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本申请公开了一种清洁系统的基座，包括基座本体和风干组件，基座本体内设置有空腔，风干组件位于空腔内；基座本体的上表面向下凹陷形成第一放置区和第二放置区，第一放置区用于容纳滚刷且第一放置区上设置出风口连通空腔，第二放置区用于容纳除滚刷外的其他地...
该专利属于上海姿东国际贸易有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海姿东国际贸易有限公司授权不得商用。

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