一种集成电路图生成的方法、装置、电子设备及存储介质制造方法及图纸

本申请实施例提供的一种集成电路图生成的方法、装置、电子设备及存储介质，所述方法包括：遍历原始集成电路图中的原始数据；根据原始数据和目标数据的映射关系，将所述原始数据调整为目标数据；根据所述目标数据生成目标集成电路图，其中，所述原始集成电路图和所述目标集成电路图对应不同的设计工艺。采用本申请实施例提供的技术方案，在将集成电路图由原始工艺迁移至目标工艺后，可以保留原始集成电路图中各种对象的类和属性信息，便于设计人员对目标集成电路图进行分析和调整。目标集成电路图进行分析和调整。目标集成电路图进行分析和调整。

【技术实现步骤摘要】
一种集成电路图生成的方法、装置、电子设备及存储介质


[0001]本申请涉及电子
，具体地涉及一种集成电路图生成的方法、装置、电子设备及存储介质。

技术介绍

[0002]随着集成电路制造工艺的丰富及工艺节点的发展，集成电路设计公司有了更多的工艺选择。集成电路设计公司在开发新产品的过程中，将已有的成熟集成电路图，从一种工艺迁移到另一种工艺上，可以有效缩短集成电路图设计时间，加快项目进度。
[0003]现有技术中一种电路图迁移方法为：在电子设计自动化(Electronic design automation，EDA)工具中导出原始集成电路图对应的几何数据标准(Geometry Data Standard，GDS)文件；然后根据目标工艺对GDS文件进行调整，使得调整后的GDS文件符合目标工艺；最后，将调整后的GDS文件导入EDA工具生成目标集成电路图，有效缩短目标集成电路图的设计时间。
[0004]但是，在EDA工具中导出GDS文件的过程中，会丢失原始集成电路图中各种对象的类和属性信息，导致重新生成的目标集成电路图只是图形的组合，只能作为一个整体进行操作，不便于对目标集成电路的修改。

技术实现思路

[0005]有鉴于此，本申请提供一种集成电路图生成的方法、装置、电子设备及存储介质，以利于解决现有技术中在EDA工具中导出GDS文件的过程中，会丢失原始集成电路图中各种对象的类和属性信息，导致重新生成的目标集成电路图只是图形的组合，只能作为一个整体进行操作，不便于对目标集成电路的修改的问题。<br/>[0006]第一方面，本申请实施例提供了一种集成电路图生成的方法，包括：
[0007]遍历原始集成电路图中的原始数据；
[0008]根据原始数据和目标数据的映射关系，将所述原始数据调整为目标数据；
[0009]根据所述目标数据生成目标集成电路图。
[0010]在一种可能的实现方式中，所述原始集成电路图和所述目标集成电路图对应不同的工艺设计套件PDK、器件的属性描述文件CDF、图层匹配文件Layermap一种或多种组合。
[0011]在一种可能的实现方式中，所述原始集成电路图和所述目标集成电路图对应不同的制程，所述原始集成电路图中包括与制程相关联的第一原始数据，所述根据原始数据和目标数据的映射关系，将所述原始数据调整为目标数据，包括：
[0012]根据所述原始集成电路图和所述目标集成电路图之间的制程缩放倍率对所述第一原始数据进行缩放，获得第一目标数据。
[0013]采用本申请实施例提供的技术方案，当原始工艺和目标工艺对应不同的制程时，在将原始集成电路图由原始工艺迁移至目标工艺的过程中，可以根据制程的变化对第一原始数据进行缩放，以满足目标工艺的制程要求。例如，第一原始数据为器件数据，在将原始
集成电路图由原始工艺迁移至目标工艺的过程中，可以根据制程的变化对原始集成电路图中的器件数据进行缩放。
[0014]在一种可能的实现方式中，所述根据所述原始集成电路图和所述目标集成电路图之间的制程缩放倍率对所述第一原始数据进行缩放，获得第一目标数据，包括：
[0015]根据所述原始集成电路图和所述目标集成电路图之间的制程缩放倍率对所述第一原始数据进行缩放，获得中间数据；
[0016]根据所述目标集成电路图的格点步长，将所述中间数据向上取整或向下取整为所述格点步长的整数倍，获得第一目标数据。
[0017]采用本申请实施例提供的技术方案，当原始工艺和目标工艺对应不同的制程时，在将原始集成电路图由原始工艺迁移至目标工艺的过程中，不仅可以根据制程的变化对第一原始数据进行缩放，而且可以使得迁移至目标工艺的第一目标数据满足格点步长的整数倍的要求，即on
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grid。例如，第一原始数据为MOS管的宽度和长度，在将原始集成电路图由原始工艺迁移至目标工艺的过程中，不仅可以根据制程的变化对原始集成电路图中MOS管的宽度和长度进行缩放，而且可以使得迁移至目标工艺的MOS管的宽度和长度满足格点步长的整数倍的要求。
[0018]在一种可能的实现方式中，所述根据所述目标集成电路图的格点步长，将所述中间数据向上取整或向下取整为所述格点步长的整数倍，获得第一目标数据，包括：
[0019]若所述中间数据向上取整为所述格点步长的整数倍与所述中间数据的差值小于所述中间数据向下取整为所述格点步长的整数倍与所述中间数据的差值，则将所述中间数据向上取整为所述格点步长的整数倍，获得第一目标数据；
[0020]若所述中间数据向上取整为所述格点步长的整数倍与所述中间数据的差值大于所述中间数据向下取整为所述格点步长的整数倍与所述中间数据的差值，则将所述中间数据向上取整为所述格点步长的整数倍，获得第一目标数据。
[0021]采用本申请实施例提供的技术方案，当原始工艺和目标工艺对应不同的制程时，在将原始集成电路图由原始工艺迁移至目标工艺的过程中，不仅可以使得迁移至目标工艺的第一目标数据满足格点步长的整数倍的要求，而且可以确保第一目标数据为最接近缩放后第一原始数据的格点步长的整数倍。
[0022]在一种可能的实现方式中，所述原始集成电路图中包括第二原始数据，且所述原始集成电路图中的第二原始数据与所述目标集成电路图中的第二目标数据相同，所述根据原始数据和目标数据的映射关系，将所述原始数据调整为目标数据，包括：
[0023]将所述第二原始数据作为所述第二目标数据。
[0024]采用本申请实施例提供的技术方案，在将原始集成电路图由原始工艺迁移至目标工艺的过程中，对于与制程不存在关联的第二原始数据，无需考虑制程的变化，直接将原始工艺中的第二原始数据作为目标工艺中的第二目标数据，确保工艺迁移的过程中，第二原始数据不会丢失。例如，第二原始数据为文字注释等信息，在将将原始集成电路图由原始工艺迁移至目标工艺的过程中，可以确保原始集成电路图中的文字注释等信息不会丢失。
[0025]在一种可能的实现方式中，所述原始集成电路图中包括第三原始数据，且所述原始集成电路图中的第三原始数据与所述目标集成电路图中的第三目标数据相对应，所述根据原始数据和目标数据的映射关系，将所述原始数据调整为目标数据，包括：
[0026]根据第三原始数据和第三目标数据的对应关系，将所述第三原始数据调整为所述第三目标数据。
[0027]采用本申请实施例提供的技术方案，在将原始集成电路图由原始工艺迁移至目标工艺的过程中，将原始工艺中的第三原始数据替换为目标工艺中的第三目标数据，以满足目标工艺的要求。
[0028]在一种可能的实现方式中，在所述根据原始数据和目标数据的映射关系，将所述原始数据调整为目标数据之前，所述方法还包括：
[0029]根据所述原始集成电路图和所述目标集成电路图的设计工艺，配置所述原始数据和目标数据的映射关系。
[0030]在一种可能的实现方式中，所述原始数据包括原始参数化单元Pcell数据、原始连线图形数据、原始通孔数据和本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种集成电路图生成的方法，其特征在于，包括：遍历原始集成电路图中的原始数据；根据原始数据和目标数据的映射关系，将所述原始数据调整为目标数据；根据所述目标数据生成目标集成电路图。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述原始集成电路图和所述目标集成电路图对应不同的工艺设计套件PDK、器件的属性描述文件CDF、图层匹配文件Layermap一种或多种组合。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述原始集成电路图和所述目标集成电路图对应不同的制程，所述原始集成电路图中包括与制程相关联的第一原始数据，所述根据原始数据和目标数据的映射关系，将所述原始数据调整为目标数据，包括：根据所述原始集成电路图和所述目标集成电路图之间的制程缩放倍率对所述第一原始数据进行缩放，获得第一目标数据。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述根据所述原始集成电路图和所述目标集成电路图之间的制程缩放倍率对所述第一原始数据进行缩放，获得第一目标数据，包括：根据所述原始集成电路图和所述目标集成电路图之间的制程缩放倍率对所述第一原始数据进行缩放，获得中间数据；根据所述目标集成电路图的格点步长，将所述中间数据向上取整或向下取整为所述格点步长的整数倍，获得第一目标数据。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述根据所述目标集成电路图的格点步长，将所述中间数据向上取整或向下取整为所述格点步长的整数倍，获得第一目标数据，包括：若所述中间数据向上取整为所述格点步长的整数倍与所述中间数据的差值小于所述中间数据向下取整为所述格点步长的整数倍与所述中间数据的差值，则将所述中间数据向上取整为所述格点步长的整数倍，获得第一目标数据；若所述中间数据向上取整为所述格点步长的整数倍与所述中间数据的差值大于所述中间数据向下取整为所述格点步长的整数倍与所述中间数据的差值，则将所述中间数据向上取整为所述格点步长的整数倍，获得第一目标数据。6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述原始集成电路图中包括第二原始数据，且所述原始集成电路图中的第二原始数据与所述目标集成电路图中的第二目标数据相同，所述根据原始数据和...

【专利技术属性】
技术研发人员：管文超，郭建国，张剑云，
申请(专利权)人：上海极海盈芯科技有限公司，
类型：发明
国别省市：