一种用于底板上胶曝光烘干一体化加工设备制造技术

本实用新型专利技术属于半导体加工设备技术领域，具体涉及一种用于底板上胶曝光烘干一体化加工设备。一种用于底板上胶曝光烘干一体化加工设备，包括一机架，机架上设置有：一旋转底座，可绕竖向旋转；一刮刀支架，设置在旋转底座一侧；一刮刀，设置在刮刀支架上，位于旋转底座上方；一喷胶系统，具有胶体喷头，胶体喷头位于旋转底座另一侧上方，胶体喷头的喷射口朝向下方的旋转底座；一UV固化灯组，设置在旋转底座上方，照射面朝向旋转底座。本实用新型专利技术集喷胶、固化、干燥于一体，较有效地减少了本加工步骤的等待时间。本实用新型专利技术操作简单，易于上手，上胶、固化和干燥加工过程自动完成，免除了人工干预造成的磕碰、不规范操作的风险。不规范操作的风险。不规范操作的风险。

【技术实现步骤摘要】
一种用于底板上胶曝光烘干一体化加工设备


[0001]本技术属于半导体加工设备
，具体涉及一种用于底板上胶曝光烘干一体化加工设备。

技术介绍

[0002]在目前的半导体薄板生产加工过程中，最常采用的加工方式是将待加工薄板固定在相应的底板上，由于半导体薄板的物理性质，韧性差硬度高，加工中选择的固定方式常为胶合固定。
[0003]半导体薄板在加工生产过程中对表面要求极高。稍有磕碰即可造成报废，此外，涂胶过程中，人工操作难以做到均匀涂布，而因胶体分布不均造成的任何突起或凹陷，在薄膜的厚度尺度上都是无法接受的，并且会对后续加工造成不必要的麻烦。随着半导体产业的不断发展壮大，人工操作也难以满足日益增长的订单需求。

技术实现思路

[0004]本技术针对上述技术问题，目的在于提供一种用于底板上胶曝光烘干一体化加工设备。
[0005]一种用于底板上胶曝光烘干一体化加工设备，包括一机架，所述机架上设置有：
[0006]一旋转底座，可绕竖向旋转；
[0007]一刮刀支架，设置在所述旋转底座一侧；
[0008]一刮刀，设置在所述刮刀支架上，位于所述旋转底座上方；
[0009]一喷胶系统，具有胶体喷头，所述胶体喷头位于所述旋转底座另一侧上方，所述胶体喷头的喷射口朝向下方的所述旋转底座；
[0010]一UV固化灯组，设置在所述旋转底座上方，照射面朝向所述旋转底座。
[0011]本技术的喷胶系统所使用的胶体为UV胶，由胶体喷头供给。使用时，将产品固定用底板放置在旋转底座上固定好后，调整刮刀姿态，开启喷胶系统，一侧上方的胶体喷头将UV胶喷出的同时，由于旋转底座的旋转，另一侧上方的刮刀将UV胶自动刮匀，底板均匀上胶后，放入产品。之后开启UV固化灯组，对UV胶进行固化，一定时间后取出产品
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底板组合体即可。
[0012]所述刮刀支架采用三点支撑结构，所述刮刀支架的三个支撑点配置有调节螺栓。可以自由调整刮刀姿态，保证胶层平整。
[0013]所述刮刀与所述刮刀支架可拆卸连接。以便于根据不同的涂胶要求更换不同的刮刀或刀具。
[0014]所述喷胶系统还包括：
[0015]一储胶罐，设置在机架上，且位于所述旋转底座侧边；
[0016]一胶泵，经喷胶管分别连接所述储胶罐和所述胶体喷头。
[0017]以使本技术可通过控制胶泵来实现经胶体喷头自动给胶的目的。
[0018]所述胶体喷头连接的喷胶管采用可伸缩管。以使得胶体喷头可伸缩，调节喷射口与旋转底座表面的距离。
[0019]所述UV固化灯组通过万向调节杆连接所述机架。以使可根据需求调节UV固化灯组的位置。
[0020]所述机架上罩设有一密封罩，所述密封罩的至少一侧面与所述机架可拆卸连接；
[0021]所述旋转底座、所述刮刀支架、所述刮刀、所述喷胶系统和所述UV固化灯组均位于所述密封罩内。
[0022]所述密封罩优选采用聚氯乙烯罩。
[0023]所述喷胶系统还包括：
[0024]一控制按钮，连接所述胶泵的控制端，位于所述密封罩外。
[0025]还包括：
[0026]至少一温度计，固定在所述密封罩内；
[0027]至少一湿度计，固定在所述密封罩内；
[0028]一加湿机，控制端分别与所述温度计的信号输出端、所述湿度计的信号输出端连接，加湿出口联通所述密封罩内部；
[0029]一除湿机，控制端分别与所述温度计的信号输出端、所述湿度计的信号输出端连接，除湿进口联通所述密封罩内部。
[0030]本技术可根据温度计和湿度计采集的信号，联动控制加湿机或除湿机工作，使得密封罩内的工作环境达到预设温湿度值。
[0031]还包括：
[0032]一空气洁净系统，其空气交互口联通所述密封罩内部。以进一步保证工作环境的相对恒定，降低涂胶环境的不利影响。
[0033]有益效果：本技术具有：
[0034]1、集喷胶、固化、干燥于一体，较有效地减少了本加工步骤的等待时间。
[0035]2、操作简单，易于上手，上胶、固化和干燥加工过程自动完成，免除了人工干预造成的磕碰、不规范操作的风险。
[0036]3、通过维持恒定的加工环境，标准化加工时间，使得工艺编排及改进更为方便。
附图说明
[0037]图1为本技术的一种结构示意图。
具体实施方式
[0038]为了使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示进一步阐述本技术。
[0039]参照图1，一种用于底板上胶曝光烘干一体化加工设备，包括机架1，旋转底座2、刮刀支架3、刮刀4、喷胶系统5、UV固化灯组6、至少一温度计7、至少一湿度计8、加湿机9、除湿机10和空气洁净系统11。
[0040]机架1上设置有密封罩，密封罩优选采用聚氯乙烯罩。密封罩的至少一侧面与机架1可拆卸连接。旋转底座2、刮刀支架3、刮刀4、喷胶系统5、UV固化灯组6、温度计7和湿度计8
均位于密封罩内。加湿机9、除湿机10和空气洁净系统11可以位于密封罩内，也可以位于密封罩外。当加湿机9、除湿机10和空气洁净系统11位于密封罩外时，其工作口需要与密封罩内部联通，当加湿机9、除湿机10和空气洁净系统11位于密封罩内时，其排气口需要与密封罩外部联通。
[0041]本技术除加湿机9、除湿机10和空气洁净系统11外的其他加工装置均整合在密封罩内，以保证涂胶过程中内部环境的相对恒定。具体的，UV固化灯组6、温度计7、湿度计8固定在密封罩内顶部，可根据密封罩的大小，设置一个或多个温度计7和湿度计8。
[0042]旋转底座2可绕竖向旋转，可通过电机联动驱动底座实现旋转。
[0043]刮刀支架3设置在旋转底座2一侧，刮刀支架3采用三点支撑结构，刮刀支架3的三个支撑点配置有调节螺栓。可以自由调整刮刀4姿态，保证胶层平整，与旋转底座2动作相互配合，可以实现胶体在产品表面的均匀涂布。
[0044]刮刀4设置在刮刀支架3上，刮刀4位于旋转底座2上方。刮刀4与刮刀支架3可拆卸连接。以便于根据不同的涂胶要求更换不同的刮刀4或刀具。
[0045]喷胶系统5具有胶体喷头，胶体喷头位于旋转底座2另一侧上方，胶体喷头的喷射口朝向下方的旋转底座2。胶体喷头连接的喷胶管采用可伸缩管。以使得胶体喷头可伸缩，调节喷射口与旋转底座2表面的距离。喷胶系统5还包括储胶罐和胶泵，储胶罐设置在机架1上且位于旋转底座2侧边。胶泵经喷胶管分别连接储胶罐和胶体喷头。以使本技术可通过控制胶泵来实现经胶体喷头自动给胶的目的。喷胶系统5还包括控制按钮，控制按钮连接胶泵的控制端，控制按钮位于密封罩外，以便方便通过控制按钮控制喷胶工作情况。
[0046]UV固化灯组6设置在旋转底座2上方，UV固化灯组6的照射面朝向旋转底座2。UV固化灯组6通过万向调节杆连接机本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于底板上胶曝光烘干一体化加工设备，包括一机架，其特征在于，所述机架上设置有：一旋转底座，可绕竖向旋转；一刮刀支架，设置在所述旋转底座一侧；一刮刀，设置在所述刮刀支架上，位于所述旋转底座上方；一喷胶系统，具有胶体喷头，所述胶体喷头位于所述旋转底座另一侧上方，所述胶体喷头的喷射口朝向下方的所述旋转底座；一UV固化灯组，设置在所述旋转底座上方，照射面朝向所述旋转底座。2.如权利要求1所述的一种用于底板上胶曝光烘干一体化加工设备，其特征在于，所述刮刀支架采用三点支撑结构，所述刮刀支架的三个支撑点配置有调节螺栓。3.如权利要求1所述的一种用于底板上胶曝光烘干一体化加工设备，其特征在于，所述刮刀与所述刮刀支架可拆卸连接。4.如权利要求1所述的一种用于底板上胶曝光烘干一体化加工设备，其特征在于，所述喷胶系统还包括：一储胶罐，设置在机架上，且位于所述旋转底座侧边；一胶泵，经喷胶管分别连接所述储胶罐和所述胶体喷头。5.如权利要求4所述的一种用于底板上胶曝光烘干一体化加工设备，其特征在于，所述胶体喷头连接的喷胶管采用可伸缩管。6.如权利要求1所述的一种用于底板上胶曝光烘干一体化加...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈佳骅，张俊伟，
申请(专利权)人：上海菲利华石创科技有限公司，
类型：新型
国别省市：