一种预混酸装置制造方法及图纸

技术编号:35944755 阅读:11 留言:0更新日期:2022-12-14 10:34
本实用新型专利技术提供一种预混酸装置,包括预混酸箱和固设于预混酸箱之上的缓存槽,且缓存槽朝预混酸箱方向延伸出带有第二气动阀的第二导流管,由于缓存槽分为用于存放不易挥发的溶液的第一缓存槽和用于存放易挥发的溶液的第二缓存槽,且缓存槽和预混酸箱内设有与处理器电连接的液位传感器,该液位传感器用于检测缓存槽和预混酸箱内溶液的储存容量,当预混酸箱内混酸溶液的容量小于第一缓存槽和第二缓存槽的溶液导入容量之和,说明存在溶液挥发,则通过处理器控制第二气动阀打开,使得第二缓存槽内的溶液再次流入预混酸箱中,从而达到快速配置混酸溶液的目的。配置混酸溶液的目的。配置混酸溶液的目的。

【技术实现步骤摘要】
一种预混酸装置


[0001]本技术涉及半导体制造的
,特别涉及一种预混酸装置。

技术介绍

[0002]随着科技的发展,社会的智能化程度越来越高,而智能化程度的提升离不开芯片的研发。其中,晶圆是芯片的载体,芯片的制作离不开晶圆,具体的,晶圆的成分是硅,硅是由石英沙所精练出来的,晶圆便是硅元素加以纯化(99.999%),接着是将这些纯硅制成硅晶棒,成为制造集成电路的石英半导体的材料,将其切片就是芯片制作具体所需要的晶圆。晶圆越薄,生产的成本越低,但对工艺就要求的越高。
[0003]当将晶圆切割后,需要对切割后的晶圆进行清洗,目的是将晶圆表面的污染物以及氧化物去除,使得晶圆表面符合清洁度要求,通常在芯片的制造过程中,会采用化学或者物理的方法对晶圆进行清洗,其中,传统的化学方法为将硫酸与双氧水按一定比例混合,得到混酸,再将晶圆浸入混酸中清洗。
[0004]通常情况下,每个晶圆清洗设备都有一个混酸槽,用于混酸溶液的配置,在手动配置过程中,由于双氧水极其容易挥发,导致配比过程需要反复操作,甚至可能出现配比不准确而影响晶圆清洗的情况,耗费大量时间,不利于生产制程。

技术实现思路

[0005]基于此,本技术的目的是提供一种预混酸装置,旨在解决现有技术中,配置混酸溶液耗费大量时间,不利于生产制程的问题。
[0006]根据本技术实施例当中的一种预混酸装置,包括预混酸箱和固设于所述预混酸箱上的缓存槽,所述预混酸箱远离所述预混酸箱的一侧向外延伸出第一导流管,所述第一导流管用于将所述预混酸箱内的溶液导入晶圆清洗槽中,所述缓存槽包括相互独立的第一缓存槽和第二缓存槽,所述第一缓存槽用于存放不易挥发的溶液,所述第二缓存槽用于存放易挥发的溶液,所述缓存槽和所述预混酸箱内设有与处理器电连接的液位传感器,所述液位传感器用于检测所述缓存槽和所述预混酸箱内溶液的储存容量,所述缓存槽朝所述预混酸箱方向延伸出第二导流管,所述第二导流管用于将所述缓存槽内的溶液导入所述预混酸箱中,其中,所述第一导流管和所述第二导流管分别设有第一气动阀和第二气动阀,所述第一气动阀用于对所述预混酸箱内的溶液导入所述晶圆清洗槽中进行控制,所述第二气动阀通过液位信号线与所述液位传感器相连,所述处理器用于接收液位传感器传递的液位信号,并根据所述液位信号控制所述第二气动阀的开启与关闭。
[0007]通过上述预混酸装置中设置的预混酸箱和固设于预混酸箱之上的缓存槽,且缓存槽朝预混酸箱方向延伸出带有第二气动阀的第二导流管,由于缓存槽分为用于存放不易挥发的溶液的第一缓存槽和用于存放易挥发的溶液的第二缓存槽,且缓存槽和预混酸箱内设有与处理器电连接的液位传感器,该液位传感器用于检测缓存槽和预混酸箱内溶液的储存容量,当预混酸箱内混酸溶液的容量小于第一缓存槽和第二缓存槽的溶液导入容量之和,
说明存在溶液挥发,则通过处理器控制第二气动阀打开,使得第二缓存槽内的溶液再次流入预混酸箱中,从而达到快速配置混酸溶液的目的,另外,当混酸溶液配置完成后,打开第一气动阀,将预混酸箱中的溶液通过第一导流管导入晶圆清洗槽内,便于后续工艺的使用。
[0008]进一步的,在所述预混酸箱远离所述晶圆清洗槽的一侧固设有电机,所述电机朝所述晶圆清洗槽方向延伸出连接杆,在远离所述电机的所述连接杆上安设有叶片,所述叶片用于在所述电机的带动下旋转,以对所述预混酸箱内的溶液进行搅拌。
[0009]进一步的,所述预混酸箱上靠近所述缓存槽的一端朝所述晶圆清洗槽的方向延伸出导气管,所述导气管用于当管口浸没在溶液中时,导出惰性气体。
[0010]进一步的,所述预混酸箱远离所述晶圆清洗槽的一侧开设有排气口,所述排气口用于将所述预混酸箱中的酸性气体排出。
[0011]进一步的,所述缓存槽和所述预混酸箱均为透明材料,且在所述缓存槽和所述预混酸箱的侧壁上均设置有度量刻度。
[0012]进一步的,所述预混酸箱还内设有温度传感器,所述温度传感器与所述处理器电连接,所述第一气动阀通过温度信号线与所述温度传感器相连,所述处理器用于接收温度传感器传递的温度信号,并根据所述温度信号控制所述第一气动阀的开启与关闭。
[0013]进一步的,所述预混酸箱远离所述缓存槽的一端固设有称重感应装置,所述称重感应装置与所述处理器电连接,所述称重感应装置用于称取所述预混酸箱中溶液的重量。
[0014]进一步的,所述预混酸箱还内设有冷却盘管,所述冷却盘管用于与所述预混酸箱内的溶液接触,并降温。
[0015]进一步的,所述第一导流管靠近所述预混酸箱的一端设置于所述预混酸箱底部。
[0016]进一步的,所述第二导流管靠近所述缓存槽的一端设置于所述缓存槽底部。
附图说明
[0017]图1为本技术当中的一种预混酸装置的结构示意图。
[0018]如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本技术。
具体实施方式
[0019]为了便于理解本技术,下面将参照相关附图对本技术进行更全面的描述。附图中给出了本技术的若干实施例。但是,本技术可以以许多不同的形式来实现,并不限于本文所描述的实施例。相反地,提供这些实施例的目的是使对本技术的公开内容更加透彻全面。
[0020]需要说明的是,当元件被称为“固设于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。
[0021]除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的,不是旨在于限制本技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
[0022]请参阅图1,为本技术当中的一种预混酸装置的结构示意图,其中,预混酸装置包括预混酸箱1、固设于预混酸箱1之上的缓存槽以及放置于预混酸箱1下方的晶圆清洗槽3。
[0023]具体的,预混酸箱1可以为一圆柱形透明箱体,在预混酸箱1底部向外延伸出第一导流管16,该第一导流管16用于将预混酸箱1内的溶液导入晶圆清洗槽3中,由于第一导流管16的一端设置在预混酸箱1底部,可以不需要通过加压的方式,便可使预混酸箱1内的溶液通过重力导入晶圆清洗槽3中,第一导流管16的另一端可以置于晶圆清洗槽3的槽底或者侧壁,可以防止溶液导入过程中发生溅射,另外,在第一导流管16靠近预混酸箱1的一端安设有第一气动阀17,该第一气动阀17用于当预混酸箱1内的溶液反应完成后,通过手动或者程序控制的方式,打开第一气动阀17,使得预混酸箱1内的溶液导入晶圆清洗槽3中。
[0024]需要说明的是,在预混酸箱1的顶部固设有缓存槽,在本实施例当中,可以通过安装支架4的方式将缓存槽架设于预混酸箱1之上,其本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种预混酸装置,其特征在于,包括预混酸箱和固设于所述预混酸箱上的缓存槽,所述预混酸箱远离所述预混酸箱的一侧向外延伸出第一导流管,所述第一导流管用于将所述预混酸箱内的溶液导入晶圆清洗槽中,所述缓存槽包括相互独立的第一缓存槽和第二缓存槽,所述第一缓存槽用于存放不易挥发的溶液,所述第二缓存槽用于存放易挥发的溶液,所述缓存槽和所述预混酸箱内设有与处理器电连接的液位传感器,所述液位传感器用于检测所述缓存槽和所述预混酸箱内溶液的储存容量,所述缓存槽朝所述预混酸箱方向延伸出第二导流管,所述第二导流管用于将所述缓存槽内的溶液导入所述预混酸箱中,其中,所述第一导流管和所述第二导流管分别设有第一气动阀和第二气动阀,所述第一气动阀用于对所述预混酸箱内的溶液导入所述晶圆清洗槽中进行控制,所述第二气动阀通过液位信号线与所述液位传感器相连,所述处理器用于接收液位传感器传递的液位信号,并根据所述液位信号控制所述第二气动阀的开启与关闭。2.根据权利要求1所述的预混酸装置,其特征在于,在所述预混酸箱远离所述晶圆清洗槽的一侧固设有电机,所述电机朝所述晶圆清洗槽方向延伸出连接杆,在远离所述电机的所述连接杆上安设有叶片,所述叶片用于在所述电机的带动下旋转,以对所述预混酸箱内的溶液进行搅拌。3.根据权利要求1所述的预混酸装置,其特征在于,所述预混酸箱上靠近所述缓存槽的一端朝所述晶圆...

【专利技术属性】
技术研发人员:任想想范绅钺崔思远文国昇
申请(专利权)人:江西兆驰半导体有限公司
类型:新型
国别省市:

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