显示面板及其制作方法技术

本申请提供一种显示面板及其制作方法，通过在栅极层中设置一位于栅极子层和栅极绝缘层之间的保护层，保护层可以保护栅极绝缘层免受湿刻工艺的影响，且有利于在干刻工艺中减少栅极绝缘层暴露于刻蚀气体氛围的时间，从而减少栅极绝缘层的厚度损失量，本申请实施例中，第二栅极绝缘部的任一位置处厚度均大于第一栅极绝缘部的厚度5/6。栅极绝缘部的厚度5/6。栅极绝缘部的厚度5/6。

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制作方法


[0001]本申请涉及显示
，特别涉及一种显示面板及其制作方法。

技术介绍

[0002]为了满足高分辨率、高频率中尺寸产品的高充电率对低阻抗的需求，通常在制作金属Mo层之前先制备一层底层金属以使形成的金属Mo层的晶体尺寸更大，金属Mo/底层金属双叠层结构作为栅极其阻抗较低，目前，采用两道干刻工艺制作栅极，由于具有叠层结构的栅极的刻蚀时间较长，栅极绝缘层长时间处在蚀刻气体氛围会存在一定的厚度损失，厚度损失量超过20％，栅极绝缘层膜厚的降低，会使阈值电压Vth下降，器件临界导通状态降低，不利于阈值电压间隙增大。
[0003]因此，需要采用合适的工艺制作栅极，降低栅极绝缘层膜厚的损失量。

技术实现思路

[0004]本申请实施例提供一种显示面板及其制作方法，以解决现有栅极制作工艺造成栅极绝缘层膜厚损失量过高的技术问题。
[0005]本申请实施例提供一种显示面板，包括阵列基板，所述阵列基板包括：
[0006]衬底；
[0007]有源层，位于所述衬底上；
[0008]栅极绝缘层，位于所述有源层上，所述栅极绝缘层包括第一栅极绝缘部和与所述第一栅极绝缘部邻接的第二栅极绝缘部；
[0009]栅极层，位于所述栅极绝缘层上，所述栅极层包括栅极子层和保护层，所述保护层位于所述栅极子层和所述栅极绝缘层之间；
[0010]其中，所述第一栅极绝缘部与所述栅极层对应设置，所述第二栅极绝缘部任一位置的厚度大于所述第一栅极绝缘部厚度的5/6。
[0011]在本申请实施例所提供的显示面板中，所述有源层包括有源部、以及与所述有源层邻接的掺杂部，所述栅极层在所述衬底上的投影覆盖所述有源部在所述衬底上的投影，所述第二栅极绝缘部在所述衬底上的投影覆盖所述掺杂部在所述衬底上的投影。
[0012]在本申请实施例所提供的显示面板中，所述掺杂部包括第一掺杂部和第二掺杂部，所述第二掺杂部位于所述第一掺杂部和所述有源部之间；
[0013]所述第二栅极绝缘部包括第一子部和第二子部，所述第二子部位于所述第一栅极绝缘部和所述第一子部之间，所述第一子部在衬底上的投影覆盖所述第一掺杂部在所述衬底上的投影，所述第二子部在衬底上的投影覆盖所述第二掺杂部在所述衬底上的投影，所述第二子部的厚度大于所述第一子部的厚度。
[0014]在本申请实施例所提供的显示面板中，所述保护层的厚度为5nm～50nm。
[0015]在本申请实施例所提供的显示面板中，所述显示面板包括显示区和与所述显示区邻接的非显示区，所述栅极层包括位于所述非显示区的多个测试栅极，相邻两所述测试栅
极之间的间距小于2μm。
[0016]在本申请实施例所提供的显示面板中，所述第一栅极绝缘部的厚度为100～150nm，所述第二栅极绝缘部任一处的厚度均小于所述第一栅极绝缘部的厚度。
[0017]本申请实施例提供一种显示面板的制作方法，包括以下步骤：
[0018]提供一衬底，在所述衬底上形成有源层；
[0019]在所述有源层上形成栅极绝缘层，所述栅极绝缘层包括第一栅极绝缘部和与所述第一栅极绝缘部邻接的第二栅极绝缘部，所述第二栅极绝缘部任一位置的厚度大于所述第一栅极绝缘部厚度的5/6；
[0020]在所述栅极绝缘层上形成栅极层，所述栅极层包括栅极子层和保护层，所述保护层位于所述栅极子层和所述栅极绝缘层之间，所述第一栅极绝缘部与所述栅极层对应设置。
[0021]在本申请实施例所提供的显示面板的制作方法中，所述在所述栅极绝缘层上形成栅极层的步骤还包括：
[0022]在所述栅极绝缘层上依次形成第二栅极材料子层、第一栅极材料子层、以及有机光阻；
[0023]采用湿刻工艺图案化所述第一栅极材料子层形成第一栅极材料层；
[0024]采用第一道干刻工艺图案化所述第二栅极材料子层形成第二栅极材料层；
[0025]采用第二道干刻工艺图案化所述第一栅极材料层和所述第二栅极材料层分别形成所述栅极子层和所述保护层。
[0026]在本申请实施例所提供的显示面板的制作方法中，所述第一道干刻工艺的刻蚀时间小于所述第二道干刻工艺的刻蚀时间。
[0027]在本申请实施例所提供的显示面板的制作方法中，在所述采用第一道干刻工艺图案化所述第二栅极材料子层形成第二栅极材料层的步骤之后还包括：
[0028]对所述有源层进行离子掺杂以形成所述有源层的第一掺杂部。
[0029]本申请的有益效果为：本申请提供一种显示面板及其制作方法，通过在栅极层中设置一位于栅极子层和栅极绝缘层之间的保护层，保护层可以保护栅极绝缘层免受湿刻工艺的影响，且有利于在干刻工艺中减少栅极绝缘层暴露于刻蚀气体氛围的时间，从而减少栅极绝缘层的厚度损失量，本申请实施例中，第二栅极绝缘部的任一位置处厚度均大于第一栅极绝缘部的厚度的5/6。
附图说明
[0030]为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0031]图1为本申请实施例所提供显示面板的俯视结构示意图；
[0032]图2为本申请实施例所提供显示面板的制作方法的流程示意图；
[0033]图3
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图8为本申请实施例所提供显示面板的制作方法的结构示意图。附图说明标注：1
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阵列基板，11
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衬底，12
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遮光层，13
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缓冲层，14
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有源层，15
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栅极绝缘层，16
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所述栅极
层，17
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层间绝缘层，18
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源漏极层，19
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绝缘层，141
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掺杂部，1411
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第一掺杂部，1412
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第二掺杂部，142
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有源部，151
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第一栅极绝缘部，152
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第二栅极绝缘部，1521
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第一子部，1522
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第二子部，161
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保护层，162
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栅极子层，1610
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第一栅极材料子层，1611
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第一栅极材料层，1620
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第二栅极材料子层，1621
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第二栅极材料层，110
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有机光阻，1601
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测试栅极，AA
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显示区，AZ
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非显示区。
具体实施方式
[0034]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一组本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括阵列基板，所述阵列基板包括：衬底；有源层，位于所述衬底上；栅极绝缘层，位于所述有源层上，所述栅极绝缘层包括第一栅极绝缘部和与所述第一栅极绝缘部邻接的第二栅极绝缘部；栅极层，位于所述栅极绝缘层上，所述栅极层包括栅极子层和保护层，所述保护层位于所述栅极子层和所述栅极绝缘层之间；其中，所述第一栅极绝缘部与所述栅极层对应设置，所述第二栅极绝缘部任一位置的厚度大于所述第一栅极绝缘部厚度的5/6。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述有源层包括有源部、以及与所述有源层邻接的掺杂部，所述栅极层在所述衬底上的投影覆盖所述有源部在所述衬底上的投影，所述第二栅极绝缘部在所述衬底上的投影覆盖所述掺杂部在所述衬底上的投影。3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述掺杂部包括第一掺杂部和第二掺杂部，所述第二掺杂部位于所述第一掺杂部和所述有源部之间；所述第二栅极绝缘部包括第一子部和第二子部，所述第二子部位于所述第一栅极绝缘部和所述第一子部之间，所述第一子部在衬底上的投影覆盖所述第一掺杂部在所述衬底上的投影，所述第二子部在衬底上的投影覆盖所述第二掺杂部在所述衬底上的投影，所述第二子部的厚度大于所述第一子部的厚度。4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述保护层的厚度为5nm～50nm。5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括显示区和与所述显示区邻接的非显示区，所述栅极层包括位于所述非显示区的多个测试栅极，相邻两所述测试栅极之间的间距小于2...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴志林，马涛，宋德伟，艾飞，崔珠峰，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：