一种自动调焦曝光方法技术

本发明专利技术提出一种自动调焦曝光方法，先在曝光前通过高度检测单元根据曝光条带的分布扫描获得多组采样点的高度数据，然后依据每组采样点的高度数据，通过线性拟合获得对应条带的调焦参考线，最后根据调焦参考线实时调节调焦棱镜组件以实现曝光镜头组件的自动调焦曝光，通过线性拟合使得调焦更稳定更精准。通过线性拟合使得调焦更稳定更精准。通过线性拟合使得调焦更稳定更精准。

【技术实现步骤摘要】
一种自动调焦曝光方法


[0001]本专利技术涉及直写式曝光
，尤其是涉及一种自动调焦曝光方法。

技术介绍

[0002]直写式曝光是利用数字光处理技术在工件表面曝光形成电路图形的一种直接成像技术，相较于掩模式曝光效率显著提高、适应性更强，且成本优势明显，能够满足集成电路、半导体器件以及印刷电路板等多种产品的加工需求。
[0003]现有的直写式曝光系统制作的电路图形的线宽最高只能做到12um左右，已经不能满足更高精度的应用需求。为了能够得到更精确的图形、更精细的线条，需要曝光系统在高速扫描过程中，保证待曝光的工件表面总是处于曝光镜头的焦点上，但实际中，由于运动平台安装时不可能是完全水平状态，而是存在一定的倾角，会导致工件产生整体的倾斜，并且由于工件表面不可能是理想平面，即便通过运动平台进行吸平以及压板进行压边，还是会存在部分不平的区域，这些情况最终都会导致工件表面存在部分区域会偏离焦点较大距离，在该区域上曝光产生的线条就不会是理论线宽值，而是大于理论线宽，进一步导致此区域的图形和相邻区域拼接时发生拼接不良现象，影响整体的曝光精度。为了本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种自动调焦曝光方法，其特征在于：包括如下步骤：S10、曝光前，高度检测单元根据曝光条带的分布扫描获得多组采样点的高度数据，每组采样点对应一个条带区域的高度数据；S20、依据每组采样点的高度数据，通过线性拟合获得对应条带的调焦参考线；S30、根据调焦参考线实时调节调焦棱镜组件以实现曝光镜头组件的自动调焦曝光。2.如权利要求1所述的自动调焦曝光方法，其特征在于：步骤S10中，每组采样点沿扫描方向等距分布，每组采样点的首尾两点之间的距离大于一个条带长度。3.如权利要求1所述的自动调焦曝光方法，其特征在于：步骤S10中，每组采样点沿扫描方向等距分布，每组采样点全部位于条带中，每组采样点的首尾两点分别位于条带的起始端和终端附近。4.如权利要求1所述的自动调焦曝光方法，其特征在于：步骤S20中，依据每组采样点的高度数据，通过线性拟合获得对应条带的调焦参考线具体为：首先，根据高度数据和标准焦距值确定各采样点的离焦数据，以初始N个采样点的扫描方向坐标和离焦数据通过线性拟合得到第一段线性高度线，再以第一段线性高度线的终点为第二段线性高度线的起点，第二线段性高度线的起点和其后的N
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1个采样点通过线性拟合得到第二段线性高度线，以此类推直至拟合出所有线性高度线，所有线性高度线依次连接形成调焦参考线，其中...

【专利技术属性】
技术研发人员：钱文泽，吕亮，徐国栋，马运军，张雷，
申请(专利权)人：源卓微电子技术上海有限公司，
类型：发明
国别省市：