本发明专利技术公开了一种用于高分子材料实体保持架毛刺去除的处理工艺，包括以下内容：步骤一、按照比例，将研磨粒、清洗剂和水充分混合并搅拌3～5分钟，配成高分子材料实体保持架专用抛光剂；步骤二、将高分子材料实体保持架专用抛光剂和实体保持架放入倾斜式离心光饰机的六角桶容器内，然后开启倾斜式离心光饰机，将六角桶进行离心10～20分钟，对实体保持架进行去毛刺处理。本发明专利技术的有益效果是：通过建立了大规模自动化去除实体保持架毛刺的后处理工艺方案，解决了后处理对实体保持架工作表面损伤的问题，并且实体保持架毛刺去除质量较为稳定，提高了实体保持架各加工面的表面光洁度，解决了传统手动去除实体保持架毛刺效率低下的问题。的问题。
【技术实现步骤摘要】
一种用于高分子材料实体保持架毛刺去除的处理工艺
[0001]本专利技术涉及轴承加工
，具体为一种用于高分子材料实体保持架毛刺去除的处理工艺。
技术介绍
[0002]目前特种领域及医疗器械领域所用高端微型轴承的实体保持架，已逐渐采用各类新型高分子材料。该类材料普遍具有抗压和抗冲击性；较小的线膨胀性和抗蠕变能力；优良的耐热性和耐低温性，且在一定温度以下有着优秀的机械性能和尺寸稳定性；部分高分子材料还具有良好的耐磨性、摩擦系数低、自润滑性等诸多优点。
[0003]实体保持架加工完成后，由于材料特性的影响，其各交接面会留有毛刺且各加工表面光洁度不高。由于材料具有良好的耐磨性、摩擦系数低的特性，国内无大规模自动化去除毛刺的后处理工艺方案，尚只能依靠手工去除，且质量不稳效率低下，更没有提高表面光洁度的可能。如未经处理直接使用在轴承中，运转时会造成毛刺的脱落，严重影响质量与寿命。
[0004]因此，解决高分子材料实体保持架加工后毛刺的去除显得尤为重要。
技术实现思路
[0005]本专利技术的目的在于提供一种用于高分子材料实体保持架毛刺去除的处理工艺，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0006]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种用于高分子材料实体保持架毛刺去除的处理工艺，包括以下内容：
[0007]步骤一、按照比例，将研磨粒、清洗剂和水充分混合并搅拌3～5分钟，配成高分子材料实体保持架专用抛光剂；
[0008]步骤二、将高分子材料实体保持架专用抛光剂和实体保持架放入倾斜式离心光饰机的六角桶容器内，然后开启倾斜式离心光饰机，将六角桶进行离心10～20分钟，对实体保持架进行去毛刺处理；
[0009]步骤三、待毛刺去除完成后，静置1～3小时使六角桶内部温度降至室温；
[0010]步骤四、将六角桶内实体保持架和高分子材料实体保持架专用抛光剂混合物过筛，并用水清洗3～6次，使实体保持架与高分子材料实体保持架专用抛光剂进行分离，并收集高分子材料实体保持架专用抛光剂；
[0011]步骤五、对分离出的实体保持架进行沥干，并检查后处理的去毛刺效果。
[0012]优选的，所述步骤一中高分子材料实体保持架专用抛光剂中各组分按其质量百分比计为：研磨粒15～25份、清洗剂5～15份、水20～30份。
[0013]优选的，所述步骤一中研磨粒的材质为金刚石、刚玉、石榴石、石英或者陶瓷中的一种。
[0014]优选的，所述步骤一中研磨粒的粒径为50～300μm。
[0015]优选的，所述步骤一中清洗剂中各组分按其质量百分比计为：包括磷酸80％～85％、醋酸8～10％、硝酸3％～8％和硝酸铜0.25～0.35％以及用于中和的50克/升碳酸钠水溶液。
[0016]优选的，所述步骤二中实体保持架和高分子材料实体保持架专用抛光剂的比例为1:10～15。
[0017]优选的，所述步骤四中实体保持架和高分子材料实体保持架专用抛光剂混合物过筛时筛网的目数为10～20目。
[0018]优选的，所述步骤四中高分子材料实体保持架专用抛光剂收集后还将其内部的研磨粒收集进行复用。
[0019]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：相对于传统手动实体保持架来说，通过建立了大规模自动化去除实体保持架毛刺的后处理工艺方案，解决了后处理对实体保持架工作表面损伤的问题，并且实体保持架毛刺去除质量较为稳定，提高了实体保持架各加工面的表面光洁度，解决了传统手动去除实体保持架毛刺效率低下的问题。
具体实施方式
[0020]本专利技术提供一种技术方案：一种用于高分子材料实体保持架毛刺去除的处理工艺，包括以下内容：
[0021]步骤一、按照比例，将研磨粒、清洗剂和水充分混合并搅拌3～5分钟，配成高分子材料实体保持架专用抛光剂；
[0022]其中，所述高分子材料实体保持架专用抛光剂中各组分按其质量百分比计为：研磨粒15～25份、清洗剂5～15份、水20～30份；
[0023]所述研磨粒的材质为金刚石、刚玉、石榴石、石英或者陶瓷中的一种；
[0024]所述研磨粒的粒径为50～300μm。
[0025]研磨粒主要用于去除实体保持架各个加工交接面的毛刺及提高各表面光洁度，从概率学上来讲要给予足够贯穿研磨去毛刺次数的时间。
[0026]其中，所述清洗剂中各组分按其质量百分比计为：包括磷酸80％～85％、醋酸8～10％、硝酸3％～8％和硝酸铜0.25～0.35％以及用于中和的50克/升碳酸钠水溶液，清洗剂是为了增加专用抛光剂的粘性和摩擦力，提高研磨球与保持架间的摩擦系数，提升去除毛刺的能力。
[0027]其中，水是为了减少研磨球对保持架的冲击力，降低对其表面尺寸和强度的破坏。
[0028]步骤二、将高分子材料实体保持架专用抛光剂和实体保持架放入倾斜式离心光饰机的六角桶容器内，然后开启倾斜式离心光饰机，将六角桶进行离心10～20分钟，对实体保持架进行去毛刺处理。
[0029]其中，所述实体保持架和高分子材料实体保持架专用抛光剂的比例为1:10～15。
[0030]步骤三、待毛刺去除完成后，静置1～3小时使六角桶内部温度降至室温。
[0031]步骤四、将六角桶内实体保持架和高分子材料实体保持架专用抛光剂混合物过筛，并用水清洗3～6次，使实体保持架与高分子材料实体保持架专用抛光剂进行分离，并收集高分子材料实体保持架专用抛光剂。
[0032]其中，所述实体保持架和高分子材料实体保持架专用抛光剂混合物过筛时筛网的
目数为10～20目。
[0033]进一步的，所述高分子材料实体保持架专用抛光剂收集后还将其内部的研磨粒收集进行复用。
[0034]步骤五、对分离出的实体保持架进行沥干，并检查后处理的去毛刺效果。
[0035]在本实施例中，相对于传统手动实体保持架来说，通过建立了大规模自动化去除实体保持架毛刺的后处理工艺方案，解决了后处理对实体保持架工作表面损伤的问题，并且实体保持架毛刺去除质量较为稳定，提高了实体保持架各加工面的表面光洁度，解决了传统手动去除实体保持架毛刺效率低下的问题。
[0036]实施例1、一种高分子材料实体保持架专用抛光剂，各组分按其质量百分比计为：研磨粒15份、清洗剂5份、水20份。
[0037]材料名研磨粒清洗剂水份数15520
[0038]一种用于高分子材料实体保持架毛刺去除的处理工艺，包括以下内容：
[0039]步骤一、按照比例，将研磨粒、清洗剂和水充分混合并搅拌3分钟，配成高分子材料实体保持架专用抛光剂；
[0040]步骤二、将高分子材料实体保持架专用抛光剂和实体保持架放入倾斜式离心光饰机的六角桶容器内，然后开启倾斜式离心光饰机，将六角桶进行离心10分钟，对实体保持架进行去毛刺处理；
[0041]步骤三、待毛刺去除完成后，静置2小时使六角桶内部温度降至室温；
[0042]步骤四、将六角桶内实体保本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于高分子材料实体保持架毛刺去除的处理工艺，其特征在于，包括以下内容：步骤一、按照比例，将研磨粒、清洗剂和水充分混合并搅拌3～5分钟，配成高分子材料实体保持架专用抛光剂；步骤二、将高分子材料实体保持架专用抛光剂和实体保持架放入倾斜式离心光饰机的六角桶容器内，然后开启倾斜式离心光饰机，将六角桶进行离心10～20分钟，对实体保持架进行去毛刺处理；步骤三、待毛刺去除完成后，静置1～3小时使六角桶内部温度降至室温；步骤四、将六角桶内实体保持架和高分子材料实体保持架专用抛光剂混合物过筛，并用水清洗3～6次，使实体保持架与高分子材料实体保持架专用抛光剂进行分离，并收集高分子材料实体保持架专用抛光剂；步骤五、对分离出的实体保持架进行沥干，并检查后处理的去毛刺效果。2.根据权利要求1所述的一种用于高分子材料实体保持架毛刺去除的处理工艺，其特征在于：所述步骤一中高分子材料实体保持架专用抛光剂中各组分按其质量百分比计为：研磨粒15～25份、清洗剂5～15份、水20～30份。3.根据权利要求1所述的一种用于高分子材料实体保持架毛刺去除的处理工艺，其特征在于：所...
【专利技术属性】
技术研发人员：姚文俊，卞显军，李凯，唐晓峰，郁理中，
申请(专利权)人：上海天虹微型轴承有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。