【技术实现步骤摘要】
一种双通道半导体真空焊接炉
[0001]本技术属于半导体焊接
,尤其涉及一种双通道半导体真空焊接炉。
技术介绍
[0002]半导体器件是导电性介于良导电体与绝缘体之间,利用半导体材料特殊电特性来完成特定功能的电子器件,可用来产生、控制、接收、变换、放大信号和进行能量转换。
[0003]半导体器件焊接通常需使用回流焊进行焊接,利用氮气加热到足够高的温度后吹向已经贴好元件的线路板,让元件两侧的焊料融化后与线路板粘结。这种工艺的优势是温度易于控制,焊接过程中还能避免氧化,制造成本也更容易控制。现有的回焊炉,直接利用传送带,将待焊接的产品送至回焊炉内,并依次经预热区、保温区、焊接区、冷却区四个温区的作用后形成完整的焊接点,焊接完毕后直接从回焊炉的出料端取出即可,由于半导体器件较小,焊接过程中,极易移动,因此,半导体焊接过程中需将半导体器件和线路板放在托盘上并盖上盖板,使半导体器件和电路板位于盖板与托盘之间,而现有的回焊炉无法控制产品在回焊炉中各个区间的停留时间,也就无法准确控制各个区间的加热或冷却时间,同时,采用人工的 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种双通道半导体真空焊接炉,包括机架,其特征在于,所述机架的真空腔内横向设有两对送料钢带,每对所述送料钢带的下方设有送料机构,所述机架的出料端两对立侧分别设有收料机构和出料架,所述出料架上横向并排设有两个散热出料机构,所述机架的出料端纵向设有出料滑轨,所述出料滑轨靠近所述收料机构的一端滑动连接有收料机械手,所述出料滑轨靠近所述出料架的一端滑动连接有出料机械手,所述机架上设有用于给所述真空腔抽真空的机构。2.根据权利要求1所述的双通道半导体真空焊接炉,其特征在于,所述真空腔的顶部进料端横向并排设有多组加热组件,所述真空腔的顶部出料端横向并排设有多组冷却组件。3.根据权利要求2所述的双通道半导体真空焊接炉,其特征在于,同一组所述加热组件包括多对加热板和一加热管,多对所述加热板沿纵向并列设置,所述加热管位于同一对所述加热板之间。4.根据权利要求2所述的双通道半导体真空焊接炉,其特征在于,同一组所述冷却组件包括多对冷却板和一冷却管,多对所述冷却板沿纵向并列设置,所述冷却管位于同一对所述冷却板之间。5.根据权利要求2所述的双通道半导体真空焊接炉,其特征在于,所述机架上铰接有炉盖,所述炉盖转动盖设于多组加热组件和多组冷却组...
【专利技术属性】
技术研发人员:黄雄,刘卫,
申请(专利权)人:深圳市昌富祥智能科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。