一种掩膜版生产过程中的污染物监测方法及系统技术方案

本发明专利技术提供了一种掩膜版生产过程中的污染物监测方法及系统，涉及数据处理技术领域，通过根据当前生产工序信息确定污染物监测特征、监测手段信息；根据监测手段信息对生产工序过程进行监测获得监测信息，当存在污染物时根据监测结果生成提醒信息；当监测结果不存在污染物时，将监测结果、当前生产工序信息录入生产链中，基于生产链进行生产全过程污染物影响预测，当存在污染物影响时生成污染监测提醒信息。解决现有通过后道工序进行缺陷检测，缺乏在生产过程中的有效监测手段，存在缺陷发现不及时而影响产品品质和造成资源浪费的技术问题。达到实时监测并预测，及时发现异常，提高掩膜版品质同时避免资源的加工浪费的技术效果。果。果。

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜版生产过程中的污染物监测方法及系统


[0001]本专利技术涉及数据处理
，具体涉及一种掩膜版生产过程中的污染物监测方法及系统。

技术介绍

[0002]掩膜版的制造流程分为前道工艺和后道工艺。前道工艺主要包括图像产生、显影、蚀刻、脱膜和尺寸测量，前道工艺完成后一片掩膜版的图形制作部分已经完成。后道工艺主要包括缺陷检查、缺陷修补、清洗和加保护膜。在集成电路制造过程中，一个完整的芯片一般需要经过十几到三十几次的光刻，在这么多次光刻中，都需要使用到掩膜版，其目的是将掩膜版上的图形转移到晶圆上。掩膜版在生产过程中由于环境灰尘、操作问题等都可能对其质量产生影响，污染物主要包括了微尘、金属粒子残留、胶残留等。
[0003]现有技术中主要通过后道工序进行缺陷检测，缺乏在生产过程中的有效监测手段，存在缺陷发现不及时而影响产品品质和造成资源浪费的技术问题。

技术实现思路

[0004]为了解决上述问题，本申请通过提供了一种掩膜版生产过程中的污染物监测方法及系统，解决了现有技术中主要通过后道工序进行缺陷检测，缺乏在生产过程中的有效监测手段，存在缺陷发现不及时而影响产品品质和造成资源浪费的技术问题。达到了通过对掩膜版生产过程中的实时监测，避免污染物对掩膜版成品造成影响，及时发现可以进行对应的调整处理，提高掩膜版品质同时避免资源的加工浪费的技术效果。
[0005]鉴于上述问题，本申请提供了一种掩膜版生产过程中的污染物监测方法及系统。
[0006]一方面，本申请提供了一种掩膜版生产过程中的污染物监测方法，所述方法包括：获得当前生产工序信息；根据所述当前生产工序信息在工序污染物数据库进行工序匹配，确定工序污染物信息集；基于所述工序污染物信息集进行污染物特征分析，得到污染物监测特征、监测手段信息；根据所述监测手段信息对生产工序过程进行监测，获得监测信息，并基于所述污染物监测特征对所述监测信息进行遍历，确定监测结果；当所述监测结果存在污染物时，且污染物满足污染物设定要求时，根据所述监测结果生成提醒信息；当未达到污染物设定要求时，将所述监测结果、所述当前生产工序信息录入生产链中，所述生产链为根据生产工序过程构建的生产数据链；基于所述生产链进行生产全过程污染物影响预测，当存在污染物影响时，生成污染监测提醒信息。
[0007]另一方面，本申请提供了一种掩膜版生产过程中的污染物监测系统，所述系统包括：工序获得单元，用于获得当前生产工序信息；污染物信息确定单元，用于根据所述当前生产工序信息在工序污染物数据库进行工序匹配，确定工序污染物信息集；监测特征分析单元，用于基于所述工序污染物信息集进行污染物特征分析，得到
污染物监测特征、监测手段信息；监测处理单元，用于根据所述监测手段信息对生产工序过程进行监测，获得监测信息，并基于所述污染物监测特征对所述监测信息进行遍历，确定监测结果；工序污染提醒单元，用于当所述监测结果存在污染物时，且污染物满足污染物设定要求时，根据所述监测结果生成提醒信息；全生产工序分析单元，用于当未达到污染物设定要求时，将所述监测结果、所述当前生产工序信息录入生产链中，所述生产链为根据生产工序过程构建的生产数据链；全过程污染预测单元，用于基于所述生产链进行生产全过程污染物影响预测，当存在污染物影响时，生成污染监测提醒信息。
[0008]本申请中提供的技术方案，至少具有如下技术效果：本申请提供了一种掩膜版生产过程中的污染物监测方法及系统，通过获得当前生产工序信息；根据所述当前生产工序信息在工序污染物数据库进行工序匹配，确定工序污染物信息集；基于所述工序污染物信息集进行污染物特征分析，得到污染物监测特征、监测手段信息；根据所述监测手段信息对生产工序过程进行监测，获得监测信息，并基于所述污染物监测特征对所述监测信息进行遍历，确定监测结果；当所述监测结果存在污染物时，且污染物满足污染物设定要求时，根据所述监测结果生成提醒信息；当未达到污染物设定要求时，将所述监测结果、所述当前生产工序信息录入生产链中，所述生产链为根据生产工序过程构建的生产数据链；基于所述生产链进行生产全过程污染物影响预测，当存在污染物影响时，生成污染监测提醒信息，实现了提前预警、及时发现及时处理，避免后续发现产品缺陷而产生品质影响，同时造成了加工资源的浪费，达到了通过对掩膜版生产过程中的实时监测，避免污染物对掩膜版成品造成影响，及时发现可以进行对应的调整处理，提高掩膜版品质同时避免资源的加工浪费的技术效果。从而解决了现有技术中主要通过后道工序进行缺陷检测，缺乏在生产过程中的有效监测手段，存在缺陷发现不及时而影响产品品质和造成资源浪费的技术问题。
附图说明
[0009]图1为本申请实施例的一种掩膜版生产过程中的污染物监测方法的流程示意图；图2为本申请实施例的一种掩膜版生产过程中的污染物监测方法中构建工序污染物数据库的流程示意图；图3为本申请实施例的一种掩膜版生产过程中的污染物监测方法中生成污染监测提醒信息的流程示意图；图4为本申请实施例的一种掩膜版生产过程中的污染物监测系统的结构示意图。
具体实施方式
[0010]本申请通过提供了一种掩膜版生产过程中的污染物监测方法及系统，用以解决现有技术中主要通过后道工序进行缺陷检测，缺乏在生产过程中的有效监测手段，存在缺陷发现不及时而影响产品品质和造成资源浪费的技术问题。
[0011]下面结合具体的实施例进行本专利技术方案的详细介绍。
[0012]实施例一
如图1所示，本申请实施例提供了一种掩膜版生产过程中的污染物监测方法，所述方法包括：S1：获得当前生产工序信息。
[0013]S2：根据所述当前生产工序信息在工序污染物数据库进行工序匹配，确定工序污染物信息集。
[0014]进一步的，如图2所示，所述方法包括：S81：获得历史加工检验数据库；S82：根据所述历史加工检验数据库进行缺陷案例提取，获得缺陷案例集；S83：根据所述缺陷案例集进行缺陷特征提取，得到缺陷特征信息，从所述缺陷特征信息中筛选污染物缺陷特征；S84：根据所述污染物缺陷特征与生产加工工序进行缺陷特征匹配分析，确定污染物
‑
工序映射关系；S85：将所有污染物
‑
工序映射关系进行整合，构建所述工序污染物数据库。
[0015]具体的，掩膜版的生产过程主要包括：前道工艺图像产生、显影、蚀刻、脱膜和尺寸测量，后道工艺缺陷检查、缺陷修补、清洗和加保护膜，当前生产工序信息即为当前监测的工序，每个工序在生产加工处理中，由于使用的原料、手段、环境等不同，存在着不同的污染物，因而在进行各工序的污染物监测时，应该结合该工序的特点进行针对性监测。工序污染物数据库为按照历史的经验数据进行汇总得到的污染物信息，其中包括了污染物的名称、识别特征、存在的生产工序信息。
[0016]可选的，工序污染物数据库的构建通过历史生产的记录数据库进行分析，也可以通过专家或者行业期刊等进行汇总确定。通过对历史加工检验数据库中的记录信息，对存在的缺陷案例进行分析，得到其中造成缺本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版生产过程中的污染物监测方法，其特征在于，包括：获得当前生产工序信息；根据所述当前生产工序信息在工序污染物数据库进行工序匹配，确定工序污染物信息集；基于所述工序污染物信息集进行污染物特征分析，得到污染物监测特征、监测手段信息；根据所述监测手段信息对生产工序过程进行监测，获得监测信息，并基于所述污染物监测特征对所述监测信息进行遍历，确定监测结果；当所述监测结果存在污染物时，且污染物满足污染物设定要求时，根据所述监测结果生成提醒信息；当未达到污染物设定要求时，将所述监测结果、所述当前生产工序信息录入生产链中，所述生产链为根据生产工序过程构建的生产数据链；基于所述生产链进行生产全过程污染物影响预测，当存在污染物影响时，生成污染监测提醒信息。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法包括：获得历史加工检验数据库；根据所述历史加工检验数据库进行缺陷案例提取，获得缺陷案例集；根据所述缺陷案例集进行缺陷特征提取，得到缺陷特征信息，从所述缺陷特征信息中筛选污染物缺陷特征；根据所述污染物缺陷特征与生产加工工序进行缺陷特征匹配分析，确定污染物
‑
工序映射关系；将所有污染物
‑
工序映射关系进行整合，构建所述工序污染物数据库。3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述监测手段信息包括：图像监测、检测仪监测，当所述监测手段信息为图像监测时，通过图像采集设备对生产加工件进行多角度图像采集，所述监测信息为多角度图像集；基于所述污染物监测特征进行卷积网络模型训练，获得图像识别模型；将所述多角度图像集输入所述图像识别模型中，获得污染物识别结果，将所述污染物识别结果作为所述监测结果。4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述通过图像采集设备对生产加工件进行多角度图像采集，还包括：在预设光线条件下对生产加工件进行旋转，通过图像采集设备对生产加工件进行旋转多角度采集，获得视频信息；对所述视频信息进行逐帧提取，获得画面集；根据所述画面集进行帧时间顺序排序。5.如权...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨伟，谢双军，
申请(专利权)人：中科卓芯半导体科技苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：