【技术实现步骤摘要】
应用于柔性基材的复合膜及其制备方法和产品
[0001]本专利技术涉及纳米镀膜
，尤其涉及到应用于柔性基材的复合膜及其制备方法和产品。
技术介绍
[0002]近年来，由于透明塑料有着优异的光学性能，同时兼具密度低、易加工成型、抗冲击性好以及可折叠等优势品质，使其得到了广泛的开发和应用。例如，液晶显示(LCD)装置和有机发光二极管(OLED)装置等显示装置，被广泛应用于智能手机、平板电脑以及各种可穿戴设备等以超薄、轻质化、可折叠以及便捷性为需求的智能电子产品上，虽然其上大范围的柔性触摸屏能够给电子产品的外观和操作便捷性带来了质的飞跃，但为了保护这种柔性触摸屏式显示面板，免于受到外界的刮擦和冲击，就需要在其上附上一层保护盖板。
[0003]目前，一般的显示屏都是使用增硬玻璃作为盖板，但由于玻璃材质本身存在重量较重，受外部冲击易碎，以及无法实现弯曲到一定水平以上的问题，因此高透明的有机高分子材料成为了有较大前景的替代品，而这些透明塑料的耐溶剂性、耐候性较差，硬度低，特别容易因摩擦而产生划痕，极大地制约了其应用领域的进一...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.应用于柔性基材的复合膜，用于形成于柔性基材的表面，其特征在于，其中所述应用于柔性基材的复合膜包括：一纳米过渡层，其中所述纳米过渡层是以硅氧烷单体为反应原料，通过等离子体增强化学气相沉积法在该柔性基材的表面形成的膜层；和一类金刚石膜层，其中所述类金刚石膜层是以碳源气体为反应原料，通过该等离子体增强化学气相沉积法在所述纳米过渡层的表面形成的膜层。2.如权利要求1所述的应用于柔性基材的复合膜，其中，所述纳米过渡层由硅、氧、碳以及氢元素构成。3.如权利要求1所述的应用于柔性基材的复合膜，其中，所述纳米过渡层的厚度为500nm至2000nm。4.如权利要求1所述的应用于柔性基材的复合膜，其中，所述硅氧烷单体为链状硅氧烷化合物或环状硅氧烷化合物。5.如权利要求4所述的应用于柔性基材的复合膜，其中，所述硅氧烷单体具有如下结构：其中，R1到R6中的每个独立地表示C1‑
C6烷基、C2‑
C6烯基或者是氢，其中R1到R6中的至少一个不表示氢。6.如权利要求4所述的应用于柔性基材的复合膜，其中，所述硅氧烷单体具有如下结构：其中，R7到R
10
中的每个独立地表示C1‑
C6烷基、C1‑
C6烷氧基、C2‑
C6烯基或者氢，条件是R7到R
10
中的至少一个不表示氢并且R7到R
10
中至少一个带有氧以形成硅氧键。7.如权利要求4所述的应用于柔性基材的复合膜，其中，所述硅氧烷单体具有如下结构：其中，n表示3、4、5或者6，且R
11
和R
12
中的每个独立地表示C1‑
C6烷基、C2‑
C6烯基或者氢，
条件是R
11
和R
12
中的至少一个不表示氢。8.如权利要求4所述的应用于柔性基材的复合膜，其中，所述硅氧烷单体选自八甲基环四硅氧烷、六甲基环三硅氧烷、四甲基环四硅氧烷、三甲基环三硅氧烷、四甲基四乙烯基环四硅氧烷、十二甲基环六硅氧烷、十甲基环五硅氧烷、二甲基硅氧烷、四乙氧基硅烷、四甲氧基硅烷、烯丙基三甲氧基硅烷、六甲基二硅氧烷、四甲基二硅氧烷以及六乙基二硅氧烷中的一种或者几种。9.如权利要求1至8中任一所述的应用于柔性基材的复合膜，其中，所述类金刚石膜层为含氢无定型碳层，且由碳的sp2和sp3杂合组成，该柔性基材的制备材料选自聚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯以及聚苯乙烯中的一种或多种。10.如权利要求9所述的应用于柔性基材的复合膜，其中，所述碳源气体选自甲烷、丙烷、乙炔以及苯中的一种或多种。11.如权利要求9所述的应用于柔性基材的复合膜，其中，所述类金刚石膜层的厚度为3nm至30nm。12.应用于柔性基材的复合膜的制备方法，其特征在于，包括步骤：通过等离子体增强化学气相沉积法，以硅氧烷单体为反应原料在柔性基材的表面沉积形成一纳米过渡层；和通过该等离子体增强化学气相沉积法，以碳源气体为反应原料在该纳米过渡层的表面沉积形成一类金刚石膜层。13.如权利要求12所述的应用于柔性基材的复合膜的制备方法，其中，所述通过等离子体增强化学气相沉积法，以硅氧烷单体为反应原料在柔性基材的表面沉积形成一纳米过渡层的步骤，包括步骤：在将该柔性基材放置于PECVD装置的反应腔室后，通入等离子源气体，以利用辉光放电产生的等离子体对该柔性基材的表面进行等离子体轰击清洗处理；和在等离子体轰击清洗完毕后，通入惰性气体和所述硅氧烷单体，以通过该等离子体增强化学气相沉积法在该柔性基材的表面沉积形成该纳米过渡层。14.如权利要求13所述的应用于柔性基材...
【专利技术属性】
技术研发人员：宗坚，
申请(专利权)人：江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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