玻璃及其扫光方法、盖板和电子设备技术

本发明专利技术涉及一种玻璃及其扫光方法、盖板和电子设备。按质量百分比计，玻璃包括：SiO267％～72％、Al2O31％～2％、Na2O 14％～18％、K2O 0～1％、CaO 3％～5.8％及MgO 5％～8％；玻璃的抗侵蚀系数Res≥0.353，式中，各氧化物表示其质量百分比。上述玻璃通过优化玻璃的组成，在普通钠钙玻璃的基础上，适当降低氧化钙的含量，并引入适量氧化铝，使得玻璃的耐侵蚀性能提高，能够用含有氟化合物的抛光粉进行扫光，使得扫光后的玻璃不发雾。使得扫光后的玻璃不发雾。使得扫光后的玻璃不发雾。

【技术实现步骤摘要】
玻璃及其扫光方法、盖板和电子设备


[0001]本专利技术涉及玻璃领域，特别是涉及一种玻璃及其扫光方法、盖板和电子设备。

技术介绍

[0002]玻璃应用于2.5D或3D盖板时，需要先进行CNC加工形成弧边，然后用扫光机对弧边进行扫光。目前扫光过程中所用的抛光粉的主要成分为氧化铈(CeO2)，一般还含有其它稀土氧化物，同时，为了加快玻璃减薄速率，通常会加入少量的氟化物。扫光过程中这些氟化物会对玻璃表面造成侵蚀，从而导致在强光灯下可观察到发雾，影响显示效果。

技术实现思路

[0003]基于此，有必要提供一种耐侵蚀性能好，用含有氟化物的抛光粉扫光后不发雾的玻璃。
[0004]此外，还有必要提供一种该玻璃的扫光方法以及由该玻璃处理得到的盖板、包括该盖板的电子设备。
[0005]一种玻璃，按质量百分比计，包括：SiO
2 67％～72％、Al2O
3 1％～2％、Na2O 14％～18％、K2O 0～1％、CaO 3％～5.8％及MgO 5％～8％；
[0006]所述玻璃的抗侵蚀系数Res≥0.353，式中，各氧化物表示其质量百分比。
[0007]在其中一个实施例中，所述玻璃的抗侵蚀系数Res为0.353～0.403。
[0008]在其中一个实施例中，按质量百分比计，包括：SiO
2 70％～72％、Al2O
3 1.1％～1.5％、Na2O 14％～16％、K2O 0.2％～0.8％、CaO 3.5％～5％及MgO 5.5％～7％。
>[0009]一种玻璃的扫光方法，包括如下步骤：
[0010]提供待扫光的玻璃，所述待扫光的玻璃为上述的玻璃；及
[0011]用含有氟化物的抛光粉对所述待扫光的玻璃进行扫光。
[0012]在其中一个实施例中，扫光过程中的压力为0.1MPa～0.2MPa；及/或，
[0013]扫光的时间为4min～6min。
[0014]在其中一个实施例中，按质量百分比计，所述含有氟化物的抛光粉包括：CeO
2 66％～72％、La2O
3 20％～25％以及氟化物5％～10％。
[0015]在其中一个实施例中，在所述用含有氟化物的抛光粉对所述待扫光的玻璃进行扫光的步骤中，将所述含有氟化物的抛光粉配制成抛光液，所述抛光液的密度为1.03g/cm3～1.08g/cm3。
[0016]在其中一个实施例中，在所述用含有氟化物的抛光粉对所述待扫光的玻璃进行扫光的步骤之前，还包括：
[0017]对所述待扫光的玻璃进行CNC加工，以在所述待扫光的玻璃上形成弧边。
[0018]在其中一个实施例中，所述弧边的宽度为1mm～1.5mm。
[0019]一种盖板，经上述的玻璃的扫光方法处理后得到。
[0020]在其中一个实施例中，所述盖板为2.5D盖板或3D盖板；及/或，
[0021]所述盖板的雾度≤1％。
[0022]一种电子设备，包括上述的盖板。
[0023]上述玻璃通过优化玻璃的组成，在普通钠钙玻璃的基础上，适当降低氧化钙的含量，并引入适量氧化铝，使得玻璃的耐侵蚀性能显著提高，能够用含有氟化合物的抛光粉进行扫光，扫光后的玻璃不发雾。
附图说明
[0024]图1为一实施方式的玻璃的扫光方法的工艺流程图；
[0025]图2为在暗室中强光灯下，测试扫光后玻璃弧边是否扫亮的示意图；
[0026]图3为在暗室中强光灯下，测试扫光后玻璃是否发雾的示意图。
具体实施方式
[0027]为了便于理解本专利技术，下面将结合具体实施方式对本专利技术进行更全面的描述。具体实施方式中给出了本专利技术的较佳的实施例。但是，本专利技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本专利技术的公开内容的理解更加透彻全面。
[0028]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体地实施例的目的，不是旨在于限制本专利技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
[0029]在本文中，“第一方面”、“第二方面”、“第三方面”、“第四方面”等仅用于描述目的，不能理解为指示或暗示相对重要性或数量，也不能理解为隐含指明所指示的技术特征的重要性或数量。而且“第一”、“第二”、“第三”、“第四”等仅起到非穷举式的列举描述目的，应当理解并不构成对数量的封闭式限定。
[0030]在本文中，以开放式描述的技术特征中，包括所列举特征组成的封闭式技术方案，也包括包含所列举特征的开放式技术方案。
[0031]在本文中，涉及到数值区间，如无特别说明，上述数值区间内视为连续，且包括该范围的最小值及最大值，以及这种最小值与最大值之间的每一个值。进一步地，当范围是指整数时，包括该范围的最小值与最大值之间的每一个整数。此外，当提供多个范围描述特征或特性时，可以合并该范围。换言之，除非另有指明，否则本文中所公开之所有范围应理解为包括其中所归入的任何及所有的子范围。
[0032]针对玻璃扫光后发雾的问题，目前主要有以下解决方案：(1)用不含有氟化物的高纯度抛光粉进行扫光，但目前市场上主流的抛光粉都含有一定量的氟化物，不含有氟化物的抛光粉价格较高，导致成本增加。另外，若采用不含有氟化物的抛光粉来进行扫光，则一方面扫光效率降低，需要更长的扫光时间来保证抛光效果，这增加了时间成本；另一方面，由于失去了氟化物的辅助抛光效果，抛光粉的消耗量会增大，进一步增加成本。(2)减少扫
光时间，若减少扫光时间，则玻璃表面扫光质量不达标，无法使用。(3)调整玻璃组成。玻璃的发雾程度与玻璃组成高度相关，有些组成的玻璃相同的扫光条件下不发雾或仅轻微发雾，如高铝玻璃的发雾程度相对于较轻，但是其成本也较高，仅适用于高端产品，应用面受限。
[0033]针对上述问题，本专利技术从优化玻璃组成的方面入手，经过大量实验，提供了一种在成本低的情况下，使玻璃耐侵蚀性能提高，扫光后的玻璃不发雾的玻璃。
[0034]具体地，本专利技术的第一方面提供一实施方式的玻璃，按质量百分比计，包括：SiO
2 67％～72％、Al2O
3 1％～2％、Na2O 14％～18％、K2O 0～1％、CaO 3％～5.8％及MgO 5％～8％；
[0035]玻璃的抗侵蚀系数Res≥0.353，上式中，各氧化物均表示其质量百分比。
[0036]二氧化硅(SiO2)是形成玻璃骨架的主要成分，是必需的成分，同时它对于玻璃的强度、化学稳定性等具有提高的作用，但会增加玻璃的黏度。在本实施方式的玻璃中，SiO2的质量百分比优选为67％～72％。若SiO2的质量百分比不足67％，则玻璃的强度和耐候性不够，且玻璃不够致密；若SiO2的质量百分比超过72％，玻璃变得难熔，且容易析晶。在一个具体的示例中，Si本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种玻璃，其特征在于，按质量百分比计，包括：SiO
2 67％～72％、Al2O31％～2％、Na2O 14％～18％、K2O 0～1％、CaO 3％～5.8％及MgO 5％～8％；所述玻璃的抗侵蚀系数Res≥0.353，式中，各氧化物表示其质量百分比。2.根据权利要求1所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃的抗侵蚀系数Res为0.353～0.403。3.根据权利要求1或2所述的玻璃，其特征在于，按质量百分比计，包括：SiO
2 70％～72％、Al2O
3 1.1％～1.5％、Na2O 14％～16％、K2O 0.2％～0.8％、CaO 3.5％～5％及MgO 5.5％～7％。4.一种玻璃的扫光方法，其特征在于，包括如下步骤：提供待扫光的玻璃，所述待扫光的玻璃为权利要求1～3任一项所述的玻璃；及用含有氟化物的抛光粉对所述待扫光的玻璃进行扫光。5.根据权利要求4所述的玻璃的扫光方法，其特征在于，扫光过程中的压力为0.1MPa～0.2MPa；及/或，扫光的时间为4min～6min。6.根据权利要求4所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：戴斌，梁益彬，平文亮，肖子凡，陈自发，刘红刚，
申请(专利权)人：中国南玻集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：