一种基于图像检测的掩膜版生产优化方法及系统技术方案

本发明专利技术公开了一种基于图像检测的掩膜版生产优化方法及系统，涉及掩膜版数据处理领域，其中，所述方法包括：得到生产参数信息；得到初始图像采集结果，根据定位特征识别结果进行初始图像采集结果的位置校正；对完成位置校正的初始图像采集结果进行分区域异常特征匹配，得到异常特征匹配结果，在第二图像采集时间进行目标掩膜版的图像采集，得到认证图像采集结果；结合初始图像采集结果进行同位置特征比对，获得新增特征信息；根据关联关系构建结果生成生产优化参数；基于生产优化参数进行掩膜版的生产优化。达到了提高掩膜版的图像检测的准确性，进而提高掩膜版的缺陷检测效果，有效地提升了掩膜版的生产质量等技术效果。效地提升了掩膜版的生产质量等技术效果。效地提升了掩膜版的生产质量等技术效果。

【技术实现步骤摘要】
一种基于图像检测的掩膜版生产优化方法及系统


[0001]本专利技术涉及掩膜版数据处理领域，具体地，涉及一种基于图像检测的掩膜版生产优化方法及系统。

技术介绍

[0002]掩膜版是半导体生产的重要材料之一。在掩膜版的实际生产过程中，不可避免地产生缺陷，这些缺陷在曝光时会对半导体产品产生极大的影响，容易导致半导体产品报废，造成经济损失。除此之外，缺陷还会损害掩膜版的寿命。缺陷已成为影响掩膜版生产的重要问题。
[0003]现有技术中，存在针对掩膜版的图像检测准确性不足，进而造成掩膜版的缺陷检测效果不佳，极大地降低了掩膜版的生产质量的技术问题。

技术实现思路

[0004]本申请提供了一种基于图像检测的掩膜版生产优化方法及系统，解决了现有技术中针对掩膜版的图像检测准确性不足，进而造成掩膜版的缺陷检测效果不佳，极大地降低了掩膜版的生产质量的技术问题。
[0005]鉴于上述问题，本申请提供了一种基于图像检测的掩膜版生产优化方法及系统。
[0006]第一方面，本申请提供了一种基于图像检测的掩膜版生产优化方法，其中，所述方法应用于一种基于图像检测的掩膜版生产优化系统，所述系统与图像采集装置通信连接，所述方法包括：采集目标掩膜版的标识信息，基于所述标识信息进行所述目标掩膜版的生产信息调用，得到生产参数信息；通过所述图像采集装置进行所述目标掩膜版的图像采集，得到初始图像采集结果，其中，所述初始图像采集结果具有第一时间标识；基于所述初始图像采集结果进行定位特征识别，基于定位特征识别结果进行所述初始图像采集结果的位置校正；对完成位置校正的所述初始图像采集结果进行分区域异常特征匹配，得到异常特征匹配结果，其中，所述异常特征匹配结果具有位置标识；根据所述第一时间标识生成第二图像采集时间，在所述第二图像采集时间通过所述图像采集装置进行所述目标掩膜版的图像采集，得到认证图像采集结果；基于所述认证图像采集结果和所述初始图像采集结果进行同位置特征比对，获得新增特征信息；基于所述新增特征信息和所述异常特征匹配结果构建所述生产参数信息的关联关系，并基于关联关系构建结果生成生产优化参数；基于所述生产优化参数进行掩膜版的生产优化。
[0007]第二方面，本申请还提供了一种基于图像检测的掩膜版生产优化系统，其中，所述系统与图像采集装置通信连接，所述系统包括：信息调用模块，所述信息调用模块用于采集目标掩膜版的标识信息，基于所述标识信息进行所述目标掩膜版的生产信息调用，得到生产参数信息；第一图像采集模块，所述第一图像采集模块用于通过所述图像采集装置进行所述目标掩膜版的图像采集，得到初始图像采集结果，其中，所述初始图像采集结果具有第一时间标识；识别校正模块，所述识别校正模块用于基于所述初始图像采集结果进行定位
特征识别，基于定位特征识别结果进行所述初始图像采集结果的位置校正；异常特征匹配模块，所述异常特征匹配模块用于对完成位置校正的所述初始图像采集结果进行分区域异常特征匹配，得到异常特征匹配结果，其中，所述异常特征匹配结果具有位置标识；第二图像采集模块，所述第二图像采集模块用于根据所述第一时间标识生成第二图像采集时间，在所述第二图像采集时间通过所述图像采集装置进行所述目标掩膜版的图像采集，得到认证图像采集结果；特征比对模块，所述特征比对模块用于基于所述认证图像采集结果和所述初始图像采集结果进行同位置特征比对，获得新增特征信息；生产优化参数确定模块，所述生产优化参数确定模块用于基于所述新增特征信息和所述异常特征匹配结果构建所述生产参数信息的关联关系，并基于关联关系构建结果生成生产优化参数；生产优化模块，所述生产优化模块用于基于所述生产优化参数进行掩膜版的生产优化。
[0008]本申请中提供的一个或多个技术方案，至少具有如下技术效果或优点：通过采集目标掩膜版的标识信息，确定生产参数信息；利用图像采集装置对目标掩膜版进行图像采集，获得初始图像采集结果，其中，所述初始图像采集结果具有第一时间标识；根据初始图像采集结果进行定位特征识别，基于定位特征识别结果进行初始图像采集结果的位置校正；对完成位置校正的所述初始图像采集结果进行分区域异常特征匹配，得到异常特征匹配结果；根据所述第一时间标识生成第二图像采集时间，在所述第二图像采集时间通过所述图像采集装置进行所述目标掩膜版的图像采集，得到认证图像采集结果；结合初始图像采集结果进行同位置特征比对，获得新增特征信息；根据所述新增特征信息和所述异常特征匹配结果构建所述生产参数信息的关联关系，并基于关联关系构建结果生成生产优化参数；并根据其进行掩膜版的生产优化。达到了提高掩膜版的图像检测的准确性，进而提高掩膜版的缺陷检测效果，有效地提升了掩膜版的生产质量；同时，提高掩膜版生产的智能性、科学性、自动化程度，实现掩膜版的生产优化的技术效果。
附图说明
[0009]图1为本申请一种基于图像检测的掩膜版生产优化方法的流程示意图；图2为本申请一种基于图像检测的掩膜版生产优化方法中对目标掩膜版重新进行图像采集的流程示意图；图3为本申请一种基于图像检测的掩膜版生产优化方法中通过清洗优化参数进行目标掩膜版的清洗处理的流程示意图；图4为本申请一种基于图像检测的掩膜版生产优化系统的结构示意图。
[0010]附图标记说明：信息调用模块11，第一图像采集模块12，识别校正模块13，异常特征匹配模块14，第二图像采集模块15，特征比对模块16，生产优化参数确定模块17，生产优化模块18。
具体实施方式
[0011]本申请通过提供一种基于图像检测的掩膜版生产优化方法及系统，解决了现有技术中针对掩膜版的图像检测准确性不足，进而造成掩膜版的缺陷检测效果不佳，极大地降低了掩膜版的生产质量的技术问题。达到了提高掩膜版的图像检测的准确性，进而提高掩膜版的缺陷检测效果，有效地提升了掩膜版的生产质量；同时，提高掩膜版生产的智能性、
科学性、自动化程度，实现掩膜版的生产优化的技术效果。
[0012]实施例一请参阅附图1，本申请提供一种基于图像检测的掩膜版生产优化方法，其中，所述方法应用于一种基于图像检测的掩膜版生产优化系统，所述系统与图像采集装置通信连接，所述方法具体包括如下步骤：步骤S100：采集目标掩膜版的标识信息，基于所述标识信息进行所述目标掩膜版的生产信息调用，得到生产参数信息；步骤S200：通过所述图像采集装置进行所述目标掩膜版的图像采集，得到初始图像采集结果，其中，所述初始图像采集结果具有第一时间标识；具体而言，通过对目标掩膜版进行信息采集，获得目标掩膜版的标识信息，并根据其调用目标掩膜版的生产信息，确定生产参数信息。进一步，利用图像采集装置对目标掩膜版进行图像采集，获得初始图像采集结果。其中，所述目标掩膜版可以为使用所述一种基于图像检测的掩膜版生产优化系统进行智能化生产优化的任意掩膜版。所述目标掩膜版的标识信息包括目标掩膜版的材料参数、结构参数、尺寸参数等数据信息。所述生产参数信息包括掩膜版的图形排列情况、尺寸精度、分辨率、生产环境要求信息、洁净度等数据信息。所述图像采集装置与所述一种基于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于图像检测的掩膜版生产优化方法，其特征在于，所述方法应用于优化控制系统，所述优化控制系统与图像采集装置通信连接，所述方法包括：采集目标掩膜版的标识信息，基于所述标识信息进行所述目标掩膜版的生产信息调用，得到生产参数信息；通过所述图像采集装置进行所述目标掩膜版的图像采集，得到初始图像采集结果，其中，所述初始图像采集结果具有第一时间标识；基于所述初始图像采集结果进行定位特征识别，基于定位特征识别结果进行所述初始图像采集结果的位置校正；对完成位置校正的所述初始图像采集结果进行分区域异常特征匹配，得到异常特征匹配结果，其中，所述异常特征匹配结果具有位置标识；根据所述第一时间标识生成第二图像采集时间，在所述第二图像采集时间通过所述图像采集装置进行所述目标掩膜版的图像采集，得到认证图像采集结果；基于所述认证图像采集结果和所述初始图像采集结果进行同位置特征比对，获得新增特征信息；基于所述新增特征信息和所述异常特征匹配结果构建所述生产参数信息的关联关系，并基于关联关系构建结果生成生产优化参数；基于所述生产优化参数进行掩膜版的生产优化。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：基于所述异常特征匹配结果进行特征分类，得到软缺陷特征集合和硬缺陷特征集合；基于所述软缺陷特征集合生成清洗优化参数；通过所述硬缺陷特征集合进行所述目标掩膜版的可用评价；当所述可用评价结果满足预期阈值时，则通过所述清洗优化参数进行所述目标掩膜版的清洗处理。3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：当所述可用评价结果不满足所述预期阈值时，则根据所述硬缺陷特征集合生成硬缺陷修复参数；基于所述硬缺陷修复参数进行所述目标掩膜版的硬缺陷修复，得到修复目标掩膜版；根据所述硬缺陷修复参数和所述清洗优化参数获得更新清洗优化参数；基于所述更新清洗优化参数进行所述修复目标掩膜版的清洗处理。4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：对同批次掩膜版的异常特征匹配结果和新增特征信息进行出现频次匹配，得到频次占比统计结果；基于大数据设定特征评价值集合；基于所述特征评价值集合进行新增特征信息和异常特征匹配结果的特征值计算，得到特征值计算结果；基于所述频次占比统计结果和所述特征值计算结果得到异常评价值；当所述异常评价值满足预期评价阈值时，则基于所述新增特征信息和所述异常特征匹配结果构建所述生产参...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨伟，谢双军，
申请(专利权)人：中科卓芯半导体科技苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：