一种减少环境应力对MEMS陀螺仪性能影响的方法技术

本发明专利技术公开了一种减少环境应力对MEMS陀螺仪性能影响的方法，在MEMS敏感结构设计时，采用TSV工艺，实现将MEMS敏感结构的引出端从衬底背面引出；衬底正面的MEMS敏感结构外部设计盖帽；在陀螺仪组装时，在陀螺仪基板上粘接MEMS敏感结构的盖帽。本发明专利技术实现将MEMS敏感结构的引出端从衬底背面引出，这样在组装时，就可以将MEMS敏感结构反过来进行粘接，反过来粘接时，是粘接MEMS敏感结构的盖帽，而盖帽和MEMS敏感结构内部的微机械结构是相对孤立的，当外界环境的变化时，引起的是MEMS敏感结构盖帽的形变，对MEMS敏感结构内部的微机械结构基本不会产生影响，从而实现减少外界应力的变化对MEMS陀螺仪性能影响的目的。对MEMS陀螺仪性能影响的目的。对MEMS陀螺仪性能影响的目的。

【技术实现步骤摘要】
一种减少环境应力对MEMS陀螺仪性能影响的方法


[0001]本专利技术涉及MEMS传感器环境应力防护领域，特别涉及一种减少环境应力对MEMS陀螺仪性能影响的方法。

技术介绍

[0002]MEMS陀螺仪主要是由MEMS敏感结构和专用信号处理电路构成，与普通的半导体电路不同，MEMS敏感结构是具有可动微结构的机械结构，因此当外部环境应力产生变化时，就会引起MEMS敏感结构的变化，从而会影响MEMS陀螺仪的性能。目前主要是通过在MEMS敏感结构上设计一些应力防护装置、组装时选用软度较软的粘接胶并增加粘接胶厚度的方法来减少应力对MEMS陀螺仪性能的影响，陀螺仪精度越高，对应力防护的要求也就越高。随着MEMS陀螺仪在民用和军事上的应用越来越广泛，应用环境也越来越复杂，对MEMS陀螺仪在高温、低温、高压、振动、冲击等环境内使用时的性能要求越来越高，传统的应力防护手段，已无法满足多场景的使用需求。
[0003]在MEMS敏感结构设计时，一般是在一层硅片上设计MEMS敏感结构的内部微机械结构，在另外一层硅片上设计盖帽，最后在真空环境下通过键合的方式将2本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种减少环境应力对MEMS陀螺仪性能影响的方法，其特征在在于，包括：在MEMS敏感结构设计时，采用TSV工艺，实现将MEMS敏感结构的引出端从衬底背面引出；衬底正面的MEMS敏感结构外部设计盖帽；在陀螺仪组装时，在陀螺仪基板上粘接MEMS敏感结构的盖帽。...

【专利技术属性】
技术研发人员：王晓臣，鞠莉娜，周铭，
申请(专利权)人：中国兵器工业集团第二一四研究所苏州研发中心，
类型：发明
国别省市：