一种清洁系统的基座及清洁系统技术方案

本申请公开了一种清洁系统的基座，包括基座本体和风干组件，基座本体内设置有空腔，风干组件位于空腔内；基座本体的上表面向下凹陷形成第一放置区和第二放置区，第一放置区用于容纳滚刷且第一放置区上设置出风口连通空腔，第二放置区用于容纳除滚刷外的其他地刷组件；第一放置区上设置若干凸起，且若干凸起的一端插入滚刷内部。该清洁系统的基座通过在第一放置区上设置若干凸起，若干凸起的一端插入滚刷内部，增大滚刷与空气的接触面，使得风干组件产生的风更易进入滚刷内部，从而提高滚刷的风干效果，且加快滚刷的风干速度。本申请还公开一种包含上述基座的清洁系统。一种包含上述基座的清洁系统。一种包含上述基座的清洁系统。

【技术实现步骤摘要】
一种清洁系统的基座及清洁系统


[0001]本申请涉及清洁系统
，具体是一种清洁系统的基座及清洁系统。

技术介绍

[0002]为了清洁的更干净，现有的清洁系统通常需要结合水进行清洁作用，在完成清洁作业后，清洁系统的滚刷上仍会滞留污水，而现有的清洁系统无法在清洁系统完成清洁作业后对滚刷进行快速清洁和风干，导致滚刷发臭，发霉，滋生细菌产生异味，给用户的健康带来风险。

技术实现思路

[0003]针对现有技术的不足，本专利技术的目的之一是提供一种清洁系统的基座，该清洁系统的基座在第一放置区上设置若干凸起，若干凸起的一端插入滚刷内部，增大滚刷与空气的接触面，使得风干组件产生的风得以进入滚刷内部，从而提高滚刷的风干效果，且加快滚刷的风干速度。
[0004]为实现上述目的，本专利技术所采用的技术手段如下：一种清洁系统的基座，用于可分离地放置清洁系统的地刷组件，地刷组件包括滚刷，清洁系统的基座包括基座本体和风干组件，基座本体内设置有空腔，风干组件位于空腔内；基座本体的上表面向下凹陷形成第一放置区和第二放置区，第一放置区用于容纳滚刷且本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洁系统的基座，用于可分离地放置所述清洁系统的地刷组件，所述地刷组件包括滚刷，其特征在于：所述清洁系统的基座包括基座本体和风干组件，所述基座本体内设置有空腔，所述风干组件位于所述空腔内；所述基座本体的上表面向下凹陷形成第一放置区和第二放置区，所述第一放置区用于容纳所述滚刷且所述第一放置区上设置出风口连通所述空腔，所述第二放置区用于容纳除所述滚刷外的其他所述地刷组件；所述第一放置区上设置若干凸起，且若干所述凸起的一端插入所述滚刷内部。2.如权利要求1所述的清洁系统的基座，其特征在于：若干所述凸起沿所述滚刷的轴向设置。3.如权利要求1所述的清洁系统的基座，其特征在于：所述出风口沿所述滚刷的轴向设置。4.如权利要求1所述的清洁系统的基座，其特征在于：若干所述凸起分隔所述出风口。5.如权利要求1所述的清洁系统的基座，其特征在于：在所述第一放置区沿所述滚刷的径向上，所述凸起完全覆盖住所述第一放置区。6.如权利要求1所述的清洁系统的基座，其特征在于：所述第一放置区与所述第二放置区之间设置第一凹槽，所述第一凹槽内设置第一密封件，所述第一密封件将所述第一放置区与所述第二放置区相分隔。7.如权利要求1所述的清洁系统的基座，其特征在于：所...

【专利技术属性】
技术研发人员：沈洋洋，缪莎莎，
申请(专利权)人：上海姿东国际贸易有限公司，
类型：发明
国别省市：