一种用于平面磨床的多尺寸晶体固定装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种用于平面磨床的多尺寸晶体固定装置，属于半导体材料制备技术领域；包括磁吸吸盘与真空吸盘，磁吸吸盘的一侧端面上设置有固定槽，真空吸盘的一端插接于磁吸吸盘内，固定槽的底面设置有吸附槽，磁吸吸盘的另一侧端面中心处设置有进气口，进气口与吸附槽相连通，真空吸盘的另一端端面上设置有阶梯槽，每个阶梯槽的内部底面均设置有吸气槽，最内侧的阶梯槽底面处设置有中心气孔，中心气孔的两端分别与吸气槽以及吸附槽相连通；在平面磨床上还设置有真空泵，真空泵通过导气管与磁吸吸盘上的进气口相连接；解决了目前晶体在平面磨床上的固定方式附着粘力小、调节不便的问题。便的问题。便的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种用于平面磨床的多尺寸晶体固定装置


[0001]本技术属于半导体材料制备
，具体涉及一种用于平面磨床的多尺寸晶体固定装置。

技术介绍

[0002]碳化硅（SiC）是第三代半导体材料的典型代表，相比于Si基，SiC拥有优越的物理性能：更高的禁带宽度、更高的电导率和更高的热导率。非常适合应用在高功率和高频高速领域，如新能源汽车和5G射频器件领域。目前SiC单晶生长直径由4英寸扩展至6英寸，甚至8英寸。随着生长直径的扩大，晶体内部存在残余应力也随之增大，对后续加工过程提出了更高的要求。尤其是在平面磨削加工过程中晶体附着平面的平整度，会直接影响晶体的平面度导致晶向偏移，解决这个问题的根本在于晶体在平面磨床上加工的附着方式。
[0003]过去平面磨床加工晶体采用的是电磁吸盘方式，将装有晶体的夹具放到磁盘上，打开吸磁开关将夹具固定在工作台上，工作台上晶体使用蜡粘工艺粘接。此种附着方式粘力小，吸盘平整精度低蜡层厚度会影响最终晶体加工平整度。且必须使用钢或铸铁等磁性材料制成的夹具来固定晶体，调节不便，操作繁琐耗材成本较高。

技术实现思路

[0004]本技术克服了现有技术的不足，提出一种用于平面磨床的多尺寸晶体固定装置；解决目前晶体在平面磨床上的固定方式附着粘力小、调节不便的问题。
[0005]为了达到上述目的，本技术是通过如下技术方案实现的。
[0006]一种用于平面磨床的多尺寸晶体固定装置，包括磁吸吸盘与真空吸盘，磁吸吸盘的一侧端面上设置有固定槽，真空吸盘的一端插接于磁吸吸盘内，固定槽的底面设置有吸附槽，磁吸吸盘的另一侧端面中心处设置有进气口，进气口与吸附槽相连通，真空吸盘的另一端端面上设置有阶梯槽，每个阶梯槽的内部底面均设置有吸气槽，最内侧的阶梯槽底面处设置有中心气孔，中心气孔的两端分别与吸气槽以及吸附槽相连通；在平面磨床上还设置有真空泵，真空泵通过导气管与磁吸吸盘上的进气口相连接。
[0007]进一步的，所述磁吸吸盘、固定槽、真空吸盘、阶梯槽均为圆柱形结构。
[0008]进一步的，在固定槽的内部底面中心处设置有一个中心吸附槽，在中心吸附槽的外侧周圈设置有多个环形吸附槽，环形吸附槽与中心吸附槽轴线相合。
[0009]进一步的，固定槽内部底面还设置有横向吸附槽与纵向吸附槽，通过横向吸附槽以及纵向吸附槽将环形吸附槽与中心吸附槽相连通。
[0010]进一步的，所述阶梯槽从内向外依次包括一级阶梯槽、二级阶梯槽、三级阶梯槽，一级阶梯槽的内径为四寸，二级阶梯槽的内径为六寸，三级阶梯槽内径为八寸。
[0011]进一步的，在每个阶梯槽的内部底面上分别设置有一个环形吸气槽、横向吸气槽、纵向吸气槽，其中环形吸气槽的轴线与阶梯槽的轴线相合，横向吸气槽与纵向吸气槽相互垂直并且外侧一端均与阶梯槽的内壁相连通。
[0012]进一步的，对于一级阶梯槽，其横向吸气槽以及纵向吸气槽相互交叉设置；对于二级阶梯槽以及三级阶梯槽，其上的横向吸气槽以及纵向吸气槽内侧一端与内边缘相连通。
[0013]进一步的，平面磨床的工作台上还设置有电磁吸盘，磁吸吸盘磁吸固定在电磁吸盘上。
[0014]更进一步的，平面磨床上还设置有金刚石砂轮、砂轮平衡架。
[0015]本技术相对于现有技术所产生的有益效果为：
[0016]通过改装吸盘的整体构造，实现了一个真空吸盘能让平面磨床加工4寸、6寸和8寸共3种规格的晶体。而传统机械夹持装置针对不同尺寸的晶体，用一次就得换一次，比较繁琐，影响生产效率。本技术中的阶梯槽，可以有效地防止加工过程中由于吸力不稳而造成晶体移位和脱落，相比传统石蜡粘接没有任何防护，使用此种吸盘可提高平面磨床加工的稳定性，保证晶体高平面度，进而提高晶体加工良率。
附图说明
[0017]下面结合附图对本技术作进一步详细的说明：
[0018]图1是磁吸吸盘与真空吸盘的连接示意图；
[0019]图2是图1的俯视图；
[0020]图3是图2中的A
‑
A剖视图；
[0021]图4是本技术整体的结构示意图；
[0022]图5是磁吸吸盘的立体示意图；
[0023]图6是磁吸吸盘的俯视图；
[0024]图7是图6中的B
‑
B剖视图；
[0025]图8是真空吸盘的立体示意图；
[0026]图9是真空吸盘的俯视图；
[0027]图10是图9中的C
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C剖视图；
[0028]其中，1为磁吸吸盘、2为真空吸盘、3为真空泵、4为导气管、5为固定槽、6为中心吸附槽、7为环形吸附槽、8为横向吸附槽、9为纵向吸附槽、10为进气口、11为一级阶梯槽、12为二级阶梯槽、13为三级阶梯槽、14为环形吸气槽、15为横向吸气槽、16为纵向吸气槽、17为中心气孔。
具体实施方式
[0029]为了使本技术所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，结合实施例和附图，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。下面结合实施例及附图详细说明本技术的技术方案，但保护范围不被此限制。
[0030]如图1—10所示，本技术提供了一种用于平面磨床的多尺寸晶体固定装置，包括真空吸盘2、磁吸吸盘1、导气管4、真空泵3。
[0031]所述磁吸吸盘1为铸铁材质，整体为圆柱体结构，在其一侧端面上设置有一个圆柱形的固定槽5，固定槽5与磁吸吸盘1轴线相合。在固定槽5的内部底面中心处设置有一个中心吸附槽6，在中心吸附槽6的外侧周圈设置有多个环形吸附槽7，环形吸附槽7与中心吸附
槽6轴线相合。固定槽5内部底面还设置有横向吸附槽8与纵向吸附槽9，通过横向吸附槽8以及纵向吸附槽9将环形吸附槽7与中心吸附槽6相连通。
[0032]在中心吸附槽6的底面中心处设置有一个进气口10，进气口10与磁吸吸盘1的另一侧端面相连通。
[0033]所述真空吸盘2为铝合金材质，整体为圆柱体结构。真空吸盘2的一端插接于磁吸吸盘1的固定槽5内部并且与固定槽5的内部底面相接触。在真空吸盘2远离磁吸吸盘1的另一侧端面上设置有一个阶梯槽，所述阶梯槽从内向外依次包括一级阶梯槽11、二级阶梯槽12、三级阶梯槽13，三个阶梯槽均为圆柱形开槽并且轴线相合。一级阶梯槽11的内径为四寸，二级阶梯槽12的内径为六寸，三级阶梯槽13内径为八寸。
[0034]在每个阶梯槽的内部底面上分别设置有一个环形吸气槽14、横向吸气槽15、纵向吸气槽16，其中环形吸气槽14的轴线与阶梯槽的轴线相合，横向吸气槽15与纵向吸气槽16相互垂直并且外侧一端均与阶梯槽的内壁相连通。一级阶梯槽11的横向吸气槽15以及纵向吸气槽16相互交叉设置。对于二级阶梯槽12以及三级阶梯槽13，其上的横向吸气槽15以及纵向吸气槽16内侧一端与内边缘相连通。
[0035]在一级阶梯槽11的内部底面中心本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于平面磨床的多尺寸晶体固定装置，其特征在于：包括磁吸吸盘（1）与真空吸盘（2），磁吸吸盘（1）的一侧端面上设置有固定槽（5），真空吸盘（2）的一端插接于磁吸吸盘（1）内，固定槽（5）的底面设置有吸附槽，磁吸吸盘（1）的另一侧端面中心处设置有进气口（10），进气口（10）与吸附槽相连通，真空吸盘（2）的另一端端面上设置有阶梯槽，每个阶梯槽的内部底面均设置有吸气槽，最内侧的阶梯槽底面处设置有中心气孔（17），中心气孔（17）的两端分别与吸气槽以及吸附槽相连通；在平面磨床上还设置有真空泵（3），真空泵（3）通过导气管（4）与磁吸吸盘（1）上的进气口（10）相连接。2.根据权利要求1所述的一种用于平面磨床的多尺寸晶体固定装置，其特征在于：所述磁吸吸盘（1）、固定槽（5）、真空吸盘（2）、阶梯槽均为圆柱形结构。3.根据权利要求1所述的一种用于平面磨床的多尺寸晶体固定装置，其特征在于：在固定槽（5）的内部底面中心处设置有一个中心吸附槽（6），在中心吸附槽（6）的外侧周圈设置有多个环形吸附槽（7），环形吸附槽（7）与中心吸附槽（6）轴线相合。4.根据权利要求3所述的一种用于平面磨床的多尺寸晶体固定装置，其特征在于：固定槽（5）内部底面还设置有横向吸附槽（8）与纵向吸附槽（9），通过横向吸附槽（8）以及纵向吸附槽（9）将环形吸...

【专利技术属性】
技术研发人员：李鹏，周金龙，魏汝省，张峰，于洋，牛玉龙，
申请(专利权)人：山西烁科晶体有限公司，
类型：新型
国别省市：