发光二极管及其制备方法技术

技术编号:35725904 阅读:31 留言:0更新日期:2022-11-26 18:23
一种发光二极管及其制备方法,包括衬底(10)、第一导电型半导体层(20)、应力释放层(30)、发光层(40)、第二导电型半导体层(50),其中的应力释放层包括交替层叠的阱层(31)和垒层(32),至少一个阱层内部分布有至少一个阻挡区(311),阻挡区的能隙高于阱层的能隙。在阱层内部设置阻挡区,阻挡区可以阻挡阱层内的载流子横向扩展至位错区域发生非辐射复合,从而提高发光二极管的发光效率。高发光二极管的发光效率。高发光二极管的发光效率。高发光二极管的发光效率。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员:徐志波张志华马明彬李政鸿林兓兓张家豪
申请(专利权)人:安徽三安光电有限公司
类型:发明
国别省市:

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