一种选冶用自清洗的反应釜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种选冶用自清洗的反应釜，涉及反应釜技术领域，包括反应釜体，反应釜体包括出料口和进料斗，反应釜体上设有对反应釜体内壁进行冲刷的清洗结构，清洗结构包括环形水圈，环形水圈包括一体成型的多个滑动部，多个滑动部沿环形水圈横截面均匀分布，反应釜体侧壁上开设有侧滑槽，清洗结构还包括设置在反应釜体内部的搅拌组件，清洗结构利用一号高压喷头对反应釜体内壁进行全面的冲刷，并利用二号高压喷头的水流反作用力使其能够自上而下的对反应釜体内壁进行冲刷作业，从而避免将反应釜体内壁附着杂物清洗下来，并且在运动时无需使用用电结构，节约能源的同时减少工作人员对用电结构的维修作业。作人员对用电结构的维修作业。作人员对用电结构的维修作业。

【技术实现步骤摘要】
一种选冶用自清洗的反应釜


[0001]本技术涉及反应釜
，具体为一种选冶用自清洗的反应釜。

技术介绍

[0002]反应釜的广义理解即有物理或化学反应的容器，通过对容器的结构设计与参数配置，实现工艺要求的加热、蒸发、冷却及低高速的混配功能。
[0003]根据检索发现，专利号为CN201821127309.7的中国专利公开了一种选冶用自清洗的反应釜，其第一抽水泵将水通过进水管导入内筒内，电动推杆上下往复运动，这时便带动运动块向上运动，运动块上的清洁块上下往复运动时清洁片往复运动便将内筒内侧壁的污浊清除。
[0004]针对上述技术，专利技术人认为，其利用电推杆带动清洁片的移动，从而对内筒侧壁进行清洁工作，其在对反应釜体内壁进行清洁时需要利用水泵和电推杆，其在驱动清洁片移动时，没有进一步借助水的推力带动清洁片的移动，且电推杆的位置处于反应釜体内，其在维修和更换时不足够便利工作人员，且利用清洁片对反应釜体内壁进行清洁，清洁片多次使用够可能对反应釜体侧壁擦洗不彻底，从而没有进一步提高清洗效果。
[0005]针对上述问题，本技术本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种选冶用自清洗的反应釜，包括反应釜体(1)，反应釜体(1)包括出料口(10)和进料斗，其特征在于:所述反应釜体(1)上设有对反应釜体(1)内壁进行冲刷的清洗结构；清洗结构包括环形水圈(7)，环形水圈(7)包括一体成型的多个滑动部(71)，多个滑动部(71)沿环形水圈(7)横截面均匀分布，反应釜体(1)侧壁上开设有侧滑槽(11)，滑动部(71)通过侧滑槽(11)滑动连接反应釜体(1)，环形水圈(7)内部设有供水源流通的环形容水槽，环形水圈(7)固定贯通有接水软管(12)，接水软管(12)上设有供水组件，环形水圈(7)的外圈侧壁上固定贯通有多组一号高压喷头(8)，环形水圈(7)的底壁上固定贯通有多组二号高压喷头(9)，清洗结构还包括设置在反应釜体(1)内部的搅拌组件。2.根据权利要求1所述的一种选冶用自清洗的反应釜，其特征在于：多组所述一号高压喷头(8)在环形水圈(7)外圈侧壁上对应均匀分布，多组一号高压喷头(8)的冲刷面尺寸与反应釜体(1)内壁截面尺寸一致。3....

【专利技术属性】
技术研发人员：国洪柱，
申请(专利权)人：国洪柱，
类型：新型
国别省市：