【技术实现步骤摘要】
一种纳米氧化锆/铪及金属纳米颗粒的制备方法
[0001]本专利技术涉及纳米材料
,主要涉及一种纳米氧化Zr/Hf及金属纳米颗粒的制备方法。
技术介绍
[0002]目前,制备纳米HfO2与纳米ZrO2的方法主要有水热法、微乳液法、溶胶
‑
凝胶法、共沉淀法、蒸发法、超临界合成法等。但是,这些方法要么需要高温、高压等苛刻的设备与环境要求,要么需要多种反应物并经历多步反应过程,因此,极大的限制了纳米HfO2与纳米ZrO2,及其对应陶瓷材料的低成本制备与广泛应用。
[0003]掺杂金属纳米颗粒对纳米HfO2或纳米ZrO2的功能性应用具有非常重要的影响。目前,对纳米HfO2或纳米ZrO2进行金属纳米颗粒掺杂所经常采用的方法是两步法,即分别在不同的反应体系制备纳米金属氧化物与纳米金属颗粒,然后将两者机械混合。这些制备方法繁琐,涉及较多的反应物,且需要严苛的反应条件。
[0004]虽然纳米金属颗粒的制备方法有很多种,但每种方法都有一定的局限性,尤其难以规模化量产等。因此,开发新的可以规模化生产的纳米金属颗粒的制备方法同样具有重要的意义。
技术实现思路
[0005]基于此,有必要针对上述问题,提供一种低成本且可大规模生产的纳米氧化Zr/Hf的制备方法;所述制备方法的反应物和工艺简单、条件温和,可以通过低纯工业级原料制备高纯纳米氧化Zr/Hf及金属纳米颗粒掺杂的纳米氧化Zr/Hf。
[0006]一种纳米氧化Zr/Hf的制备方法,包括如下步骤:
[0007]步骤一,提 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种纳米氧化Zr/Hf的制备方法,包括如下步骤:步骤一,提供初始合金,所述初始合金包含M、T、A三类元素;其中,M包含Zr、Hf中的至少一种;T包含Al、Zn中的至少一种;A包含O、H、Na、K、Mg、Ca、Li、Si中的至少一种;所述初始合金的相组成主要由M
‑
T金属间化合物组成;步骤二,将所述初始合金与温度为T1、浓度为第一浓度的碱溶液反应,使初始合金溶于所述碱溶液中,得到中间溶液,其中,T1≥75℃;步骤三,将步骤二所述中间溶液的碱浓度降低到第二浓度以下,或将步骤二所述中间溶液的温度降低到T2温度以下,或同时将步骤二所述中间溶液的碱浓度与温度降低到第二浓度以下及T2温度以下,使浓度或(和)温度降低后的中间溶液中析出含M的固态产物;其中第二浓度低于第一浓度,T2温度低于T1温度;步骤四,收集含M的固态产物,即得到主要由纳米氧化Zr/Hf组成的产物。2.根据权利要求1所述的一种纳米氧化Zr/Hf的制备方法,其特征在于,初始合金的元素组成主要为A
x
T
y
M
z
,其中x,y,z为对应各类元素的原子百分比含量,且0<x≤15%,45%≤y<95%,5%≤z<55%。3.根据权利要求1所述的一种纳米氧化Zr/Hf的制备方法,其特征在于,75℃≤T1≤T
f溶液
,其中,T
f溶液
为常压下所述参与反应的碱溶液的沸点温度。4.根据权利要求1所述的一种纳米氧化Zr/Hf的制备方法,其特征在于,所述初始合金与第一浓度的碱溶液反应过程中反应界面以大于5μm/min的平均速率由初始合金表面向内推进。5.根据权利要求1所述的一种纳米氧化Zr/Hf的制备方法,其特征在于,将步骤二所述中间溶液的碱浓度降低的方式包括加溶剂稀释,且稀释溶剂中含有表面活性剂或修饰剂中的至少一种。6.根据权利要求1所述的一种纳米氧化Zr/Hf的制备方法,其特征在于,所述纳米氧化Zr/Hf的粒径大小为1.0nm~150nm。7.根据权利要求1所述的一种纳米氧化Zr/Hf的制备方法,其特征在于,所述纳米氧化Zr/Hf主要为低结晶度的纳米氧化Zr/Hf。8.一种晶态纳米氧化Zr/Hf的制备方法,其特征在于,将权利要求1
‑
7任一项所述制备方法所制备的产物进行热处理,即得到主要由晶态纳米氧化Zr/Hf组成的产物。9.根据权利要求1
‑
8任一项所述制备方法制得的纳米氧化Zr/Hf在包括陶瓷材料、复合材料、高性能电子器件、半导体器件中的应用。10.一种含纳米氧化Zr/Hf的陶瓷材料的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤S1,制备混合均匀的混合粉料,所述混合粉料包括权利要求1
‑
9任一项所述制备方法制备的纳米氧化Zr/Hf与外加粉体;其中,所述纳米氧化Zr/Hf在混合粉料中的摩尔百分比含量为V1,外加粉体在混合粉料中的摩尔百分比含量为V2,且所述外加粉体包含Al2O3、CaO、MgO、SiO2、B2O3、BeO、TiC、SiC中的至少一种;其中,1%≤V1≤100%,0≤V2≤99%;步骤S2,将混合粉料压制成为坯体,经高温焙烧,即制得含纳米氧化Zr/Hf的陶瓷材料。11.一种金属纳米颗粒掺杂的纳米氧化Zr/Hf的制备方法,包括如下步骤:步骤1,提供初始合金,所述初始合金包含M、T、D三类元素;其中,M包含Zr、Hf中的至少一种...
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