具有微米级分辨率的非接触式尺寸测量装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及具有微米级分辨率的非接触式尺寸测量装置(1)，适于测量距设有至少一个反射表面(950)的物体(900)的距离。非接触式尺寸测量装置(1)沿轴线(X

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有微米级分辨率的非接触式尺寸测量装置


[0001]本专利技术涉及一种具有微米级分辨率的非接触式尺寸测量装置。此外，本专利技术涉及一种尺寸和/或产品形状控制系统，该尺寸和/或产品形状控制系统包括至少一个具有微米级分辨率的非接触式尺寸测量装置。

技术介绍

[0002]特别地，“具有微米级分辨率的非接触式尺寸测量装置”意指该装置适于以微米级的分辨率和精度并在介于1毫米与100毫米之间的测量范围内对该装置的位置与物体之间的距离、特别是该装置的位置与物体的参考平面或表面之间的距离进行测量。
[0003]优选地，“具有微米级分辨率的非接触式尺寸测量装置”的类似定义也是“具有微米级分辨率的非接触式位移转换器(transducer)装置”。
[0004]为了进一步说明本专利技术的背景，值得注意的是，具有微米级分辨率的非接触式尺寸测量装置涉及用于在工业领域中进行精密测量的尺寸控制装置的

[0005]在此背景下，所述尺寸控制装置被分为接触式装置和非接触式装置。
[0006]上述两种装置不仅适用于对机械部件的尺寸测量，而且本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种具有微米级分辨率的非接触式尺寸测量装置(1)，所述具有微米级分辨率的非接触式尺寸测量装置(1)适于对距设置有至少一个反射表面(950)的物体(900)的距离进行测量，其中，所述具有微米级分辨率的非接触式尺寸测量装置(1)沿着轴线(X
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X)延伸，并且所述具有微米级分辨率的非接触式尺寸测量装置(1)包括：i)光源(2)，所述光源(2)产生朝向所述物体(900)的发射光束(Le)，以使得所述物体的所述反射表面(950)产生沿与发射方向基本上相反的反射方向的反射光束(Lr)；ii)光阻隔元件(3)，所述光阻隔元件(3)定位在所述光源(2)的相对于所述发射方向而言相反的侧部上，其中，所述光阻隔元件(3)包括至少一个缝隙(30)，所述缝隙(30)适当地成形为使得所述光阻隔元件(3)仅允许所述反射光束(Lr)穿过所述缝隙(30)；iii)检测组(5)，所述检测组(5)包括：
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成像传感器(50)，在所述成像传感器(50)上对穿过所述缝隙(30)的所述反射光束(Lr)的投影(500)进行检测；
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处理和控制组件(51)，所述处理和控制组件(51)操作性地连接至所述成像传感器(50)，并且所述处理和控制组件(51)适于对所述投影(500)的形状和位置进行分析，以对所述物体(900)的所述反射表面(950)的距离和特征进行确定。2.根据权利要求1所述的具有微米级分辨率的非接触式尺寸测量装置(1)，所述具有微米级分辨率的非接触式尺寸测量装置(1)还包括光学组(4)，所述光学组(4)优选地包括至少一个球面或非球面的透镜，所述光学组适于将穿过所述缝隙(30)的所述反射光束(Lr)朝向所述成像传感器(50)传送。3.根据权利要求2所述的具有微米级分辨率的非接触式尺寸测量装置(1)，其中，所述光学组(4)包括基部表面(41)，所述基部表面(41)优选地是平坦的，所述基部表面(41)定位在靠近所述物体(900)的位置中，其中，所述光阻隔元件(3)定位在所述基部表面(41)上。4.根据前述权利要求中的任一项所述的具有微米级分辨率的非接触式尺寸测量装置(1)，其中，所述光源(2)定位在所述光阻隔元件(3)上，其中，所述光阻隔元件(3)是由电传导材料制成的，所述电传导材料优选地是金属，并且所述光阻隔元件(3)适于对所述光源(2)进行电力供应。5.根据权利要求4和权利要求3所述的具有微米级分辨率的非接触式尺寸测量装置(1)，其中，所述光阻隔元件(3)包括至少一个金属膜状材料，所述金属膜状材料是沉积在所述基部表面(41)上的，优选地，所述金属膜状材料是通过表面金属化过程而沉积在所述基部表面(41)上的。6.根据前述权利要求中的任一项所述的具有微米级分辨率的非接触式尺寸测量装置(1)，其中，所述缝隙(30)包括第一缝隙边缘(31)和第二缝隙边缘(32)，其中，反射的所述投影(500)具有第一投影...

【专利技术属性】
技术研发人员：亚历山德罗，
申请(专利权)人：泰克诺森斯股份公司，
类型：发明
国别省市：