一种快速光响应自修复聚脲材料及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种快速光响应自修复聚脲，由含偶氮单吡啶结构的聚脲与金属离子按一定比例进行配位得到，所述含偶氮单吡啶结构的聚脲由含偶氮单吡啶结构的胺基衍生物和柔性长链二胺，二异氰酸酯和六亚甲基二异氰酸酯三聚体按一定比例，在四氢呋喃中60℃搅拌反应12h制备。本发明专利技术的聚脲材料中引入了光活性的偶氮单吡啶结构，通过偶氮单吡啶结构与金属离子形成可逆金属配位键，实现了聚脲材料的快速紫外光响应自修复，所得光响应自修复聚脲在365nm的紫外光照射10min和450nm可见光照射10min后，自修复效率接近100％，具有快速的光响应自修复性能。修复性能。修复性能。

【技术实现步骤摘要】
一种快速光响应自修复聚脲材料及其制备方法


[0001]本专利技术涉及自修复材料
，尤其是一种快速光响应自修复聚脲材料及其制备方法。

技术介绍

[0002]高分子材料具有种类多、成本低、质量轻等特点，但在日常生活使用中，难免会出现一些细小裂纹，导致使用性能的降低，加速材料的损坏，缩短其使用寿命，并且可能造成环境污染。自修复材料能够修复使用时产生的细小裂纹，在保证材料的使用性能的同时，可以提高其使用寿命，在一定程度上也能避免环境污染。
[0003]自修复材料分为外援型和本征型两种，外援型自修复是指在材料体系外部使用修复剂来进行自修复过程，如微胶囊、纳米粒子、微脉管、空心纤维等。外援型自修复材料一般修复次数有限，对材料使用寿命有一定的影响。本征型自修复材料由于是在材料内部利用化学键或者特征官能团的作用实现自修复过程，修复次数较外援型有所提高。本征型自修复材料可以在热、湿度、光、磁、pH等刺激作用下发生响应，进行自修复过程。
[0004]光响应自修复材料具有瞬时开关、可远程控制、精确定位的特点，在水下环境和低温环境中仍能实现材料的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种快速光响应自修复聚脲材料，其特征在于，由含偶氮单吡啶结构的聚脲和金属离子配位得到；所述含偶氮单吡啶结构的聚脲由含偶氮单吡啶结构的胺基衍生物、柔性长链二胺、二异氰酸酯和六亚甲基二异氰酸酯三聚体这四种原料聚合得到；所述含偶氮单吡啶结构的胺基衍生物的分子结构式如下：式中，n取值范围2
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10。2.如权利要求1所述的快速光响应自修复聚脲材料，其特征在于，所述聚脲中偶氮单吡啶结构和金属离子的摩尔比例为1：(0.15
‑
0.5)。3.如权利要求1所述的快速光响应自修复聚脲材料，其特征在于，所述含偶氮单吡啶结构的胺基衍生物、柔性长链二胺、二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯三聚体的用量摩尔比为(0.08
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0.4)：1：(0.75
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1.25)：(0.02
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0.15)。4.如权利要求3所述的快速光响应自修复聚脲材料，其特征在于，所述柔性长链二胺为聚硅氧烷二胺、聚醚胺、聚乙二醇二胺中的一种。5.如权利要求3所述的快速光响应自修复聚脲材料，其特征在于，所述二异氰酸酯为六亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、间苯二甲基二异氰酸酯、甲苯
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2,6
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二异氰酸酯中的一种或两种。6.一种如权利要求1
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5任意一项所述的快速光响应自修复聚脲材...

【专利技术属性】
技术研发人员：李辉，刘敬懿，赵春霞，武元鹏，向东，王斌，李振宇，王犁，程金波，龙赐杰，葛轶轩，
申请(专利权)人：西南石油大学，
类型：发明
国别省市：