本实用新型专利技术涉及用于光刻胶中光酸产生剂浸出量测定的装置，所述的装置包括承载盘、软垫片、压盖和输水泵，所述承载盘的上表面设有通水凹槽，所述软垫片设有通水孔，所述通水孔与所述通水凹槽的上表面形状完全相同，所述软垫片置于所述承载盘的上表面，所述通水孔与所述通水凹槽位置重合，所述软垫片的上表面放置晶圆，晶圆涂有光刻胶的一面与所述软垫片贴合，所述承载盘上设有进水口和出水口，所述通水凹槽的两端分别与所述进水口和出水口相通，所述输水泵通过输水管与所述进水口相通，所述晶圆的上端压合所述压盖。所述的装置结构简单，可以给光刻胶中光酸产生剂浸出量的测定带来极大的便利。来极大的便利。来极大的便利。
【技术实现步骤摘要】
用于光刻胶中光酸产生剂浸出量测定的装置
[0001]本技术涉及用于光刻胶中光酸产生剂浸出量测定的装置，属于半导体光刻胶
技术介绍
[0002]浸入式曝光为一种新型的光刻技术并已成为先进曝光技术主流。浸入式曝光通过在曝光机和晶圆表面之间插入液体介质，取代以前的气体介质来提高解析度。然而，水流经光刻胶表面存在了一些问题，主要是由于光刻胶和水之间的物理或化学相互作用。其中最大的一个问题是水可以从光刻胶中提取光酸产生剂分子和碱性添加剂。
[0003]这种从光刻胶中浸出的化学物质对光刻性能产生巨大影响：光酸产生剂的浸出会造成显影后特定缺陷的形成，更严重的是水中所含光酸产生剂和游离酸会损坏曝光机的昂贵光学系统。因此，需要对光酸产生剂的浸出量设置规格，其中ASML将光酸产生剂的浸出量设置为1.6*10
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mol/cm2/s。鉴于以上原因，评估去离子水流经干式光刻胶顶部疏水涂层时，光刻胶中光酸产生剂浸出量是非常重要的。
[0004]通过去离子水流经光刻胶顶部疏水图层后，测定去离子水中的氢离子含量，从而实现光刻胶中光酸产生剂浸出量测定，但是目前对去离子水流经光刻胶顶部疏水图层的处理没有相关合适的设备和方法。
技术实现思路
[0005]本技术针对现有技术存在的不足，提供用于光刻胶中光酸产生剂浸出量测定的装置，所述的装置结构简单，可以给光刻胶中光酸产生剂浸出量的测定带来极大的便利。
[0006]本技术解决上述技术问题的技术方案如下：用于光刻胶中光酸产生剂浸出量测定的装置，所述的装置包括承载盘、软垫片、压盖和输水泵，所述承载盘的上表面设有通水凹槽，所述软垫片设有通水孔，所述通水孔与所述通水凹槽的上表面形状完全相同，所述软垫片置于所述承载盘的上表面，所述通水孔与所述通水凹槽位置重合，所述软垫片的上表面放置晶圆，晶圆涂有光刻胶的一面与所述软垫片贴合，所述承载盘设有进水口和出水口，所述通水凹槽的两端分别与所述进水口和出水口相通，所述输水泵通过输水管与所述进水口相通，所述晶圆的上端压合所述压盖。
[0007]本技术的有益效果是：输水泵启动后，使去离子水通过所述通水凹槽，晶圆与通水孔接触的位置处会接触到去离子水，而晶圆不与通水孔接触的位置则不会接触到去离子水，实验人员可以测定接触到晶圆的去离子水中的氢离子含量，从而确定出晶圆上光刻胶中光酸产生剂浸出情况；而且实验人员可以根据测定需求，通过调整输水泵，实现去离子水流速和流量的控制，通水孔的面积即为晶圆接触去离子水的面积，通过计算通水孔的面积和去离子水的流速，可以确定处单位面积涂布的光刻胶在单位水量下光酸产生剂的浸出情况。所述的装置结构简单，可以给光刻胶中光酸产生剂浸出量的测定带来极大的便利。
[0008]在上述技术方案的基础上，本技术还可以做如下改进：
[0009]进一步的，所述承载盘的上表面设有至少一个通水凹槽，所述软垫片设有至少一个通水孔，所述通水凹槽和所述通水孔的数量相同，所述通水孔与所述通水凹槽的上表面形状及位置完全匹配契合。
[0010]采用上述进一步方案的有益效果是：多个通水凹槽和多个通水孔的设置，便于实验人员对晶圆上不同位置光刻胶涂布的光酸产生剂浸出情况进行同时测定，便于平行实验的设定，提高工作效率。
[0011]进一步的，每个所述通水凹槽均单独连通一套进水口和出水口，每个进水口通过输水管连通单独的输水泵。
[0012]采用上述进一步方案的有益效果是：每个通水凹槽单独连通输水泵，可以使不同的输水泵设定不同的流速，从而便于实验人员在一个晶圆上就可以实现对去离子水不同流速情况的考察，便于对比试验的开展，提高效率，减少晶圆的使用量，降低检测成本。
[0013]进一步的，所述承载盘的上端设有承载槽，所述软垫片和晶圆置于所述承载槽内，所述承载槽的形状与所述软垫片的形状完全相同，所述软垫片的形状与所述晶圆的形状完全相同。
[0014]采用上述进一步方案的有益效果是：承载槽和软垫片的设置，便于晶圆位置的固定，避免通水凹槽中通入去离子水后，晶圆发生转动，而导致最终的检测误差，另外软垫片的设置对晶圆也起到保护作用，避免压盖的压合导致晶圆的破碎。
[0015]进一步的，所述承载盘的上端面设有配合凹台，所述压盖的下端面设有配合凸台，所述配合凸台与所述配合凹台互相契合；
[0016]所述压盖的下端面设有压合台，所述压合台与所述承载槽互相配合，所述压合台置于所述承载槽内将晶圆与所述软垫片之间压紧。
[0017]采用上述进一步方案的有益效果是：承载盘和压盖的结构设置，更利于压盖对晶圆、软垫片和承载盘之间的压合紧密，避免测试过程中，晶圆发生转动，也避免晶圆上没有与通水孔接触的位置被浸润上水分，导致检测结果的误差。
[0018]进一步的，所述压盖与所述承载盘之间设有固定卡扣。
[0019]采用上述进一步方案的有益效果是：固定卡扣的设置，可以进一步确保压盖与承载盘之间的压合紧密。
[0020]进一步的，所述承载盘的内部开设有贯通槽管，所述通水凹槽的两端分别通过所述的贯通槽管连通所述进水口和出水口；连接所述进水口的输水泵为蠕动泵。
[0021]采用上述进一步方案的有益效果是：通水凹槽通过贯通槽管连通进水口和出水口，更利于通水凹槽设置固定的上表面积，从而便于加工，也便于计算，采用蠕动泵更利于流量和流速的控制。
[0022]进一步的，所述出水口通过排水管连通废液收集器，所述排水管和废液收集器的内壁均为耐有机溶剂、耐酸、耐碱材质。
[0023]采用上述进一步方案的有益效果是：流过通水凹槽的去离子水被收集在废液收集器中，工作人员可以直接取废液收集器中的液体进行检测，以测定光刻胶中光酸产生剂的浸出量，而且通过设置废液收集器，也可以有效避免废液排放，利于环保。
[0024]进一步的，所述承载盘、压盖、输水管为耐有机溶剂、耐酸、耐碱材质，承载盘和压盖的材质包括但不限于聚丙烯(PP)和聚四氟乙烯(PFET)；所述的输水管为硅胶材质，所述
的软垫片为硅胶材质。
[0025]采用上述进一步方案的有益效果是：采用耐有机溶剂、耐酸、耐碱材质可以有效避免腐蚀，延长使用寿命。
[0026]本技术还公开了一种用于光刻胶中光酸产生剂浸出量测定的方法，使用本技术所述装置进行光刻胶中光酸产生剂浸出量的测定，所述测定的方法为：
[0027]将晶圆置于软垫片上，晶圆的涂布面与所述软垫片直接接触，将压盖与承载盘配合安装，通过压盖的压合，使承载盘、软垫片、晶圆和压盖之间贴合紧密；
[0028]启动输水泵，去离子水流通所述通水凹槽，通水凹槽和通水孔使去离子水直接接触到晶圆；根据实验检测需求，通过输水泵控制去离子水的流速和流量；
[0029]停止输水泵后，打开压盖，取下晶圆，通过取出水口流出的液体进行检测，以确定光刻胶中光酸产生剂的浸出情况。
[0030]所述用于光刻胶中光酸产生剂浸出量测定的方本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.用于光刻胶中光酸产生剂浸出量测定的装置，其特征在于，所述的装置包括承载盘(1)、软垫片(2)、压盖(3)和输水泵(4)，所述承载盘(1)的上表面设有通水凹槽(5)，所述软垫片(2)设有通水孔(6)，所述通水孔(6)与所述通水凹槽(5)的上表面形状完全相同，所述软垫片(2)置于所述承载盘(1)的上表面，所述通水孔(6)与所述通水凹槽(5)位置重合，所述软垫片(2)的上表面放置晶圆(7)，晶圆(7)涂有光刻胶的一面与所述软垫片(2)贴合，所述承载盘(1)设有进水口(8)和出水口(9)，所述通水凹槽(5)的两端分别与所述进水口(8)和出水口(9)相通，所述输水泵(4)通过输水管(10)与所述进水口(8)相通，所述晶圆(7)的上端压合所述压盖(3)。2.根据权利要求1所述用于光刻胶中光酸产生剂浸出量测定的装置，其特征在于，所述承载盘(1)的上表面设有至少一个通水凹槽(5)，所述软垫片(2)设有至少一个通水孔(6)，所述通水凹槽(5)和所述通水孔(6)的数量相同，所述通水孔(6)与所述通水凹槽(5)的上表面形状及位置完全匹配契合。3.根据权利要求2所述用于光刻胶中光酸产生剂浸出量测定的装置，其特征在于，每个所述通水凹槽(5)均单独连通一套进水口(8)和出水口(9)，每个进水口(8)通过输水管(10)连通单独的输水泵(4)。4.根据权利要求1所述用于光刻胶中光酸产生剂浸出量测定的装置，其特征在于，所述承载盘(1)的上端设有承载槽(11)，所述软垫片(2)和晶圆(7)置于所述承载槽(11)内，所述承载槽...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈帅，刘文昭，付海超，邹广辉，周勇，吴同川，
申请(专利权)人：中节能万润股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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