用于照明基板的系统技术方案

一种用于照明基板的系统，所述系统可包括声光装置(AOD)和光学扩展量扩大光学模块。所述AOD可包括具有被照明区域的表面；其中所述被照明区域被配置为接收准直输入束，同时被馈送控制信号，所述控制信号致使所述被照明区域输出被照明区域输出束，所述被照明区输出束被准直并表现出在扫描周期期间扫描偏转角范围的偏转角。所述光学扩展量扩大光学模块被配置为将所述被照明区输出束转换为准直输出束，所述准直输出束入射在输出孔径上；其中所述准直输出束具有超过被照明区输出束的宽度的宽度；并且其中所述光学扩展量扩大光学模块包括达曼光栅，所述达曼光栅被配置为输出衍射图案，每个衍射图案包括覆盖连续角范围的衍射级。每个衍射图案包括覆盖连续角范围的衍射级。每个衍射图案包括覆盖连续角范围的衍射级。

【技术实现步骤摘要】
用于照明基板的系统
[0001]交叉引用
[0002]本申请要求提交于2021年5月18日的美国申请号17/323,911的优先权。该申请的公开内容出于所有目的全文以引用方式并入本文。


[0003]本申请涉及一种照明系统，并且具体地涉及一种用于照明基板的系统。

技术介绍

[0004]作为半导体制造工艺中的品质保证工艺的一部分，多种系统被用于半导体晶片的自动化检查，以便检测在晶片表面上的缺陷、颗粒和/或图案。当前检测系统的目标是具有高分辨率和高对比度成像，以便提供亚微米半导体制造工艺所需的可靠性和准确度。然而，具有准许大批量处理量的高速工艺也是重要的，使得品质和保证工艺就不会成为晶片生产工艺的瓶颈。因此，光学检查系统必须使用更短波长、更高的数值孔径光学器件和高密度图像捕获技术，以便使得能够以将满足期望的产品处理量要求的足够高的速率处理来自此类系统的数据。
[0005]更高的数值孔径值允许可视化更精细的细节。更高的视场允许增加系统的处理量。
[0006]美国专利7,053,395示出了一种晶片检测系统，该晶片检测系统包括具有有源区的行移透镜声光装置。输入束照明整个有源区，并且RF输入信号被施加到有源区以选择性地在有源区中产生多个行移透镜。多个行移透镜将输入束聚焦以在产生的行移透镜中的每一者的相应焦点处产生多个飞点束。有源区的被照明表面的面积远超过多个行移透镜的总面积，由此降低系统的能源使用效率。
[0007]这导致晶片检测的总体光学扩展量降低，由此限制低数值孔径(NA) 和/或小视场。
[0008]越来越需要提供用于将束聚焦在基板上的高度有效的系统和方法。

技术实现思路

[0009]可提供一种用于照明基板的方法和系统。系统包括：声光装置(AOD)；以及光学扩展量扩大光学模块；其中AOD包括具有被照明区域的表面；其中被照明区域被配置为接收准直输入束，同时被馈送控制信号，控制信号致使被照明区域输出被照明区域输出束，被照明区输出束被准直并表现出在扫描周期期间扫描偏转角范围的偏转角；并且其中光学扩展量扩大光学模块被配置为将被照明区输出束转换为准直输出束，准直输出束入射在输出孔径上；其中准直输出束具有超过被照明区输出束的宽度的宽度；并且其中光学扩展量扩大光学模块包括达曼光栅，达曼光栅被配置为输出衍射图案，每个衍射图案包括覆盖连续角范围的衍射级。
附图说明
[0010]在说明书的结论部分中特别地指出并明确地要求保护被视为本公开内容的实施例的主题。然而，当阅读附图时，可参考以下详细描述来最佳地理解本公开内容的关于组织和操作方法两者方面的实施例及其目标、特征和优点，在附图中：
[0011]图1示出了在一时间点上的系统的示例；
[0012]图2示出了在另一时间点上的系统的示例；
[0013]图3示出了用于照明基板的方法的示例；
[0014]图4示出了在表示扫描周期的开始的时间点上的系统的示例；
[0015]图5示出了在表示扫描周期的结束的时间点上的系统的示例；并且
[0016]图6示出了用于照明基板的方法的示例。
具体实施方式
[0017]在以下详细描述中，阐述了许多具体细节，以便提供对本公开内容的实施例的透彻理解。
[0018]然而，本领域技术人员将理解，本公开内容的当前实施例可在没有这些具体细节的情况下实践。在其他情况下，没有详细描述众所周知的方法、程序和部件，以免混淆本公开内容的当前实施方式。
[0019]在说明书的结论部分中特别地指出并明确地要求保护被视为本公开内容的实施例的主题。然而，当阅读附图时，可参考以下详细描述来最佳地理解本公开内容的关于组织和操作方法两者方面的实施例及其目标、特征和优点。
[0020]将了解，为了简洁地且清楚地说明，附图示出的要素不一定按比例绘制。例如，为了清楚起见，该要素中的一些的尺寸可相对于其他要素被夸大。另外，在认为适当时，附图标记在附图间可重复以指示对应或相似的要素。
[0021]由于本公开内容的所示出的实施例大部分都可使用本领域技术人员已知的电子部件和电路来实现，因此，为了理解和了解本公开内容的当前实施例的基础概念并且为了避免本公开内容的当前实施例的教导内容的混乱或歧义，除了如以上所说明的被认为必要的解释之外，不在任何更大的范围上对细节进行解释。
[0022]说明书中对方法的任何引用都应当加以必要变更以适用于能够执行该方法的系统。
[0023]说明书中对系统的任何引用都应当加以必要变更以适用于可由该系统执行的方法。
[0024]术语“和/或”意指附加地或替代地。
[0025]可提供可增加光学扩展量并允许系统具有更高的处理量并且还可表现出更好的能量效率的系统和方法。
[0026]为了解释简单，可使用相同的附图标记来描述单个元件和多个所述元件。
[0027]应当注意，这些附图示出了在某个时间点上的束。特定附图的单个束可随时间而被扫描或以其他方式改变，并且可称为一个束或多个束。
[0028]单个AOD
[0029]图1和图2示出了在两个不同时间点上的系统10。这两个时间点代表扫描周期的开
始和结束。该系统可在扫描周期期间扫描基板的区(例如，线)。系统可在多个扫描周期期间执行多个扫描。在多个扫描周期期间，可在系统(或至少系统的光学器件)与基板之间引入移动。
[0030]系统10可被配置为照明基板。系统10还可被配置为检测来自基板的辐射。系统10还可被配置为评估基板，例如执行基板的检查、缺陷检测和 /或任何其他评估。
[0031]系统的照明路径可执行多种类型的扫描，其中一种扫描可转换为另一种扫描。图1示出了角扫描(参见代表角扫描的箭头11和14)和线性扫描 (参见代表线性扫描的箭头12、13、15和16)。线性扫描可沿附图的x 轴或沿任何其他轴线。图1示出的任何角范围可以是任何值。任何线性扫描都可沿任何长度的扫描路径扫描。
[0032]在图1中，系统10被示出为包括光源20、由从控制器94发送的控制信号77控制的声光装置(AOD)30、光学扩展量扩大光学模块70和输出模块75。
[0033]AOD 30具有表面31，该表面31具有被照明区32。被照明区32被配置为在AOD被馈送控制信号77时接收准直输入束(来自光源20)。
[0034]被照明区32的面积是表面31的面积的一小部分(例如，少于30％、 20％、10％、5％、1％)。辐射源可被配置为避免照明在被照明区之外的表面。
[0035]控制信号77致使被照明区32输出被照明区输出束82，该被照明区输出束被准直并表现出在扫描周期期间扫描偏转角范围(参见箭头11)的偏转角。
[0036]图1中示出了偏转角范围的最右偏转角。图2中示出了偏转角范围的最左偏转角。
[0037]偏转角范围可小于1度或大于1度、5度、10度、20度、25度、30 度、35度、40度、45度、50度甚至更本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于照明基板的系统，其特征在于，所述系统包括：声光装置(AOD)；以及光学扩展量扩大光学模块；其中所述AOD包括具有被照明区域的表面；其中所述被照明区域被配置为接收准直输入束，同时被馈送控制信号，所述控制信号致使所述被照明区域输出被照明区域输出束，所述被照明区输出束被准直并表现出在扫描周期期间扫描偏转角范围的偏转角；并且其中所述光学扩展量扩大光学模块被配置为将所述被照明区输出束转换为准直输出束，所述准直输出束入射在输出孔径上；其中所述准直输出束具有超过被照明区输出束的宽度的宽度；并且其中所述光学扩展量扩大光学模块包括达曼光栅，所述达曼光栅被配置为输出衍射图案，每个衍射图案包括覆盖连续角范围的衍射级。2.根据权利要求1所述的系统，其中所述光学扩展量扩大光学模块包括柱面透镜，所述柱面透镜被配置为将所述被照明区输出束聚焦到所述达曼光栅上以提供聚焦束；其中在所述扫描周期期间，不同的偏转角的聚焦束入射在所述达曼光栅的不同位置上。3.根据权利要求2所述的系统，其中所述光学扩展量扩大光学模块包括球面透镜，其中所述达曼光栅位于所述球面透镜的后焦平面处；其中所述达曼光栅被配置为用所述衍射图案照明所述球面透镜；并且其中在所述扫描周期...

【专利技术属性】
技术研发人员：M，
申请(专利权)人：应用材料以色列公司，
类型：新型
国别省市：