一种制药设备制药过程筛网缺陷检测方法及系统技术方案

本发明专利技术公开了一种制药设备制药过程筛网缺陷检测方法及系统，涉及缺陷检测领域。主要包括：采集待检测筛网的表面图像进行灰度化以及傅里叶变换获得频谱图像；分别确定经过频谱图像的中心点且与频谱图像边缘相交的各线段，将所经过的高亮点的数量大于预设数量阈值的线段作为感兴趣线段，并获得每一感兴趣线段上包含的点的频谱变化曲线；根据频谱变化曲线中相邻极大值点间的距离，分别获得每一频谱变化曲线的规整程度值，以获得待检测筛网对应的异常程度值，从而判断待检测筛网是否存在缺陷。本发明专利技术实施例中无需针对不同直径的筛孔的筛网或不同类型的缺陷制作相应的匹配模板，也无需提前确定所采用的匹配模板，即可完成对筛网中缺陷的检测。中缺陷的检测。中缺陷的检测。

【技术实现步骤摘要】
一种制药设备制药过程筛网缺陷检测方法及系统


[0001]本申请涉及缺陷检测领域，具体涉及一种制药设备制药过程筛网缺陷检测方法及系统。

技术介绍

[0002]对于粉末状或颗粒状药物的制药过程，筛分过程是其中最重要的一环之一，而筛分过程主要通过筛网实现，因此，筛网的质量的好坏对于筛分后所得到的粉末状或颗粒状药物的质量具有重要影响。
[0003]筛网在生产过程中可能会出现破损、筛孔变形、筛孔大小不均匀等缺陷，使得存在缺陷的筛网可能被装配至制药设备中；此外，由于筛网的长期使用，也可能使得筛网中存在上述缺陷，因此，需要对制药设备在制药过程中筛网进行缺陷检测，以便及时将存在缺陷的筛网进行更换。
[0004]目前对于筛网进行缺陷检测，主要通过采集待测筛网的表面图像，并利用提前制作的筛孔模板进行模板匹配的方式，检测筛网中所存在的缺陷。
[0005]然而，通过模板匹配对筛网中缺陷进行检测的过程中，需要针对不同类型的缺陷制作不同的匹配模板，同时，不同直径的筛孔的筛网也需要采用不同的匹配模板，使得需要花费大量的人力及物力用于匹配模板的制作。

技术实现思路

[0006]针对上述技术问题，本专利技术提供了一种制药设备制药过程筛网缺陷检测方法及系统，通过获得待检测筛网的傅里叶变换后的频谱图像，并对频谱图像中感兴趣线段的频谱变化曲线中极大值点的间距进行分析，判断待检测筛网中是否存在缺陷，无需针对不同直径的筛孔的筛网或不同类型的缺陷制作相应的匹配模板，也无需提前确定所采用的匹配模板，从而提高了对筛网中缺陷的检测效率。
[0007]第一方面，本专利技术实施例提出了一种制药设备制药过程筛网缺陷检测方法，包括：采集待检测筛网的表面图像并进行灰度化获得灰度图像。
[0008]对灰度图像进行傅里叶变化获得频谱图像，并将频谱图像中频谱值不小于其邻域内各点的频谱值的点作为高亮点。
[0009]分别确定经过频谱图像的中心点且与频谱图像边缘相交的各线段，将所经过的高亮点的数量大于预设数量阈值的线段作为感兴趣线段，并分别获得每一感兴趣线段上包含的点的频谱变化曲线。
[0010]根据频谱变化曲线中相邻极大值点间的距离，分别获得每一频谱变化曲线的规整程度值，并基于所有频谱变化曲线的规整程度值的方差，获得待检测筛网对应的异常程度值，以利用异常程度值判断待检测筛网是否存在缺陷。
[0011]进一步的，制药设备制药过程筛网缺陷检测方法中，根据频谱变化曲线中相邻极大值点间的距离，分别获得每一频谱变化曲线的规整程度值，包括：
式中表示频谱变化曲线的规整程度值，表示频谱变化曲线对应的感兴趣线段的长度，表示频谱变化曲线对应的感兴趣线段所经过的高亮点的数量，表示以自然常数为底数的指数函数，为超参数，为频谱变化曲线中极大值点的数量，为频谱变化曲线中第n个相邻极大值点间的距离，为频谱变化曲线中相邻极大值点间的距离的平均值。
[0012]进一步的，制药设备制药过程筛网缺陷检测方法中，基于所有频谱变化曲线的规整程度值的方差，获得待检测筛网对应的异常程度值，包括：所有频谱变化曲线的规整程度值的方差越大，所获得的待检测筛网对应的异常程度值越大。
[0013]进一步的，制药设备制药过程筛网缺陷检测方法中，利用异常程度值判断待检测筛网是否存在缺陷，包括：判断异常程度值是否大于预设第一阈值，若判断结果为是，则待检测筛网存在缺陷，否则，待检测筛网不存在缺陷。
[0014]进一步的，制药设备制药过程筛网缺陷检测方法中，分别获得每一感兴趣线段上包含的点的频谱变化曲线后，所述方法还包括：判断相邻两极大值点之间的频谱变化曲线部分是否存在频谱值非0的点，若判断结果为是，则将相邻两极大值点中频谱值最小的极大值点剔除。
[0015]进一步的，制药设备制药过程筛网缺陷检测方法中，对灰度图像进行傅里叶变化获得频谱图像后，所述方法还包括：将频谱图像进行上下等分，选择等分后任一张图像作为新的频谱图像，并将等分前频谱图像的中心点作为新的频谱图像的中心点。
[0016]第二方面，本专利技术实施例提出了一种制药设备制药过程筛网缺陷检测系统，包括：存储器和处理器，所述处理器执行所述存储器存储的计算机程序，以实现本专利技术实施例中制药设备制药过程筛网缺陷检测方法。
[0017]本专利技术提供了一种制药设备制药过程筛网缺陷检测方法及系统，相比于现有技术，本专利技术实施例的有益效果在于：通过获得待检测筛网的傅里叶变换后的频谱图像，并对频谱图像中感兴趣线段的频谱变化曲线中极大值点的间距进行分析，从而获得待检测筛网中筛孔的周期性特征，进而判断待检测筛网中是否存在缺陷，无需针对不同直径的筛孔的筛网或不同类型的缺陷制作相应的匹配模板，也无需提前确定所采用的匹配模板，从而提高了对筛网中缺陷的检测效率。
附图说明
[0018]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可
以根据这些附图获得其他的附图。
[0019]图1是本专利技术实施例提供的一种制药设备制药过程筛网缺陷检测方法的流程示意图；图2是本专利技术实施例中筛网的灰度图像的示意图；图3是本专利技术实施例中筛网的灰度图像经过傅里叶变换后的频谱图像；图4是本专利技术实施例中正常筛网的感兴趣线段的频谱变化曲线的示意图；图5是本专利技术实施例中存在缺陷的筛网的感兴趣线段的频谱变化曲线的示意图。
具体实施方式
[0020]为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0021]以下描述中，为了说明而不是为了限定，提出了诸如特定系统结构、技术之类的具体细节，以便透彻理解本申请实施例。然而，本领域的技术人员应当清楚，在没有这些具体细节的其它实施例中也可以实现本申请。在其它情况中，省略对众所周知的系统、装置、电路以及方法的详细说明，以免不必要的细节妨碍本申请的描述。
[0022]术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征；在本实施例的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
[0023]本专利技术实施例提供了一种制药设备制药过程筛网缺陷检测方法，如图1所示，包括：步骤S101、采集待检测筛网的表面图像并进行灰度化获得灰度图像。
[0024]对于粉末状制剂以及颗粒状制剂的制造过程，筛分过程都起着重要的作用，而筛分过程主要通过筛网实现，因此，筛网是否存在缺陷对于所制造的药物的质量存在影响。
[0025]在制本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种制药设备制药过程筛网缺陷检测方法，其特征在于，包括：采集待检测筛网的表面图像并进行灰度化获得灰度图像；对灰度图像进行傅里叶变化获得频谱图像，并将频谱图像中频谱值不小于其邻域内各点的频谱值的点作为高亮点；分别确定经过频谱图像的中心点且与频谱图像边缘相交的各线段，将所经过的高亮点的数量大于预设数量阈值的线段作为感兴趣线段，并分别获得每一感兴趣线段上包含的点的频谱变化曲线；根据频谱变化曲线中相邻极大值点间的距离，分别获得每一频谱变化曲线的规整程度值，并基于所有频谱变化曲线的规整程度值的方差，获得待检测筛网对应的异常程度值，利用异常程度值判断待检测筛网是否存在缺陷。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据频谱变化曲线中相邻极大值点间的距离，分别获得每一频谱变化曲线的规整程度值，包括：式中表示频谱变化曲线的规整程度值，表示频谱变化曲线对应的感兴趣线段的长度，表示频谱变化曲线对应的感兴趣线段所经过的高亮点的数量，表示以自然常数为底数的指数函数，为超参数，为频谱变化曲线中极大值点的数量，为频谱变化曲线中第n个相邻极大值点间的距离，为频谱变化曲线中相邻极大值点间的距离的平均值。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，基于...

【专利技术属性】
技术研发人员：王云，
申请(专利权)人：南通鑫鑫医药药材有限公司，
类型：发明
国别省市：