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本实用新型公开了一种选冶用自清洗的反应釜，涉及反应釜技术领域，包括反应釜体，反应釜体包括出料口和进料斗，反应釜体上设有对反应釜体内壁进行冲刷的清洗结构，清洗结构包括环形水圈，环形水圈包括一体成型的多个滑动部，多个滑动部沿环形水圈横截面均匀分...
该专利属于国洪柱所有，仅供学习研究参考，未经过国洪柱授权不得商用。

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