一种谷物去霉抛光机制造技术

本实用新型专利技术属于谷物去霉抛光技术领域，特别涉及一种谷物去霉抛光机，包括机体、抛光室，抛光轴，沿抛光轴圆周分布的若干个刷体、进料口、出料口、吸风口以及动力机构，所述刷体呈螺旋状分布，以增加谷物在抛光室内的抛光时间，本实用新型专利技术提供一种谷物去霉抛光机，将刷体螺旋状分布，可增加抛光路程，提高抛光工作时间，即增加了谷物在抛光室内的停留时间，从而可在一定程度上提高去霉抛光效果；此外，在抛光室外壁上设置小孔，便于风进入抛光室内，在吸尘系统的作用下，让高速气流把谷物中的杂质和霉菌由小孔筛出，并吸走处理，使谷物更加干净。使谷物更加干净。使谷物更加干净。

【技术实现步骤摘要】
一种谷物去霉抛光机


[0001]本技术属于谷物去霉抛光
，特别涉及一种谷物去霉抛光机。

技术介绍

[0002]谷物去霉抛光机对谷物进行去霉、抛光，以提高其品质，目前谷物去霉抛光机的刷体为直刷体，即其与抛光轴平行设置，其抛光路程较短，即抛光工作时间较短，因此抛光去霉效果有待提高；此外，现有抛光室为封闭室体，吸风除杂只能在抛光室出料口处进行，其吸风除杂效果也有待提高。

技术实现思路

[0003]本技术提供一种谷物去霉抛光机，可以解决
技术介绍
中所指出的问题。
[0004]一种谷物去霉抛光机，包括机体、抛光室，抛光轴，沿抛光轴圆周分布的若干个刷体、进料口、出料口、吸风口以及动力机构，所述刷体呈螺旋状分布，以增加谷物在抛光室内的抛光时间。
[0005]优选的，所述抛光室的圆周壁上开设有若干个小孔。
[0006]优选的，所述抛光轴竖直设置，所述机体上方开设进料口，所述进料口与抛光室连通，所述抛光室下方设有抛光室出料口，所述抛光室出料口下方的机体上开设有出料口。
[0007]优选的，所述抛光轴的上端转动连接在机体上方，其下端转动连接在托板，所述托板通过若干个支撑杆支撑稳定，所述支撑杆连接在机体上。
[0008]有益效果：本技术提供一种谷物去霉抛光机，将刷体螺旋状分布，可增加抛光路程，提高抛光工作时间，即增加了谷物在抛光室内的停留时间，从而可在一定程度上提高去霉抛光效果；此外，在抛光室外壁上设置小孔，便于风进入抛光室内，在吸尘系统的作用下，让高速气流把谷物中的杂质和霉菌由小孔筛出，并吸走处理，使谷物更加干净。
附图说明
[0009]图1为本技术的结构示意图;
[0010]图2为本技术抛光轴的结构示意图;
[0011]附图标记说明：
[0012]图中标号：机体1；抛光室2；小孔21；抛光室出料口22；抛光轴3；刷体4；进料口5；出料口6；吸风口7；托板8；支撑杆9；水平连接杆91；竖向的吊杆92。
具体实施方式
[0013]下面结合附图，对本技术的一个具体实施方式进行详细描述，但应当理解本技术的保护范围并不受具体实施方式的限制。
[0014]实施例1：
[0015]如图1
‑
2所示，一种谷物去霉抛光机，包括机体1、抛光室2，抛光轴3，沿抛光轴3圆
周分布的若干个刷体4、进料口5、出料口6、吸风口7以及动力机构，刷体4包括支撑板以及设置支撑板头端的刷毛，支撑板以焊接或其他固定方式固定在抛光轴3上，刷体3呈螺旋状分布，以增加谷物在抛光室2内的抛光时间，即增加了谷物在抛光室内的停留时间，从而可在一定程度上提高去霉抛光效果；
[0016]抛光室2的圆周壁上开设有若干个小孔21，便于风进入抛光室2内，吸尘系统与吸风口7连接，在吸尘系统的作用下，让高速气流把谷物中的杂质和霉菌由小孔21筛出，并吸走处理，使谷物更加干净。
[0017]具体的，抛光轴3竖直设置，机体1上方开设进料口5，进料口5与抛光室2连通，抛光室2下方设有抛光室出料口22，抛光室出料口22下方的机体1上开设有出料口6，抛光轴3的上端通过轴承转动连接在机体1上方，其下端通过轴承转动连接在托板8，托板8通过若干个支撑杆9支撑稳定，支撑杆9连接在机体1上，支撑杆9包括水平连接杆91和竖向的吊杆92，动力机构包括电机，传动带以及传动轴，传动带可以为皮带传动带。
[0018]以上公开的仅为本技术的几个具体实施例，但是，本技术实施例并非局限于此，任何本领域的技术人员能思之的变化都应落入本技术的保护范围。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种谷物去霉抛光机，包括机体（1）、抛光室（2），抛光轴（3），沿抛光轴（3）圆周分布的若干个刷体（4）、进料口（5）、出料口（6）、吸风口（7）以及动力机构，其特征在于：所述刷体（4）呈螺旋状分布，以增加谷物在抛光室（2）内的抛光时间。2.根据权利要求1所述的一种谷物去霉抛光机，其特征在于：所述抛光室（2）的圆周壁上开设有若干个小孔（21）。3.根据权利要求2所述的一种谷物去霉抛光机，其特征在于：所述抛光轴（3...

【专利技术属性】
技术研发人员：王文章，
申请(专利权)人：王文章，
类型：新型
国别省市：