一种光路传输模块的调校装置和调校方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种光路传输模块的调校装置和调校方法，涉及准分子激光器技术领域，用于调校光路传输模块。调校装置包括两个第一光学狭缝、两个第二光学狭缝和一字线光源，在第一调校状态，第一电极的朝向第二电极的表面与第一一字线狭缝的中心线共面，第一电极的朝向第二电极的表面与放大腔的高度方向相垂直；在第二调校状态，第二一字线狭缝的中心线和第一电极与第二电极在放大腔的高度方向上的中心线共面，该共面与放大腔的高度方向相垂直；一字线光源在第一调校状态发射穿过两个第一一字线狭缝和放大腔的一字线光束，在第二调校状态发射穿过两个第二一字线狭缝和放大腔的一字线光束。线光束。线光束。

【技术实现步骤摘要】
一种光路传输模块的调校装置和调校方法


[0001]本专利技术涉及准分子激光器
，尤其涉及一种光路传输模块的调校装置和调校方法。

技术介绍

[0002]光刻机是准分子激光器最大的产业应用领域。随着光刻节点即将进入32nm节点,ArF准分子光刻已经成为主流,并有望应用到更低的22nm节点和16nm节点。与此相关,当前准分子激光技术的研究热点主要集中在光刻用准分子激光技术上。随着光刻节点的降低,要求ArF准分子激光器具有更加稳定的窄谱线宽度、更大的输出功率、更高的剂量稳定性和更长的气体寿命。目前ArF准分子激光器具有两个放电腔，一个是种子腔(MO腔)，一个是增益放大腔(PA腔)，通过利用环形腔技术将种子腔中的种子光多次输入到增益放大腔中，在放大腔中停留时间长,且放大腔工作在深度饱和状态。
[0003]准确的控制光路穿过增益放大腔的增益区，决定了环形腔技术的成败。增益放大腔目前设计是可以进行水平方向的调节，竖直方向则是通过安装基准进行确定的，光束传输可以通过反射镜的两维角度调整进行跟随。光束的光轴和放电腔的中心线应一致，如不一致，有一部分本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光路传输模块的调校装置，其特征在于，所述光路传输模块包括第一反射元件、第二反射元件以及位于所述第一反射元件和所述第二反射元件之间的激光器的放大腔，所述放大腔内具有相对设置的第一电极和第二电极，所述第一电极和所述第二电极在所述放大腔的高度方向上分布；所述放大腔具有两个相对设置的透光窗口，所述调校装置具有第一调校状态和第二调校状态，所述调校装置包括：两个具有第一一字线狭缝的第一光学元件，在所述第一调校状态，每个所述第一光学元件设在相应所述透光窗口上，所述第一电极的朝向所述第二电极的表面与所述第一一字线狭缝的中心线共面；两个具有第二一字线狭缝的第二光学元件，在所述第二调校状态，每个所述第二光学元件设在相应所述透光窗口上，所述第二一字线狭缝的中心线和第一电极与第二电极在所述放大腔的高度方向上的中心线共面；一字线光源，位于所述放大腔靠近所述第一反射元件的一侧，用于在所述第一调校状态发射穿过两个所述第一一字线狭缝和所述放大腔的一字线光束，在所述第二调校状态发射穿过两个所述第二一字线狭缝和所述放大腔的一字线光束。2.根据权利要求1所述的调校装置，其特征在于，在所述第一调校状态，每个所述第一光学元件可拆卸地安装在相应所述透光窗口；在所述第二调校状态，每个所述第二光学元件可拆卸地安装在相应所述透光窗口。3.根据权利要求1所述的调校装置，其特征在于，当所述第一光学元件设在相应所述透光窗口上时，所述第一光学元件的几何中心与相应所述透光窗口的几何中心同轴，所述第一光学元件的几何中心与所述第一一字线狭缝的中心线之间的距离为a；当所述第二光学元件设在相应所述透光窗口上时，所述第二光学元件的几何中心与相应所述透光窗口的几何中心同轴，所述第二光学元件的几何中心与所述第二一字线狭缝的中心线之间的距离为b；所述一字线光源在所述第一调校状态和所述第二调校状态的高度差为D，D＝a
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b。4.根据权利要求1所述的调校装置，其特征在于，所述一字线光源提供的一字线光束的横截面的宽度分别小于或等于所述第一一字线狭缝的宽度；所述一字线光源提供的一字线光束的横截面的宽度小于或等于所述第二一字线狭缝的宽度，其中，所述一字线光源为光束尺寸可调的一字线光源，和/或，所述一字线光源为一字线激光器。5.根据权利要求1所述的调校装置，其特征在于，所述调校装置还包括荧光纸，在所述第一调校状态，所述荧光纸位于所述第二反射元件和靠近所述第二反射元件的其中一个所述第一光学元件之间，在所述第二调校状态，所述荧光纸位于所述第二反射元件和靠近所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：张艳茹，孔令浩，江锐，徐向宇，李梦龙，常庆麒，
申请(专利权)人：北京科益虹源光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：