基于块的胶片颗粒图案的自适应解块技术制造技术

可以通过使用自适应缩小或者自适应解块滤波来实现仿真胶片颗粒块的成块效应减小，以便根据诸如胶片颗粒尺寸、强度和纹理之类的至少一个胶片颗粒块参数来调整块边缘处像素的亮度。通过避免在较小影响区域中修改胶片颗粒块像素，执行所述自适应缩小或者自适应解块滤波可以以较低的计算成本实现改进的性能。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种用于减小至少一个胶片颗粒块的成块效应的方法，包括步骤：　　　　设定至少一个参数，所述参数至少与块中胶片颗粒的特性部分地相关联；以及　　　　根据所述至少一个参数来减小胶片颗粒成块效应。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：克里斯蒂娜戈米拉，吉恩拉什，杰弗里艾伦库珀，
申请(专利权)人：汤姆森许可贸易公司，
类型：发明
国别省市：FR[法国]