一种除铜剂调制均布器制造技术

本实用新型专利技术涉及除铜技术领域，且公开了一种除铜剂调制均布器，包括主体机构、降温冷却机构、调制机构和便清洗机构，所述降温冷却机构位于主体机构的右侧，所述调制机构位于主体机构的上方，所述便清洗机构位于主体机构的外端，所述主体机构包括均布器本体、支撑脚、出料口、连接管和连接出口，所述支撑脚固定安装在均布器本体的下端，所述出料口固定设置在均布器本体的下端，所述连接管固定安装在均布器本体的左端，所述连接出口固定安装在连接管的左端，所述连接出口位于均布器本体的内部。该除铜剂调制均布器，可避免除铜剂与空气接触时产生高温自燃现象的发生，避免除铜剂在调配制造时因摩擦产生大量的热量导致除铜剂自燃。时因摩擦产生大量的热量导致除铜剂自燃。时因摩擦产生大量的热量导致除铜剂自燃。

【技术实现步骤摘要】
一种除铜剂调制均布器


[0001]本技术涉及除铜
，具体为一种除铜剂调制均布器。

技术介绍

[0002]除铜剂用作于铜废水的净化，消除铜废水内的铜离子，避免含有大量重金属的废水流入河流与土地，因重金属会对环境造成极大的污染，还会对人体造成危害，现有的除铜剂调制均布器，在使用时会与空气进行接触，除铜剂因其特殊的化学构成，除铜剂与空气接触会增加其自身的温度，而除铜剂的燃点又较低，很容易在调制过程中发生自燃现象，导致企业的损失。

技术实现思路

[0003](一)解决的技术问题
[0004]本技术的目的在于提供一种除铜剂调制均布器，以解决上述
技术介绍
中提出现有的除铜剂调制均布器，在使用时会与空气进行接触，除铜剂因其特殊的化学构成，除铜剂与空气接触会增加其自身的温度，而除铜剂的燃点又较低，很容易在调制过程中发生自燃现象，导致企业的损失的问题。
[0005](二)技术方案
[0006]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种除铜剂调制均布器，包括主体机构、降温冷却机构、调制机构和便清洗机构，所述降温冷却机构位于主体机构的右侧，所述调制机构位于主体机构的上方，所述便清洗机构位于主体机构的外端，所述主体机构包括均布器本体、支撑脚、出料口、连接管和连接出口，所述支撑脚固定安装在均布器本体的下端，所述出料口固定设置在均布器本体的下端，所述连接管固定安装在均布器本体的左端，所述连接出口固定安装在连接管的左端，所述连接出口位于均布器本体的内部，所述降温冷却机构包括冷却箱、固定脚、进料口、换气窗、漏型管、限位板、连接进口和半导体制冷片，所述冷却箱固定安装在均布器本体的右侧，所述固定脚固定安装在冷却箱的下端。
[0007]优选的，所述进料口固定设置在冷却箱的上端，所述换气窗固定安装在冷却箱外端的下端，所述漏型管固定安装在冷却箱的中部，所述限位板固定安装在漏型管的左右两端，限位板弧度曲线，可为除铜剂下降进行缓冲。
[0008]优选的，所述连接进口固定设置在漏型管的下端，所述连接进口固定设置在连接管的右端，所述半导体制冷片固定安装在冷却箱内部的下端，可对冷却箱内部的空气进行制冷，使除铜剂温度下降。
[0009]优选的，所述半导体制冷片位于漏型管的左右两侧，所述连接管固定连接冷却箱与均布器本体，连接管对除铜剂进行运输和导向。
[0010]优选的，所述调制机构包括活动板、调制电机、驱动杆、调制叶和转轴，所述活动板活动安装在均布器本体的上端，所述调制电机固定安装在活动板上端的中部，调制电机为驱动部件，带动搅拌叶旋转进行调制。
[0011]优选的，所述驱动杆固定安装在调制电机的输出端，所述调制叶固定安装在驱动杆的左右两端，所述转轴固定安装在均布器本体内部的下端，所述驱动杆与转轴活动连接，驱动杆，带动调制叶进行旋转对除铜剂进行均匀调制。
[0012]优选的，所述便清洗机构包括固定板、电动推杆、滑动板、滑块和滑槽，所述固定板固定安装在均布器本体的外端，所述电动推杆固定安装在固定板上端的左右两端，电动推杆可对滑动板进行推动使活动板位置发生变化。
[0013]优选的，所述滑动板活动安装在均布器本体的外端，所述滑动板位于固定板的上方，所述滑块固定安装在滑动板的内端，所述滑槽固定设置在均布器本体的前端，所述滑块与滑槽滑动连接，所述滑动板与活动板相适配，滑动板带动活动板进行位移，将活动板顶起，便于工作人员清洗。
[0014]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0015]1、该除铜剂调制均布器，通过安装降温冷却机构，可避免除铜剂与空气接触时产生高温自燃现象的发生，避免除铜剂在调配制造时因摩擦产生大量的热量导致除铜剂自燃；
[0016]2、该除铜剂调制均布器，通过安装调制机构，可通过调制叶对除铜剂进行调制搅拌，使其均匀混合，增加除铜剂在调制时的均匀性，使除铜剂在调制完毕后出品率增加；
[0017]3、该除铜剂调制均布器，通过安装便清洗机构，可在调制均布器对除铜剂搅拌调制完毕后，方便工作人员对搅拌叶与搅拌杆进行清洗，减少工作人员清洗时的时间消耗。
附图说明
[0018]图1为本技术立体结构示意图；
[0019]图2为本技术剖面结构示意图；
[0020]图3为本技术立体结构示意图；
[0021]图4为本技术立体结构示意图；
[0022]图5为本技术便清晰机构局部细节放大结构示意图；
[0023]图6为本技术降温冷却机构局部细节放大结构示意图。
[0024]图中：1、主体机构；101、均布器本体；102、支撑脚；103、出料口；104、连接管；105、连接出口；2、降温冷却机构；201、冷却箱；202、固定脚；203、进料口；204、换气窗；205、漏型管；206、限位板；207、连接进口；208、半导体制冷片；3、调制机构；301、活动板；302、调制电机；303、驱动杆；304、调制叶；305、转轴；4、便清洗机构；401、固定板；402、电动推杆；403、滑动板；404、滑块；405、滑槽。
具体实施方式
[0025]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0026]请参阅图1
‑
图6，本技术提供一种技术方案：一种除铜剂调制均布器，包括主体机构1、降温冷却机构2、调制机构3和便清洗机构4，降温冷却机构2位于主体机构1的右
侧，调制机构3位于主体机构1的上方，便清洗机构4位于主体机构1的外端，主体机构1包括均布器本体101、支撑脚102、出料口103、连接管104和连接出口105，支撑脚102固定安装在均布器本体101的下端，出料口103固定设置在均布器本体101的下端，连接管104固定安装在均布器本体101的左端，连接出口105固定安装在连接管104的左端，连接出口105位于均布器本体101的内部，降温冷却机构2包括冷却箱201、固定脚202、进料口203、换气窗204、漏型管205、限位板206、连接进口207和半导体制冷片208，冷却箱201固定安装在均布器本体101的右侧，固定脚202固定安装在冷却箱201的下端，进料口203固定设置在冷却箱201的上端，换气窗204固定安装在冷却箱201外端的下端，漏型管205固定安装在冷却箱201的中部，限位板206固定安装在漏型管205的左右两端，连接进口207固定设置在漏型管205的下端，连接进口207固定设置在连接管104的右端，半导体制冷片208固定安装在冷却箱201内部的下端，半导体制冷片208位于漏型管205的左右两侧，连接管104固定连接冷却箱201与均布器本体101。
[0027]调制机构3包括活动板本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种除铜剂调制均布器，包括主体机构(1)、降温冷却机构(2)、调制机构(3)和便清洗机构(4)，其特征在于：所述降温冷却机构(2)位于主体机构(1)的右侧，所述调制机构(3)位于主体机构(1)的上方，所述便清洗机构(4)位于主体机构(1)的外端，所述主体机构(1)包括均布器本体(101)、支撑脚(102)、出料口(103)、连接管(104)和连接出口(105)，所述支撑脚(102)固定安装在均布器本体(101)的下端，所述出料口(103)固定设置在均布器本体(101)的下端，所述连接管(104)固定安装在均布器本体(101)的左端，所述连接出口(105)固定安装在连接管(104)的左端，所述连接出口(105)位于均布器本体(101)的内部，所述降温冷却机构(2)包括冷却箱(201)、固定脚(202)、进料口(203)、换气窗(204)、漏型管(205)、限位板(206)、连接进口(207)和半导体制冷片(208)，所述冷却箱(201)固定安装在均布器本体(101)的右侧，所述固定脚(202)固定安装在冷却箱(201)的下端。2.根据权利要求1所述的一种除铜剂调制均布器，其特征在于：所述进料口(203)固定设置在冷却箱(201)的上端，所述换气窗(204)固定安装在冷却箱(201)外端的下端，所述漏型管(205)固定安装在冷却箱(201)的中部，所述限位板(206)固定安装在漏型管(205)的左右两端。3.根据权利要求2所述的一种除铜剂调制均布器，其特征在于：所述连接进口(207)固定设置在漏型管(205)的下端，所述连接进口(207)固定设置在连接管(104)的右端，所述半导体制冷片(208)固定安装在冷却箱(...

【专利技术属性】
技术研发人员：姬会娜，杨红波，郭启，
申请(专利权)人：栾川县亨凯冶金材料销售有限公司，
类型：新型
国别省市：