一种633nm高透过率金属线栅制造技术

本发明专利技术公开了一种633nm高透过率金属线栅，该金属线栅包括保护层、粘接层、金属层和基底，保护层为低折射率光学玻璃，粘接层为光学胶，金属层为周期性结构，基底为普通光学玻璃材料，该金属线栅的线栅周期小于400nm，线栅槽型为矩形，深度0.14～0.2um。本发明专利技术的633nm高透过率金属线栅在633波长，光线0

【技术实现步骤摘要】
一种633nm高透过率金属线栅


[0001]本专利技术涉及光学元件
，具体为一种633nm高透过率金属线栅。

技术介绍

[0002]金属线栅偏振片非常适用于需要高对比度偏振的应用。金属线栅偏振片设计用于传输所需的偏振状态同时又可反射不需要的状态。随着医疗显影、液晶成像、遥感卫星等技术的飞速发展，偏振器、滤波器等功能器件被广泛应用于各个领域，金属线栅偏振片作为众多仪器设备的核心元件，其优良性能也逐步被突显出来，常规的金属线栅属于曝露状态，因此在加工过程和使用过程中需要极易破环栅线使其失去偏振效应；随着应用场景的多方发展，常规的曝露式金属线栅已经不适合在各种极端环境下使用；目前常见的金属线栅其透过效率低于90％，消光比低于30db，在高端使用场景下，其效率和消光比已略显不足。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于提供一种633nm高透过率金属线栅，以解决上述技术问题。
[0004]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种633nm高透过率金属线栅，包括基底以及通过镀膜设置于所述基底上的金属层，所述金属层远离基底的一侧还设有保护层，所述保护层与基底之间填充有粘贴层，所述保护层通过粘贴层粘贴的设置与基底、金属层形成一体；
[0005]所述金属层的周期小于400nm，金属层深度为0.14
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0.2μm，所述金属层材料为金或银。
[0006]优选的，所述的粘接层为光学胶。
[0007]优选的，所述粘贴层材质为光学胶。
[0008]优选的，所述基底与保护层的材质为光学玻璃。
[0009]与现有技术相比，本专利技术的有益效果为：
[0010]金属线栅通过光学胶覆盖有材质为光学玻璃的保护层，金属线栅远离保护层的一侧端面设置基底，可在多种极端环境下使用，且制作时仅需对一层金属层进行刻蚀，刻蚀工艺冗余度高，使金属线栅保持好的偏振效应；金属层深度采用0.14
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0.2μm、且采用金或银材质，其占空比能控制在0.4
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0.6，从而使金属线栅具备更好的透过率与消光比。
附图说明
[0011]为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0012]图1为本专利技术的结构剖视示意图；
[0013]图2为本专利技术实施例的透过率曲线；
[0014]图3为本专利技术实施例的消光比曲线。
[0015]附图中，各标号所代表的部件列表如下：
[0016]1、保护层；2、粘贴层；3、金属层；4、基底。
具体实施方式
[0017]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0018]请参阅图1
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3，本专利技术提供一种技术方案：一种633nm高透过率金属线栅，包括基底4以及通过镀膜设置于基底4上的金属层3，金属层3远离基底4的一侧还设有保护层1，保护层1与基底4之间填充有粘贴层2，保护层1通过粘贴层2粘贴的设置与基底4、金属层3形成一体；金属层3的槽型为矩形。
[0019]金属层3的周期小于400nm，金属层3深度为0.14
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0.2μm，金属层3材料为金或银，金材料与银材料其占空比为0.4
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0.6(占空比是指在一个脉冲循环内，通电时间相对于总时间所占的比例)，需要说明的是：金属周期如图1中b所示，为两组金属层3的布置距离；金属层3深度图1中a所示，为金属层3的深度。通过RCWA公式算法，将金属层3布置周期控制在400nm内，金属层3深度为0.14
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0.2μm，占空比选择0.4
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0.6的金银材料，可使金属线栅具备更高的透过率与消光比，如图2所示，其透过率可高于95％，如图3所示，消光比可高于40db。
[0020]具体的，粘贴层2材质为光学胶，所述保护层1为低折射率光学玻璃，折射率范围在1.4～1.6之间，此光学玻璃材料不会对光进行吸收，避免吸收能量造成金属线栅能量损失，从而提高金属线栅的透光率。
[0021]具体的，基底4与保护层1的材质为光学玻璃，基底4为光学玻璃，折射率范围在1.4～2之间，此光学玻璃材料不会对光进行吸收，避免吸收能量造成金属线栅能量损失，从而提高金属线栅的透光率。
[0022]在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“同轴”、“底部”、“一端”、“顶部”、“中部”、“另一端”、“上”、“一侧”、“顶部”、“内”、“前部”、“中央”、“两端”等指示的方位或位置关系为基于附图的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0023]在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置”、“连接”、“固定”、“旋接”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定，对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0024]尽管已经示出和描述了本专利技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本专利技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行变型，本专利技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种633nm高透过率金属线栅，其特征在于：包括基底(4)以及通过镀膜设置于所述基底(4)上的金属层(3)，所述金属层(3)远离基底(4)的一侧还设有保护层(1)，所述保护层(1)与基底(4)之间填充有粘贴层(2)，所述保护层(1)通过粘贴层(2)粘贴的设置与基底(4)、金属层(3)形成一体；所述金属层(3)的周期小于400nm，金属层(3)深度为0.14
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【专利技术属性】
技术研发人员：方志辉，李广伟，
申请(专利权)人：福建睿创光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：