快门装置、曝光系统以及光刻机制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种快门装置，包括遮光单元、运动执行单元、转接单元和开设有通光孔的罩壳单元，所述转接单元具有一斜面，所述运动执行单元安装在所述转接单元的斜面上，所述运动执行单元与所述遮光单元连接并带动所述遮光单元运动，当所述运动执行单元在断电时，由于所述运动执行单元重力的作用，安装在所述运动执行单元上的遮光单元可以自动闭合以达到遮住通光孔光路的目的，起到光刻机整机断电自动保护的作用。动保护的作用。动保护的作用。

【技术实现步骤摘要】
快门装置、曝光系统以及光刻机


[0001]本专利技术涉及光刻机
，特别涉及一种快门装置、曝光系统以及光刻机。

技术介绍

[0002]光刻技术是用于在衬底表面上印刷具有特征的构图。经常使用的基片为表面涂有光敏感介质的硅片或玻璃基片。在光刻过程中，基片放在承载台上，通过处在光刻设备内的曝光装置，将特征构图投射到基片表面。
[0003]随着光刻机高产率需求的提升及光刻机光源技术的发展，光刻机所用的光源功率越来越高，如紫外GHI线汞灯已由原来的几百瓦功率提升到上万瓦功率。而光刻机剂量控制模块即快门装置就必须面临着无漏光的问题。
[0004]现有技术中，一种开环控制快门的快门装置采用两个叶片并分别由两个音圈电机驱动，通过调试快门加速时间和减速时间达到控制快门双叶片开闭时间，打开或者关闭时间可达到20ms。但是该快门通光口径为40mm时，该种音圈电机设计出力常数较小，电机线圈需要大量冷却气体进行冷却，同时叶片关闭时，在使用大于2500W的功率光源时重叠叶片处会有严重漏光，影响光刻机曝光质量。
[0005]专利US6188193本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种快门装置，用于曝光系统，其特征在于，包括遮光单元、运动执行单元、转接单元和罩壳单元，所述转接单元具有一斜面，所述运动执行单元安装在所述转接单元的斜面上，所述罩壳单元开设有通光孔，所述运动执行单元与所述遮光单元连接并用于带动所述遮光单元运动，当所述运动执行单元未通电时所述遮光单元遮住所述通光孔。2.如权利要求1所述的快门装置，其特征在于，所述罩壳单元上设置有运动线缆转接柱，所述运动线缆转接柱与水平面呈角度设置。3.如权利要求2所述的快门装置，其特征在于，所述快门装置为线圈运动快门，所述快门装置还包括线圈运动线缆，所述线圈运动线缆的一端连接所述运动线缆转接柱，所述线圈运动线缆的另一端连接所述运动执行单元，所述线圈运动线缆呈U型设置。4.如权利要求2所述的快门装置，其特征在于，所述罩壳单元包括多个金属罩壳，所述多个金属罩壳的表面经过阳极氧化或者微弧氧化工艺处理。5.如权利要求4所述的快门装置，其特征在于，所述遮光单元的前后两侧设置有两个所述金属罩壳，两个所述金属罩壳与所述遮光单元的间隙为0.1mm
‑
1mm。6.如权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：王彦飞，吴翔实，杨松，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：