一种防散射栅格及成像系统技术方案

本实用新型专利技术提供了一种防散射栅格及成像系统，该防散射栅格包括间隔设置的多个栅格片，所述多个栅格片的延长线汇聚于一个交点；所述多个栅格片包括多个沿第一方向设置的第一栅格片和多个沿第二方向设置的第二栅格片，所述第一方向与所述第二方向之间的夹角大于0

【技术实现步骤摘要】
一种防散射栅格及成像系统


[0001]本技术涉及成像
，具体涉及一种防散射栅格及成像系统。

技术介绍

[0002]在成像过程中，发射射线从射线源射向待成像物体。当使用发射射线来创建待成像物体的图像时，一部分发射射线直接穿过待成像物体并入射至射线接收单元以产生图像；另一部分发射射线在待成像物体处发生散射并生成散射射线以一角度到达射线接收单元，该角度与发射射线的原始路径显著偏离。散射射线入射至射线接收单元会造成伪影，从而降低了图像的对比度。
[0003]现有技术中通过使用防散射栅格来降低散射射线对图像造成的影响。如图1所示，通过防散射栅格1中的栅格片1
’
吸收散射射线，以消除散射射线。
[0004]现有技术中的防散射栅格1存在以下问题：(1)防散射栅格1的栅格片1
’
相互平行，沿发射射线的延伸方向，栅格片1
’
在射线接收单元上的投影会占用射线接收单元的像素区域，导致射线接收单元的可用像素区域减小，进而影响射线接收单元的成像性能；(2)由于相邻栅格片1
’
的遮挡，发射射线无法透过防散射栅格1两端到达射线接收单元，导致防散射栅格对大锥角发射射线的透过效率较低，进而进一步影响射线接收单元的成像性能；(3)仅能实现一维方向的防散射。

技术实现思路

[0005]有鉴于此，有必要提供一种防散射栅格以及成像系统，用以解决现有技术中存在的由于栅格片造成的射线接收单元的可用像素区域减小、防散射栅格对大锥角发射射线的透过效率较低以及无法实现二维方向的防散射，导致射线接收单元的成像性能较差的技术问题。
[0006]一方面，本技术提供了一种防散射栅格，所述防散射栅格包括间隔设置的多个栅格片，所述多个栅格片的延长线汇聚于一个交点；
[0007]所述多个栅格片包括多个沿第一方向设置的第一栅格片和多个沿第二方向设置的第二栅格片，所述第一方向与所述第二方向之间的夹角大于0
°
，且小于或等于90
°
。
[0008]在一些可能的实现方式中，所述多个栅格片中的每一栅格片均包括相对设置的第一侧面和第二侧面，且所述第一侧面和所述第二侧面之间的最小间距大于或等于100微米。
[0009]在一些可能的实现方式中，所述栅格片包括相对设置的顶面和底面，所述顶面和所述底面的两端均分别连接于所述第一侧面和所述第二侧面，所述栅格片包括靠近所述顶面的上栅格片以及靠近所述底面的下栅格片，所述下栅格片至少部分处的所述第一侧面与所述第二侧面之间的间距大于所述上栅格片处的所述第一侧面与所述第二侧面之间的间距。
[0010]在一些可能的实现方式中，所述栅格片的制作材料包括原子序数大于或等于74的第一材料，且所述第一材料的含量大于或等于90％。
[0011]在一些可能的实现方式中，所述第一栅格片的底面中心线与所述第二栅格片的底面中心线之间的夹角为90
°
。
[0012]在一些可能的实现方式中，多个所述第一栅格片沿所述第二方向交错设置，和/或多个所述第二栅格片沿所述第一方向交错设置。
[0013]本技术还提供了一种成像系统，包括射线源、射线接收单元以及防散射栅格；所述射线源用于发出发射射线；所述射线接收单元用于接收所述发射射线；所述防散射栅格设置于所述射线接收单元和所述射线源之间；
[0014]其中，所述防散射栅格为上述任意一个可能的实现方式中所述的防散射栅格。
[0015]在一些可能的实现方式中，每个所述栅格片均沿与所述栅格片对应的发射射线的发射方向布置。
[0016]在一些可能的实现方式中，所述射线接收单元包括多个射线接收子单元以及由所述多个射线接收子单元形成的多个拼接缝隙，沿所述发射射线的发射方向，所述栅格片在所述射线接收单元上的投影与所述栅格片对应的所述拼接缝隙至少部分重合。
[0017]在一些可能的实现方式中，沿所述发射射线的发射方向，所述栅格片在所述射线接收单元上的投影的中心线和与所述栅格片对应的所述拼接缝隙的中心线重合。
[0018]采用上述实施例的有益效果是：本技术提供的防散射栅格，通过设置间隔设置的多个栅格片的延长线汇聚于一个交点，相比于现有技术中的平行间隔设置的多个栅格片，将本技术提供的防散射栅格应用于成像系统中时，提高了发射射线入射至多个栅格片间的间隔的发射射线，大大降低被栅格片遮挡的发射射线，有效保证防散射栅格对大锥角发射射线的接收效率。进一步地，通过设置间隔设置的多个栅格片的延长线汇聚于一个交点，可减小沿发射射线的发射方向，栅格片的投影面积，进而避免将防散射栅格应用至成像系统中时，栅格片的投影占用成像系统中射线接收单元的有效面积，提高其成像性能。
[0019]进一步地，通过设置多个栅格片包括多个沿第一方向设置的第一栅格片和多个沿第二方向设置的第二栅格片，第一方向与第二方向之间的夹角大于0
°
，且小于或等于90
°
，可实现在第一方向和第二方向上的二维防散射，进一步提高防散射栅格的防散射能力。
附图说明
[0020]为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0021]图1为现有技术中的成像系统的一个结构示意图；
[0022]图2为本技术实施例提供的防散射栅格的二维结构示意图；
[0023]图3为本技术实施例提供的防散射栅格的三维结构示意图；
[0024]图4为本技术实施例提供的栅格片的二维结构示意图；
[0025]图5为本技术实施例提供的防散射栅格的另一个三维结构示意图；
[0026]图6为本技术实施例提供的成像系统的结构示意图；
[0027]图7为本技术实施例提供的栅格片冗余性的结构示意图；
[0028]图8为本技术实施例提供的防散射栅格与射线接收单元第一种设置位置的结
构示意图；
[0029]图9为本技术实施例提供的防散射栅格与射线接收单元第二种设置位置的结构示意图；
[0030]图10为本技术实施例提供的防散射栅格的另一个结构示意图。
具体实施方式
[0031]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0032]在本技术实施例的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。“包括”和/或“包含”的含义是指装置、行为、步骤、元件、操作和/或部件的存在，但是并不排除本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种防散射栅格，其特征在于，包括间隔设置的多个栅格片，所述多个栅格片的延长线汇聚于一个交点；所述多个栅格片包括多个沿第一方向设置的第一栅格片和多个沿第二方向设置的第二栅格片，所述第一方向与所述第二方向之间的夹角大于0
°
，且小于或等于90
°
。2.根据权利要求1所述的防散射栅格，其特征在于，所述多个栅格片中的每一栅格片均包括相对设置的第一侧面和第二侧面，且所述第一侧面和所述第二侧面之间的最小间距大于或等于100微米。3.根据权利要求2所述的防散射栅格，其特征在于，所述栅格片包括相对设置的顶面和底面，所述顶面和所述底面的两端均分别连接于所述第一侧面和所述第二侧面，所述栅格片包括靠近所述顶面的上栅格片以及靠近所述底面的下栅格片，所述下栅格片至少部分处的所述第一侧面与所述第二侧面之间的间距大于所述上栅格片处的所述第一侧面与所述第二侧面之间的间距。4.根据权利要求1所述的防散射栅格，其特征在于，所述栅格片的制作材料包括原子序数大于或等于74的第一材料，且所述第一材料的含量大于或等于90％。5.根据权利要求3所述的防散射栅格，其特征在于，所述第一栅格片的底面中心线与所述第二栅格片...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘晓明，邢峣，
申请(专利权)人：武汉联影生命科学仪器有限公司，
类型：新型
国别省市：