一种研磨装置制造方法及图纸

本申请公开了一种研磨装置，包括：架体，架体上设有用于放置待加工元件的研磨台；转动机构，转动机构设于架体上；研磨组件，研磨组件包括：研磨盘、连接销和连接杆，研磨盘的一侧具有用于研磨待加工元件的研磨面；连接销延伸方向与连接杆延伸方向垂直，且连接销中部与连接杆的一端固定连接，连接杆的一端与研磨盘的另一侧形成有球面副结构，另一端与转动机构的第一输出端同轴连接；研磨盘内部设有容纳空间，连接销的两端与容纳空间活动配合，用于带动研磨盘绕第一方向转动，第一方向为研磨面的法线方向，第一方向与连接杆延伸方向之间的角度可在0度至设定角度之间变化。该研磨装置对于元件表面的研磨具有更强的适应性。表面的研磨具有更强的适应性。表面的研磨具有更强的适应性。

【技术实现步骤摘要】
一种研磨装置


[0001]本申请一般涉及光学元件精密加工领域，尤其涉及一种研磨装置。

技术介绍

[0002]为保证光学元件的光学性能，需要使用研磨装置对其表面进行研磨。现有的研磨装置中，一般将用于研磨的研磨盘与电机的输出端刚性连接。这样的话当光学元件的待加工面与研磨盘的研磨面之间存在夹角时，用该研磨装置进行研磨，有可能会损坏待加工的光学元件，或造成光学元件研磨的不充分，其光学性能收到较大影响。

技术实现思路

[0003]鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种适应性更强的研磨装置。
[0004]具体技术方案如下：
[0005]本申请提供一种研磨装置，包括：
[0006]架体，所述架体上设有用于放置待加工元件的研磨台；
[0007]转动机构，所述转动机构设于所述架体上；
[0008]研磨组件，所述研磨组件包括：研磨盘、连接销和连接杆，所述研磨盘的一侧具有用于研磨待加工元件的研磨面；所述连接销延伸方向与所述连接杆延伸方向垂直，且所述连接销中部与所述连接杆的一端固定连接，所述连接杆的一端与所述研磨盘的另一侧形成有球面副结构，另一端与所述转动机构的第一输出端同轴连接；所述研磨盘内部设有容纳空间，所述连接销的两端与所述容纳空间活动配合，用于带动所述研磨盘绕第一方向转动，所述第一方向为所述研磨面的法线方向，所述第一方向与所述连接杆延伸方向之间的角度可在0度至设定角度之间变化。
[0009]可选的，还包括第一纵向调节机构，所述第一纵向调节机构包括：
[0010]弹性气囊，所述弹性气囊设于所述连接杆另一端与所述转动机构第一输出端；
[0011]第一调节装置，所述第一调节装置连接于所述弹性气囊，并用于调节所述弹性气囊内气体的体积。
[0012]可选的，还包括第二纵向调节机构，所述第二纵向调节机构包括：
[0013]第一气缸，所述第一气缸的固定端连接于所述架体上，可伸缩端连接于所述转动机构上；
[0014]第二调节装置，所述第二调节装置连接于所述第一气缸，并用于沿第二方向调节其可伸缩端的位置，所述第二方向为所述第一气缸的可伸缩方向。
[0015]可选的，所述第二纵向调节机构还包括第二气缸，所述第二气缸可伸缩的两端铰接于所述架体与所述转动机构之间。
[0016]可选的，还包括：
[0017]压力传感器，所述压力传感器设于所述转动机构第一输出端与所述弹性气囊之间，用于检测待加工元件表面受到的压力值；
[0018]控制模块，所述控制模块的输入端连接于所述压力传感器，输出端连接于所述第一调节装置和所述第二调节装置，当所述压力值小于第一设定值时，所述控制模块控制所述第二调节装置动作，使得所述转动机构靠近待加工元件；当所述压力值大于所述第一设定值且小于第二设定值时，所述控制模块控制所述第一调节装置动作，使得所述转动机构靠近待加工元件；当所述压力值大于所述第二设定值且小于第三设定值时，所述控制模块控制所述第一调节装置动作，使得所述转动机构远离待加工元件；当所述压力值大于所述第三设定值时，所述控制模块控制所述第二调节装置动作，使得所述转动机构远离待加工元件，其中所述第一设定值、所述第二设定值和所述第三设定值依次增大。
[0019]可选的，所述转动机构包括：
[0020]双面电机，所述双面电机包括所述第一输出端和第二输出端；
[0021]电滑环，所述电滑环定子部分连接于电源上，转子部分固定于所述第二输出端，并与所述压力传感器电连接；
[0022]联轴器，所述联轴器设于所述电滑环与所述第二输出端之间。
[0023]本申请有益效果在于：
[0024]本案中所述研磨盘内部设置的所述容纳空间包括用于容纳所述连接销一端的第一容纳空间，和用于容纳所述连接销另一端的第二容纳空间，所述第一容纳空间和所述第二容纳空间均为垂直于所述研磨面的片状空间，这样当所述连接销在所述连接杆的带动下转动的过程中所述连接销的两端一方面可带动所述研磨盘绕所述第一方向转动；另一方面，当所述第一方向与待加工元件表面呈夹角时，所述连接销的两端可在所述片状空间内移动。这样，当把所述研磨盘研磨面移至与待加工元件表面接触时，所述研磨面与待加工元件表面之间即使存在夹角，也可在外加压力的进一步驱动下，很好的贴合在一起。在开动所述转动机构后，上述两个面之间也不会产生夹角。因此本方案提升了研磨装置对待加工元件的适应性。其加工出的光学元件的光学性能更强。
附图说明
[0025]通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
[0026]图1为本申请实施例提供的研磨装置的结构示意图；
[0027]图2为图1中研磨组件的正面剖视图；
[0028]图3为图1中研磨组件的侧面剖视图；
[0029]图中标号：1，架体；31，研磨盘；32，连接销；33，连接杆；4，弹性气囊；51，第一气缸；52，第二气缸；6，压力传感器；21，双面电机；22，电滑环；23，联轴器。
具体实施方式
[0030]下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关专利技术，而非对该专利技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与专利技术相关的部分。
[0031]需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。
[0032]请参考图1、图2和图3，为本实施例提供的一种研磨装置，包括：
[0033]架体1，所述架体1上设有用于放置待加工元件的研磨台；
[0034]转动机构，所述转动机构设于所述架体1上；
[0035]研磨组件，所述研磨组件包括：研磨盘31、连接销32和连接杆33，所述研磨盘31的一侧具有用于研磨待加工元件的研磨面；所述连接销32延伸方向与所述连接杆33延伸方向垂直，且所述连接销32中部与所述连接杆33的一端固定连接，所述连接杆33的一端与所述研磨盘31的另一侧形成有球面副结构，另一端与所述转动机构的第一输出端同轴连接；所述研磨盘31内部设有容纳空间，所述连接销32的两端与所述容纳空间活动配合，用于带动所述研磨盘31绕第一方向转动，所述第一方向为所述研磨面的法线方向，所述第一方向与所述连接杆33延伸方向之间的角度可在0度至设定角度之间变化。
[0036]本案中所述研磨盘31内部设置的所述容纳空间包括用于容纳所述连接销32一端的第一容纳空间，和用于容纳所述连接销32另一端的第二容纳空间，所述第一容纳空间和所述第二容纳空间均为垂直于所述研磨面的片状空间，这样当所述连接销32在所述连接杆33的带动下转动的过程中所述连接销32的两端一方面可带动所述研磨盘31绕所述第一方向转动；另一方面，当所述第一方向与待加工元件表面呈夹角时，所述连接销32的两端可在所述片状空间内移动。这样，当把所述研磨盘31研磨面本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种研磨装置，其特征在于，包括：架体(1)，所述架体(1)上设有用于放置待加工元件的研磨台；转动机构，所述转动机构设于所述架体(1)上；研磨组件，所述研磨组件包括：研磨盘(31)、连接销(32)和连接杆(33)，所述研磨盘(31)的一侧具有用于研磨待加工元件的研磨面；所述连接销(32)延伸方向与所述连接杆(33)延伸方向垂直，且所述连接销(32)中部与所述连接杆(33)的一端固定连接，所述连接杆(33)的一端与所述研磨盘(31)的另一侧形成有球面副结构，另一端与所述转动机构的第一输出端同轴连接；所述研磨盘(31)内部设有容纳空间，所述连接销(32)的两端与所述容纳空间活动配合，用于带动所述研磨盘(31)绕第一方向转动，所述第一方向为所述研磨面的法线方向，所述第一方向与所述连接杆(33)延伸方向之间的角度可在0度至设定角度之间变化。2.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，还包括第一纵向调节机构，所述第一纵向调节机构包括：弹性气囊(4)，所述弹性气囊(4)设于所述连接杆(33)另一端与所述转动机构第一输出端；第一调节装置，所述第一调节装置连接于所述弹性气囊(4)，并用于调节所述弹性气囊(4)内气体的体积。3.根据权利要求2所述的研磨装置，其特征在于，还包括第二纵向调节机构，所述第二纵向调节机构包括：第一气缸(51)，所述第一气缸(51)的固定端连接于所述架体(1)上，可伸缩端连接于所述转动机构上；第二调节装置，所述第二调节装置连接于所述第一气缸(51)，并用于沿第二方向调节其可伸缩端的位置，所述第二方向为所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：王朋，贾亚鹏，张昊，张洪顺，
申请(专利权)人：天津津航技术物理研究所，
类型：发明
国别省市：