通过传动轮11周期性地旋转以带动传送带12 周期性地运动,从而可以完成硅片2的传输。
[0023]对于传动轮组,可以有多种设置形式,根据实际的生产需求以及场地环境可以作出适应性的选择,而在本实施例中仅以两组并列设置的传动轮组为例进行示意性说明。另外为了描述方便,本实施例中传送带12与传动轮11接触的一面在本实施例中称为反面,传送带12与硅片2接触的一面在本实施例中称为正面,在传送带12的正面上并且支撑在硅片2的下方设置有支撑组件3,支撑组件3能够支撑硅片2随同传送带12一同进行传输,且两者之间线面接触。
[0024]通过改变硅片2与传送带12的接触设计,由传统的传送带12与硅片 2的面面接触通过支撑组件3的支撑传输,可以转化为支撑组件3和硅片 2的线面接触;一方面,靠支撑组件3支撑传输,可以使传统的传送带12 与硅片2分离,在降低硅片2与传送带12接触面积的同时能够有效减少硅片2与传送带12接触产生的粉尘污染;另一方面由于硅片2和传送带12的接触面积减少,能够降低硅片2与传送带12之间的摩擦,从而减少产生粉尘后直接对硅片2产生污染,实现硅片2的洁净传输。
[0025]参照图2、图3所示,在本实施例中,还需要说明的是,支撑组件3 包括凸起线型条31,凸起线型条31至少设置为一对,一对凸起线型条31 沿传送带12的宽度方向上间隔排布,凸起线型条31沿着传送带12的传送方向延伸设置,凸起线型条31凸起于传送带12的表面,从传送带12 的正面向硅片2一侧突出。硅片2在传输的时候,硅片2横跨放置在位于传送
带12正面上的一对凸起线型条31上,通过凸起线型条31对硅片2 进行支撑运输,从而能够使硅片2和传送带12的正面分离,降低硅片2 受到传送带12粉尘污染的可能性。
[0026]在其他实施例中,支撑组件3还可以是包括若干组的凸起线型条组,若干组凸起线型条组沿传送带12的传送方向间隔排布,其中每组凸起线型条组内均包括至少两个凸起线型条31,至少两个凸起线型条31沿传送带12的传送方向间隔排布,凸起线型条31沿传送带12的宽度方向延伸设置。由于凸起线型条31与硅片2之间是线面接触,接触面积有限,因此需要至少通过两个凸起线型条31共同对硅片2进行运输,以此来保证硅片2在运输过程中的稳定性。采用此种方式同样能够通过凸起线型条31 对硅片2进行支撑运输,从而能够使硅片2和传送带12的正面分离。
[0027]在本实施例中,还需要说明的是,由于凸起线型条31支撑硅片2需要能够使两者的接触面尽可能的减少,才能达到降低两者之间因接触面摩擦所产生的粉尘污染。因此,在本实施例中,将凸起线型条31设置为半球状,也即凸起线型条31垂直其延伸方向的横截面为半圆形,凸起线型条3本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅片的传送装置,其特征在于,包括:若干组传送组件(1),包括传动轮组和套设于传动轮组上的传送带(12),所述传动轮组中的传动轮(11)周期性地旋转以带动所述传送带(12)周期性地运动;支撑组件(3),设置在所述传送带(12)传送硅片(2)的表面上并且支撑在硅片(2)的下方,所述支撑组件(3)与所述硅片(2)线面接触;所述支撑组件(3)包括至少两个凸起线型条(31),至少两个所述凸起线型条(31)沿所述传送带(12)的宽度方向上间隔排布且沿所述传送带(12)的传送方向延伸。2.根据权利要求1所述的一种硅片的传送装置,其特征在于,所述支撑组件(3)包括若干组凸起线型条组,若干组所述凸起线型条组沿所述传送带(12)的传送方向间隔排布,其中每组所述凸起线型条组包括至少两个凸起线型条(31),至少两个凸起线型条(31)沿传送带(12)的传送方向间隔排布且沿所述传送带(12)的宽度方向延伸。3.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员:曹玺良李朝张黎静
申请(专利权)人:晶澳太阳能有限公司
类型:新型
国别省市:

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