本实用新型专利技术涉及半导体制造技术领域，公开了一种清洁机构以及清洁装置。清洁机构包括：清洁组件，包括沿第一方向间隔排布的两个清洁头，两个清洁头沿第二方向的同一侧的侧壁上均开设有凹槽，凹槽沿第一方向贯通对应的清洁头；止挡组件，包括止挡件和转动轴，转动轴沿第二方向延伸，转动轴的一端固定连接于凹槽的开槽面上，凹槽沿宽度方向的至少一侧设置转动轴，转动轴穿设于止挡件，止挡件至少遮挡部分凹槽，止挡件能够绕转动轴转动，以调整止挡件遮挡凹槽的面积；驱动组件，能够驱动至少一个清洁头沿第一方向移动。本实用新型专利技术防止清洁带料脱离清洁头，降低邦定区域上的引线损伤的可能性，保证产品合格率，又扩大了适用范围，提高实用性。实用性。实用性。
【技术实现步骤摘要】
清洁机构及清洁装置
[0001]本技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种清洁机构及清洁装置。
技术介绍
[0002]OLED/TFT基板在制造过程中需要通过导电胶条进行屏体点亮、老练测试等性能测试，测试后基板的PIN端(邦定区域)会有胶条等异物残留，在基板进行邦定工艺前需要对基板的邦定区域进行擦拭与清洁，确保邦定区域上不存在残留的异物，保证产品的合格率。
[0003]目前利用清洁装置对基板的邦定区域进行擦拭清洁，清洁装置包括两个竖直方向排布的清洁头，两个清洁头朝向彼此的一端均设置有用于擦拭基板的无尘布。待清洁基板的邦定区域位于两层无尘布之间，两个清洁头能够相互靠近或远离，以压紧或放松位于两个清洁头之间的基板与两层无尘布，再通过机械手带动基板水平移动实现两层无尘布清洁擦拭基板的邦定区域。
[0004]现有技术中，为了保证清洁效果，通常设置有无尘布的放料盘和收料盘，放料盘向清洁头提供带状的无尘布，收料盘用于收卷擦拭过基板的无尘布。由于无尘布是移动的，与清洁头之间不固定，在清洁装置运行时易发生无尘布脱离清洁头的情况，不能保证清洁擦拭的效果，邦定区域上残留异物的可能性较大，而且清洁头直接与邦定区域接触易导致邦定区域上的引线被划伤，降低了产品的合格率。
[0005]基于此，亟需一种清洁机构及清洁装置用来解决如上提到的问题。
技术实现思路
[0006]本技术的一个目的在于提供一种清洁机构，以防止清洁带料脱离清洁头，保证清洁机构的清洁作用，也降低邦定区域上的引线损伤的可能性，保证产品合格率，又扩大了适用范围，提高实用性。
[0007]本技术的另一个目的在于提供一种清洁装置，以防止清洁带料脱离清洁头，保证清洁装置的清洁作用，也降低邦定区域上的引线损伤的可能性，保证产品合格率，又扩大了适用范围，提高实用性。
[0008]为达此目的，本技术采用以下技术方案：
[0009]清洁机构，包括：
[0010]清洁组件，包括沿第一方向间隔排布的两个清洁头，两个所述清洁头沿第二方向的同一侧的侧壁上均开设有凹槽，两个所述凹槽沿所述第一方向正对设置且分别沿所述第一方向贯通对应的所述清洁头；
[0011]止挡组件，包括止挡件和转动轴，所述转动轴沿所述第二方向延伸，所述转动轴的一端固定连接于所述凹槽的开槽面上，所述凹槽沿宽度方向的至少一侧设置所述转动轴，所述转动轴穿设于所述止挡件，所述止挡件至少遮挡部分所述凹槽，所述止挡件能够绕所述转动轴转动，以调整所述止挡件遮挡所述凹槽的面积，所述第一方向与所述第二方向垂直设置；
[0012]驱动组件，能够驱动至少一个所述清洁头沿所述第一方向移动，以使两个所述清洁头相互靠近或远离。
[0013]作为清洁机构的可选技术方案，所述止挡组件还包括限位件，所述止挡件沿第三方向的侧壁上开设有限位槽，所述限位槽靠近所述转动轴一侧的侧壁为弧形壁，所述弧形壁的轴线与所述转动轴的轴线共线设置，所述限位件沿所述第二方向延伸，所述限位件的一端固定连接于所述开槽面，所述限位件置于所述限位槽内并能够沿所述弧形壁相对所述止挡件滑动，所述第一方向、所述第二方向以及所述第三方向两两相互垂直。
[0014]作为清洁机构的可选技术方案，两个所述清洁头朝向彼此的端面均包括清洁平面和避让斜面，所述清洁平面垂直于所述第一方向，所述清洁平面与所述凹槽正对设置，所述清洁平面沿第三方向的两侧均连接有所述避让斜面，所述避让斜面远离所述清洁平面的一端朝向远离另一个所述清洁头的方向倾斜，所述第一方向、所述第二方向以及所述第三方向两两相互垂直。
[0015]作为清洁机构的可选技术方案，所述清洁机构还包括支撑件，至少一个所述清洁头沿所述第二方向远离所述凹槽的一侧设置有所述支撑件，所述支撑件朝向另一所述清洁头的面上开设有承托槽，所述承托槽沿所述第二方向贯通所述支撑件，所述承托槽的槽底面与所述清洁平面沿所述第二方向排布且共面设置。
[0016]作为清洁机构的可选技术方案，所述清洁平面上凸出设置有凸棱。
[0017]作为清洁机构的可选技术方案，所述凸棱沿所述第二方向延伸；和/或，所述凸棱间隔设置有多个。
[0018]作为清洁机构的可选技术方案，设定其中一个所述清洁头为第一清洁头；
[0019]所述驱动组件包括驱动气缸，所述驱动气缸的输出端连接于所述第一清洁头且能够沿所述第一方向移动，所述驱动气缸的活塞将所述驱动气缸的缸体内腔分隔为第一腔室与第二腔室，所述缸体上设置有两个进气接头，两个所述进气接头分别与所述第一腔室与所述第二腔室缸体连通，每个所述进气接头均通过管路与一个调压阀连接。
[0020]作为清洁机构的可选技术方案，设定另一个所述清洁头为第二清洁头；
[0021]所述驱动组件包括调节件，所述调节件连接于所述第二清洁头，所述调节件为微分头，所述微分头能够沿所述第一方向调节所述第二清洁头的位置。
[0022]作为清洁机构的可选技术方案，所述驱动组件包括导轨和滑块，所述导轨沿所述第一方向延伸，所述导轨上滑动设置有两个所述滑块，两个所述滑块分别对应连接于两个所述清洁头。
[0023]清洁装置，包括供带组件以及如上所述的清洁机构，所述供带组件设置有两组，每组所述供带组件均包括供带料盘和收带料盘，所述供带料盘能够供给清洁带料，所述收带料盘能够收卷来自对应的所述供带料盘的所述清洁带料，来自两个所述供带料盘的所述清洁带料分别对应经过两个所述清洁头的所述凹槽。
[0024]本技术的有益效果：
[0025]本技术提供的清洁机构，其包括清洁组件、止挡组件和驱动组件。凹槽能够对清洁带料起到限位作用，防止清洁带料脱离清洁头，两个清洁头相互靠近并压紧待清洁基板的邦定区域后，保证了清洁带料能够起到擦拭清洁待清洁基板的邦定区域的作用，防止异物残留在邦定区域上，从而保证了清洁机构的清洁作用；止挡件能够进一步限制清洁带
料的位置，防止清洁带料脱离凹槽，保证清洁机构的清洁作用，也避免了清洁头直接与待清洁基板的邦定区域接触，降低了邦定区域上的引线损伤的可能性，保证了产品合格率；此外，止挡件能够绕转动轴转动，以调整止挡件遮挡凹槽的面积，使得止挡件能够止挡不同宽度的清洁带料，防止因清洁带料的宽度较小而从凹槽中脱离，使得清洁组件能够适用于不同宽度的清洁带料，扩大了适用范围，提高了实用性。
[0026]本技术提供的清洁装置，其包括供带组件以及上述清洁机构。清洁机构能够降低清洁带料脱离清洁头的可能性，保证了清洁带料能够起到擦拭清洁待清洁基板的邦定区域的作用，防止异物残留在邦定区域上，从而保证了清洁效果，也避免了清洁头直接与待清洁基板的邦定区域接触，降低了邦定区域上的引线损伤的可能性，保证了产品合格率，此外，清洁组件能够适用于不同宽度的清洁带料，扩大了适用范围，提高了实用性。
附图说明
[0027]图1是本技术实施例提供的清洁机构的结构示意图；
[0028]图2是图1中A处的局部放大图；
本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.清洁机构，其特征在于，包括：清洁组件(1)，包括沿第一方向间隔排布的两个清洁头(11)，两个所述清洁头(11)沿第二方向的同一侧的侧壁上均开设有凹槽(12)，两个所述凹槽(12)沿所述第一方向正对设置且分别沿所述第一方向贯通对应的所述清洁头(11)；止挡组件(2)，包括止挡件(21)和转动轴(22)，所述转动轴(22)沿所述第二方向延伸，所述转动轴(22)的一端固定连接于所述凹槽(12)的开槽面上，所述凹槽(12)沿宽度方向的至少一侧设置所述转动轴(22)，所述转动轴(22)穿设于所述止挡件(21)，所述止挡件(21)至少遮挡部分所述凹槽(12)，所述止挡件(21)能够绕所述转动轴(22)转动，以调整所述止挡件(21)遮挡所述凹槽(12)的面积，所述第一方向与所述第二方向垂直设置；驱动组件(3)，能够驱动至少一个所述清洁头(11)沿所述第一方向移动，以使两个所述清洁头(11)相互靠近或远离。2.根据权利要求1所述的清洁机构，其特征在于，所述止挡组件(2)还包括限位件(23)，所述止挡件(21)沿第三方向的侧壁上开设有限位槽(211)，所述限位槽(211)靠近所述转动轴(22)一侧的侧壁为弧形壁(2111)，所述弧形壁(2111)的轴线与所述转动轴(22)的轴线共线设置，所述限位件(23)沿所述第二方向延伸，所述限位件(23)的一端固定连接于所述开槽面，所述限位件(23)置于所述限位槽(211)内并能够沿所述弧形壁(2111)相对所述止挡件(21)滑动，所述第一方向、所述第二方向以及所述第三方向两两相互垂直。3.根据权利要求1所述的清洁机构，其特征在于，两个所述清洁头(11)朝向彼此的端面均包括清洁平面(111)和避让斜面(112)，所述清洁平面(111)垂直于所述第一方向，所述清洁平面(111)与所述凹槽(12)正对设置，所述清洁平面(111)沿第三方向的两侧均连接有所述避让斜面(112)，所述避让斜面(112)远离所述清洁平面(111)的一端朝向远离另一个所述清洁头(11)的方向倾斜，所述第一方向、所述第二方向以及所述第三方向两两相互垂直。4.根据权利要求3所述的清洁机构，其特征在于，所述清洁机构还包括支撑件(4)，至少一个所述清洁头(11)沿所述第二方向远离所述凹槽(12)的一侧...
【专利技术属性】
技术研发人员：屈鹏鹏，李勇，王太访，
申请(专利权)人：苏州清越光电科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。