一种清洁系统的基座及清洁系统技术方案

本申请公开了一种清洁系统的基座，用于可分离地放置清洁系统的地刷组件，地刷组件包括滚刷，基座的上表面向下凹陷形成第一放置区和第二放置区，第一放置区用于容纳滚刷，第二放置区用于容纳除滚刷外的其他地刷组件；第一放置区的外周设置凹槽，凹槽内设置密封件，密封件将第一放置区与上表面的其他部位相分隔。该清洁系统的基座通过在第一放置区的外周设置密封件，使得滚刷完全密封在滚刷壳体和第一放置区之间，阻碍了滚刷自清洁过程中污水从第一放置区飞溅到基座的其他部位或者基座放置处周围的地面。本申请还公开一种包含上述基座的清洁系统。清洁系统。清洁系统。

【技术实现步骤摘要】
一种清洁系统的基座及清洁系统


[0001]本申请涉及清洁系统
，具体是一种清洁系统的基座及清洁系统。

技术介绍

[0002]随着科技的发展，为方便人们的生活，各种可移动的清洁系统进入到人们的生活，清洁系统可对待清洁表面进行清理，在待清洁表面清理完成后，清洁系统需对滚刷本身进行自清理，以防止滚刷发臭，发霉，滋生细菌产生异味，给用户的健康带来风险。但是，现有的基座配合清洁系统使用时，滚刷上的污水会无规则的散落在基座上表面，甚至飞溅到基座放置处的周围地面上，用户后续需要对基座及基座放置处周围的地面进行清洗，增加了用户的工作量。

技术实现思路

[0003]针对现有技术的不足，本技术的目的之一是提供一种清洁系统的基座，该清洁系统的基座在第一放置区的外周设置凹槽，并在凹槽内设置密封件，密封件将第一放置区与上表面的其他部位相分隔，使得滚刷完全密封在滚刷壳体和第一放置区之间，阻碍了滚刷自清洁过程中污水从第一放置区飞溅到基座的其他部位或者基座放置处周围的地面。
[0004]为实现上述目的，本技术所采用的技术手段如下：一种清洁系统的基座，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洁系统的基座，用于可分离地放置所述清洁系统的地刷组件，所述地刷组件包括滚刷，其特征在于：所述基座的上表面向下凹陷形成第一放置区和第二放置区，所述第一放置区用于容纳所述滚刷，所述第二放置区用于容纳除所述滚刷外的其他所述地刷组件；所述第一放置区的外周设置凹槽，所述凹槽内设置密封件，所述密封件将所述第一放置区与所述上表面的其他部位相分隔。2.如权利要求1所述的清洁系统的基座，其特征在于：所述密封件的横截面为T型，所述密封件包括相互垂直的竖板与横板。3.如权利要求2所述的清洁系统的基座，其特征在于：所述竖板位于所述凹槽内，所述横板与所述凹槽旁的所述上表面的其他部位相抵接。4.如权利要求1所述的清洁系统的基座，其特征在于：所述基座内设置有空腔，所述空腔内设置风干组件，所述第一放置区上设置出风口连通所述空腔。5...

【专利技术属性】
技术研发人员：沈洋洋，缪莎莎，
申请(专利权)人：上海姿东国际贸易有限公司，
类型：新型
国别省市：