一种深度除氟处理工艺及回用系统技术方案

本发明专利技术涉及废水处理技术领域，尤其涉及一种深度除氟处理工艺及回用系统。包括以下步骤；1)将含氟废水进行化学混凝沉淀，在含氟废水收集槽中处理;2)沉淀后的废水使用废水泵泵入ACF吸附塔；3）进行活性炭吸附和袋式过滤，在袋式过滤器中处理；4)废水按顺序送入SAC树脂塔、WBA树脂塔和SBA树脂塔；5）使用终端过滤器再次进行过滤；6)送入成品水箱，进入地下水池，回用于纯水设备。本发明专利技术针对半导体行业产生的含氟废水，采用沉淀处理工艺处+袋式过滤器+三级树脂柱+终端过滤箱毒处理部分含氟废水并回用，再生废水和其余含氟废水经两级沉淀处理工艺处理后排放。艺处理后排放。艺处理后排放。

【技术实现步骤摘要】
一种深度除氟处理工艺及回用系统


[0001]本专利技术涉及废水处理
，尤其涉及一种深度除氟处理工艺及回用系统。

技术介绍

[0002]近年来，随着半导体行业的迅猛发展，与之相关的环境问题也逐渐显现。在半导体制造业生产过程中，含氟废水主要来自刻蚀工序中的氢氟酸和氟化铵。过高的氟离子不仅影响人体健康，同时也会影响植物生长发育，严重破坏了周围的水环境，威胁着当地居民的身体健康。含氟废水的常用处理采用的方法一般有：化学沉淀法、吸附法、离子交换法、电絮凝等方法。在这些方法中，化学沉淀法是含氟废水处理最为常用的方法。常用的除氟混凝剂主要是钙盐、铝盐和聚丙烯酰胺等混凝剂。
[0003]目前国内传统的除氟技术主要采用石灰+聚合氯化铝沉淀工艺进行处理，该技术虽然处理方法和效果好，出水的F
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离子可以去除到10mg/L以下,但仍不能满足水回用标准。另外该除氟技术只能去除废水中的无机F
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，无法去除邮寄氟化物，不能实现废水零排放及废水中氯化钠盐的回收。

技术实现思路

[0004]针对现有技术中存在的缺陷或不足，本专利技术所要解决的技术问题是：提供一种深度除氟处理工艺及回用系统，解决半导体生产企业中产生的含氟废水。
[0005]为了实现上述目的，本专利技术采取的技术方案为提供一种深度除氟处理工艺及回用系统，包括以下步骤；1) 将含氟废水进行化学混凝沉淀，在含氟废水收集槽中处理; 2) 沉淀后的废水使用废水泵泵入 ACF 吸附塔；3）进行活性炭吸附和袋式过滤，在袋式过滤器中处理；4) 废水按顺序送入 SAC树脂塔、WBA 树脂塔和 SBA 树脂塔；5）使用终端过滤器再次进行过滤；6)送入成品水箱，进入地下水池，回用于纯水设备。
[0006]作为本专利技术的进一步改进， 在步骤2和步骤4中产生的再生废水和反冲废水进行化学沉淀处理，1）含氟废水通过废水输送泵将废水送入第一pH调节池，并加入NaOH溶液调节pH值至8.5后；2）在第一混合反应池加入CaCl2溶液，通过在第一凝絮反应池使用搅拌机搅拌凝絮反应后，最后出水进入第一沉淀池；经过沉淀后在第二pH调整池加入NaOH溶液调节pH值至8.5后，在第二混合反应池加入PAC溶液并通过搅拌机搅拌充分反应后，出水再进入第二凝絮反应池，通过加药泵投加PAM溶液，并通过搅拌机搅拌凝絮反应后，最后出水进入第二沉淀池；3）在第二沉淀池经泥水分离后，上清液流入中间水池后经砂滤器和吸附塔处理后进入排放水池进行排放；
作为本专利技术的进一步改进，在步骤5后过滤后的含氟废水进行深度除氟及钠盐回收处理，1）进入废水原水箱；2）在深度除氟过滤器里进行过滤，该深度除氟过滤器采用内置活性氧化铝填料的过滤器；3）进入化学氧化器反应，采用NaCl0作为氧化剂；4）使用双碱法沉淀去除废水中残留的钙离子，采用NaOH和Na2CO3 作为除钙沉淀剂，出水后再经过离子交换软化树脂进一步去除钙离子；污泥 污泥池 采用高压板框压滤机 污泥处理；5）进入MVR蒸发器，产生的母液经过离心机进行离心结晶，产出工业盐。
[0007]本专利技术的有益效果是：本专利技术针对半导体行业产生的含氟废水，采用沉淀处理工艺处 + 袋式过滤器 + 三级树脂柱 +终端过滤箱毒处理部分含氟废水并回用，再生废水和其余含氟废水经两级沉淀处理工艺处理后排放。结果表明，采用上述工艺既能通过回用满足生产活动中用水的需求，又能实现含氟废水处理后的达标排放。工程实例证明，该处理工程能大幅降低含氟废水的排放量，运行稳定且能够达到清洁生产的要求，出水水质满足该厂区中水回用系统的原水水质标准，其MVR系统结晶产生的杂盐中Na Cl含量>95%，满足工业盐中氯化钠含量的要求，回收的工业杂盐可以用来作为北方寒冷地区冬天道路积雪的融雪剂，也可以用来作为水泥生产过程中助磨剂的添加使用，充分实现了废水的零排放，并最大限度地回收利用了废水中的氯化钠盐分，实现了节能减排及资源的回收利用。
附图说明
[0008]图1是本专利技术提供的深度除氟处理工艺及回用系统流程图；图2是本专利技术提供的深度除氟零排放及钠盐回收工艺流程图。
具体实施方式
[0009]下面结合附图说明及具体实施方式对本专利技术进一步说明。
[0010]如图1所示，本专利技术深度除氟处理工艺及回用系统，包括以下步骤；1) 将含氟废水送入含氟废水收集槽，进行化学混凝沉淀; 2) 沉淀后的废水使用废水泵泵入 ACF 吸附塔；3）然后送入袋式过滤器进行活性炭吸附和袋式过滤，减少悬浮物、有机污染物、胶体对后续设备的影响；4) 废水按顺序送入 SAC树脂塔、WBA 树脂塔和 SBA 树脂塔；在去除氟离子的同时，降低废水中电导率，以及控制pH值；5）使用终端过滤器再次进行过滤；6)送入成品水箱，进入地下水池，回用于纯水设备。
[0011][0011][0012]在步骤2和步骤4中产生的再生废水和反冲废水进行化学沉淀处理，1）含氟废水投入调节池，调节池用于储存高浓度含氟废水，为混凝土水池，水力停留时间为22.4h；再通过废水输送泵将废水送入第一pH调节池，该池为混凝土池，反应时间0.6h，并加入10% NaOH溶液调节pH值至8.5后；第一pH调节池2）在第一混合反应池加入CaCl2溶液，该池为混凝土水池，反应时间为0.6h，通过在第一凝絮反应池使用搅拌机搅拌凝絮反应后，最后出水进入第一沉淀池，该池采用竖流沉淀池，经过混合絮凝反应的废水进入该池，在重力作用下泥水分离，该池采用混凝土水池，水力停留时间为5.3h；经过沉淀后在第二pH调整池加入10% NaOH溶液调节pH值至8.5，反应时间为0.6h，在第二混合反应池加入PAC溶液并通过搅拌机搅拌充分反应后，铝盐加入到废水中，去除废水中的氟，反应时间0.6h，出水再进入第二凝絮反应池。
[0012]2）在通过加药泵向废水中投加高分子絮凝剂PAM溶液，将细小的颗粒絮凝到一起从而实现加速沉降，反应时间为0.6h，并通过搅拌机搅拌凝絮反应后，最后出水进入第二沉淀池，水力停留时间5.3h；3）在第二沉淀池经泥水分离后，上清液流入中间水池后经砂滤器和吸附塔处理后进入排放水池进行排放；水力停留时间1.2h，通过滤砂器过滤废水中的颗粒物，运行一段时间后，石英砂内会积累污染物，每隔2天需要进行1次反冲洗。
[0013]如图2所示，在步骤5后过滤后的含氟废水进行深度除氟及钠盐回收处理，1）进入废水原水箱；2）在深度除氟过滤器里进行过滤，该深度除氟过滤器采用内置活性氧化铝填料的过滤器，需要定期再生；过滤后出水中的F
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稳定小于5mg/L；3）进入化学氧化器反应，采用NaCl0作为氧化剂；去除废水中少量的含氟有机物及其他COD物质；4）使用双碱法沉淀去除废水中残留的钙离子，采用NaOH和Na2CO3 作为除钙沉淀剂，出水后再经过离子交换软化树脂进一步去除钙离子；5）进入MVR蒸发器，产生的母液经过离心机进行离心结晶，产出工业盐，含量稳定大于75%，满足工业盐指标的要求。经过该工业流程后可以充分实现水资源和氯化本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种深度除氟处理工艺及回用系统，其特征在于： 包括以下步骤；1) 将含氟废水进行化学混凝沉淀，在含氟废水收集槽中处理; 2) 沉淀后的废水使用废水泵泵入 ACF 吸附塔；3）进行活性炭吸附和袋式过滤，在袋式过滤器中处理；4) 废水按顺序送入 SAC树脂塔、WBA 树脂塔和 SBA 树脂塔；5）使用终端过滤器再次进行过滤；6)送入成品水箱，进入地下水池，回用于纯水设备。2.根据权利要求1所述的深度除氟处理工艺及回用系统，其特征在于： 在步骤2和步骤4中产生的再生废水和反冲废水进行化学沉淀处理，1）含氟废水通过废水输送泵将废水送入第一pH调节池，并加入NaOH溶液调节pH值至8.5后；2）在第一混合反应池加入CaCl2溶液，通过在第一凝絮反应池使用搅拌机搅拌凝絮反应后，最后出水进入第一沉淀池；经过沉淀后在第二pH调整池加入NaOH溶液调节pH值至8.5后，在第二混合反应...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩琦，余波平，张帆，刘杰，曾勇辉，王小江，刘洋，林武，王伟绵，陈鸿芳，许德超，
申请(专利权)人：深圳市环境科学研究院，
类型：发明
国别省市：