环境光遮蔽实现方法和装置、计算机存储介质、电子设备制造方法及图纸

本公开是关于一种环境光遮蔽实现方法和装置、计算机存储介质、电子设备，涉及计算机技术领域，该方法包括：获取目标模型、所述目标模型的包围盒范围，确定所述目标模型的片元相对于所述包围盒范围的相对位置；基于所述片元相对于所述包围盒范围的相对位置，得到所述片元的高度变化范围，将所述片元的高度变化范围输入至遮蔽通道，通过所述遮蔽通道实现对所述目标模型的整体环境光遮蔽；生成所述目标模型的遮蔽贴图，对所述遮蔽贴图进行灰度处理，得到目标遮蔽贴图，通过所述目标遮蔽贴图实现对所述目标模型的细节环境光遮蔽。本公开实现了对目标模型的整体环境光遮蔽效果以及细节环境光遮蔽效果的调节。光遮蔽效果的调节。光遮蔽效果的调节。

【技术实现步骤摘要】
环境光遮蔽实现方法和装置、计算机存储介质、电子设备


[0001]本公开实施例涉及计算机
，具体而言，涉及一种环境光遮蔽实现方法和装置、计算机存储介质以及电子设备。

技术介绍

[0002]随着玩家对游戏中画面要求越来越高，游戏制作已经不能满足于只使用直接光照来绘制游戏中的场景，目前游戏引擎开始在计算直接光照的同时考虑间接光照，进而实现更加逼真的效果。
[0003]相关技术中，游戏引擎主要通过后处理的屏幕空间环境光遮蔽技术来实现画面的立体感，但是后处理的屏幕空间环境光遮蔽技术是基于整个画面的立体感构建的，无法实现对画面中的模型进行遮蔽效果的单独调节，即，无法同时满足角色和场景的遮蔽需求。
[0004]因此，需要提供一种新的环境光遮蔽实现方法。
[0005]需要说明的是，在上述
技术介绍
部分专利技术的信息仅用于加强对本专利技术的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

技术实现思路

[0006]本公开的目的在于提供一种环境光遮蔽实现方法、环境光遮蔽实现装置、计算机可读存储介质以及电子设备，进而至少在一定程度上克服由于相关技术的限制和缺陷而导致的相关技术中无法对画面以及画面中的模型同时调节遮蔽效果的问题。
[0007]根据本公开的一个方面，提供一种环境光遮蔽实现方法，包括：
[0008]获取目标模型、所述目标模型的包围盒范围，确定所述目标模型的片元相对于所述包围盒范围的相对位置；
[0009]基于所述片元相对于所述包围盒范围的相对位置，得到所述片元的高度变化范围，将所述片元的高度变化范围输入至遮蔽通道，通过所述遮蔽通道实现对所述目标模型的整体环境光遮蔽；
[0010]生成所述目标模型的遮蔽贴图，对所述遮蔽贴图进行灰度处理，得到目标遮蔽贴图，通过所述目标遮蔽贴图实现对所述目标模型的细节环境光遮蔽。
[0011]在本公开的一种示例性实施例中，确定所述目标模型的片元相对于所述包围盒范围的相对位置，包括：
[0012]确定所述目标模型的世界坐标，通过所述目标模型的世界坐标，得到所述目标模型的对象空间坐标；
[0013]利用所述目标模型的对象空间坐标除以所述目标模型的包围盒范围，得到所述目标模型的片元相对于所述包围盒的相对位置。
[0014]在本公开的一种示例性实施例中，基于所述片元相对于所述包围盒范围的相对位置，得到所述片元的高度变化范围，包括：
[0015]基于所述片元相对于所述包围盒范围的相对位置，获取所述片元的目标通道的数
据；
[0016]利用所述片元的目标通道的数据，得到所述片元的高度变化范围。
[0017]在本公开的一种示例性实施例中，在将所述片元的高度变化范围输入至遮蔽通道之后，所述环境光遮蔽实现方法还包括：
[0018]获取与所述片元的高度变化范围对应的第一遮蔽参数；
[0019]生成并显示与所述第一遮蔽参数对应的可视的遮蔽强度参数；
[0020]响应针对所述可视的遮蔽强度参数的设置操作，获得第一参数值，其中，所述第一参数值用于对所述目标模型的遮蔽高度进行调整。
[0021]在本公开的一种示例性实施例中，生成所述目标模型的遮蔽贴图，包括：
[0022]将所述目标模型导入至纹理合成器中，通过所述纹理合成器生成所述目标模型的遮蔽贴图。
[0023]在本公开的一种示例性实施例中，对所述遮蔽贴图进行灰度处理，得到目标遮蔽贴图，包括：
[0024]获取所述遮蔽贴图的像素矩阵，对所述遮蔽贴图的像素矩阵进行归一化处理；
[0025]利用对比度算法对所述归一化的像素矩阵进行指数变换；
[0026]对经过指数变换的像素矩阵进行反归一化，将反归一化的像素矩阵确定为目标像素矩阵，通过所述目标像素矩阵得到所述目标遮蔽贴图。
[0027]在本公开的一种示例性实施例中，在得到目标遮蔽贴图之后，所述环境光遮蔽实现方法还包括：
[0028]获取与所述目标像素矩阵对应的第二遮蔽参数，生成并显示与所述第二遮蔽参数对应的细节遮蔽强度参数；
[0029]响应针对所述细节遮蔽强度参数的设置操作，得到第二参数值，其中，所述第二参数值用于对所述目标模型的细节遮蔽强度进行调整。
[0030]根据本公开的一个方面，提供一种环境光遮蔽实现装置，包括：
[0031]相对位置确定模块，用于获取目标模型、所述目标模型的包围盒范围，确定所述目标模型的片元相对于所述包围盒范围的相对位置；
[0032]整体环境光遮蔽实现模块，用于基于所述片元相对于所述包围盒范围的相对位置，得到所述片元的高度变化范围，将所述片元的高度变化范围输入至遮蔽通道，通过所述遮蔽通道实现对所述目标模型的整体环境光遮蔽；
[0033]细节环境光遮蔽实现模块，用于生成所述目标模型的遮蔽贴图，对所述遮蔽贴图进行灰度处理，得到目标遮蔽贴图，通过所述目标遮蔽贴图实现对所述目标模型的细节环境光遮蔽。
[0034]根据本公开的一个方面，提供一种计算机存储介质，其上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现上述任一示例性实施例所述的环境光遮蔽实现方法。
[0035]根据本公开的一个方面，提供一种电子设备，包括：
[0036]处理器；以及
[0037]存储器，用于存储所述处理器的可执行指令；
[0038]其中，所述处理器配置为经由执行所述可执行指令来执行上述任一示例性实施例所述的环境光遮蔽实现方法。
[0039]本公开实施例提供的一种环境光遮蔽实现方法，获取目标模型、目标模型的包围盒范围，确定目标模型的片元相对于包围盒范围的相对位置；基于片元相对于包围盒范围的相对位置，得到片元的高度变化范围，将片元的高度变化范围输入至遮蔽通道，通过遮蔽通道实现对目标模型的整体环境光遮蔽；生成目标模型的遮蔽贴图，对遮蔽贴图进行灰度处理，得到目标遮蔽贴图，通过目标遮蔽贴图实现对所述目标模型的细节环境光遮蔽，一方面，先计算目标模型的片元相对于包围盒范围的相对位置，得到片元的高度变化范围，将片元的高度变化范围输入至遮蔽通道，通过遮蔽通道实现了对目标模型的整体环境光遮蔽效果的调节，解决了相关技术中无法对画面中的模型进行遮蔽效果的单独调节，提高了模型的整体环境光遮蔽效果的实现效率；另一方面，在实现对目标模型的整体环境光遮蔽的效果后，生成目标模型的遮蔽贴图，对该遮蔽贴图进行处理，得到目标遮蔽贴图，通过该目标遮蔽贴图实现目标模型的细节环境光遮蔽的效果，进一步提升了目标模型的立体感。
[0040]应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本专利技术。
附图说明
[0041]此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本专利技术的实施例，并与说明书一起用于解释本专利技术的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种环境光遮蔽实现方法，其特征在于，包括：获取目标模型、所述目标模型的包围盒范围，确定所述目标模型的片元相对于所述包围盒范围的相对位置；基于所述片元相对于所述包围盒范围的相对位置，得到所述片元的高度变化范围，将所述片元的高度变化范围输入至遮蔽通道，通过所述遮蔽通道实现对所述目标模型的整体环境光遮蔽；生成所述目标模型的遮蔽贴图，对所述遮蔽贴图进行灰度处理，得到目标遮蔽贴图，通过所述目标遮蔽贴图实现对所述目标模型的细节环境光遮蔽。2.根据权利要求1所述的环境光遮蔽实现方法，其特征在于，确定所述目标模型的片元相对于所述包围盒范围的相对位置，包括：确定所述目标模型的世界坐标，通过所述目标模型的世界坐标，得到所述目标模型的对象空间坐标；利用所述目标模型的对象空间坐标除以所述目标模型的包围盒范围，得到所述目标模型的片元相对于所述包围盒的相对位置。3.根据权利要求2所述的环境光遮蔽实现方法，其特征在于，基于所述片元相对于所述包围盒范围的相对位置，得到所述片元的高度变化范围，包括：基于所述片元相对于所述包围盒范围的相对位置，获取所述片元的目标通道的数据；利用所述片元的目标通道的数据，得到所述片元的高度变化范围。4.根据权利要求3所述的环境光遮蔽实现方法，其特征在于，在将所述片元的高度变化范围输入至遮蔽通道之后，所述环境光遮蔽实现方法还包括：获取与所述片元的高度变化范围对应的第一遮蔽参数，生成并显示与所述第一遮蔽参数对应的遮蔽强度参数；响应针对所述遮蔽强度参数的设置操作，得到第一参数值，其中，所述第一参数值用于对所述目标模型的遮蔽高度进行调整。5.根据权利要求1所述的环境光遮蔽实现方法，其特征在于，生成所述目标模型的遮蔽贴图，包括：将所述目标模型导入至纹理合成器中，通过所述纹理合成器生成所述目标模型的遮蔽贴图。6.根据权利要求5所述的环境光遮...

【专利技术属性】
技术研发人员：王诗佳，何莲妹，
申请(专利权)人：网易杭州网络有限公司，
类型：发明
国别省市：