一种用于光束强度调控的微纳光阑制造技术

本发明专利技术提供了一种用于光强调控的微纳光阑，所述光阑包括基底层和铬膜层，所述基底层表面刻蚀有若干微纳结构，所述铬膜层设于所述基底层上并置于所述基底层的四周；所述铬膜层所在的区域为挡光区域，所述微纳结构所在的区域为通光区域。本发明专利技术提供的微纳光阑，采用不同的深度相同尺寸像素分布方式，使入射光通光微纳光阑后达到特定的光强分布，提供了一种光束强度调控的方式。束强度调控的方式。束强度调控的方式。

【技术实现步骤摘要】
一种用于光束强度调控的微纳光阑


[0001]本专利技术涉及光通量调制领域，具体涉及一种用于光束强度调控的微纳光阑。

技术介绍

[0002]在光材料处理、医学手术、半导体制造等激光应用领域，激光光束的能量分布不均匀特性限制了其应用，例如，需将高斯光束整形成能量均匀分布的激光束。微纳光阑均化技术具有结构简单、制造成本低，具有很大的工程意义和应用价值，可实现光强理想分布。

技术实现思路

[0003]有鉴于此，本专利技术提供了一种具有光束强度调控能力的微纳光阑，以解决激光光束强度分布的问题。
[0004]为实现上述目的，本专利技术提供了一种用于光强调控的微纳光阑，所述光阑包括基底层和铬膜层，所述基底层表面刻蚀有若干微纳结构，所述铬膜层设于所述基底层上并置于所述基底层的四周；所述铬膜层所在的区域为挡光区域，所述微纳结构所在的区域为通光区域。
[0005]进一步地，所述微纳结构为刻蚀深度不同的间断形式台阶型结构。
[0006]进一步地，所述微纳结构的台阶尺寸≤5μm
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5μm。<br/>[0007]本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于光束强度调控的微纳光阑，其特征在于，所述光阑包括基底层和铬膜层，所述基底层表面刻蚀有若干微纳结构，所述铬膜层设于所述基底层上并置于所述基底层的四周；所述铬膜层所在的区域为挡光区域，所述微纳结构所在的区域为通光区域。2.如权利要求1所述的用于光束强度调控的微纳光阑，其特征在于，所述微纳结构为刻蚀深度不同的间断形式台阶型结构。3.如权利要求2所述的用于光束强度调控的微纳光阑，其特征在于，所述微纳结构的台阶尺寸≤5μm
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5μm。4.如权利要求1所述的用于光束强度调控的微纳光阑，其特征在于，所述微纳结构的深度对应相位为π，7π/8，3π/4，5π/8，...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚明亮，鲁金超，蔡福鑫，
申请(专利权)人：南通智能感知研究院，
类型：发明
国别省市：