本实用新型专利技术公开了一种可调稳压集成电路用光刻蚀装置，涉及集成电路技术领域，为解决现有集成电路光刻蚀过程中，容易因散热口与进出口漏光而影响光刻蚀效果的问题。所述光刻蚀机构本体两侧的外壁均设置有散热通孔，所述散热通孔靠近内部的一端设置有遮光通道，所述遮光通道内壁两侧均设置有插接板，所述插接板的中间位置处设置有遮光透气布，所述光刻蚀机构本体的下方设置有抽拉槽，所述抽拉槽内部上方的两侧均设置有遮光伸缩挡板，所述遮光伸缩挡板的上方设置有支撑杆，所述支撑杆的一端设置有转轴，所述转轴的下端设置有伸缩杆，所述伸缩杆的下方设置有吸盘组件，所述光刻蚀机构本体前端面靠近下方的位置处设置有进出口。体前端面靠近下方的位置处设置有进出口。体前端面靠近下方的位置处设置有进出口。
【技术实现步骤摘要】
一种可调稳压集成电路用光刻蚀装置
[0001]本技术涉及集成电路
，具体为一种可调稳压集成电路用光刻蚀装置。
技术介绍
[0002]集成电路是一种微型电子器件或部件。采用一定的工艺，把一个电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等元件及布线互连一起，制作在一小块或几小块半导体晶片或介质基片上，然后封装在一个管壳内，成为具有所需电路功能的微型结构。
[0003]但是，现有集成电路光刻蚀过程中，容易因散热口与进出口漏光而影响光刻蚀效果；因此，不满足现有的需求，对此我们提出了一种可调稳压集成电路用光刻蚀装置。
技术实现思路
[0004]本技术的目的在于提供一种可调稳压集成电路用光刻蚀装置，以解决上述
技术介绍
中提出的现有集成电路光刻蚀过程中，容易因散热口与进出口漏光而影响光刻蚀效果的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种可调稳压集成电路用光刻蚀装置，包括光刻蚀机构本体，所述光刻蚀机构本体两侧的外壁均设置有散热通孔，所述散热通孔靠近内部的一端设置有遮光通道，所述遮光通道内壁两侧均设置有插接板，所述插接板的中间位置处设置有遮光透气布，所述光刻蚀机构本体的下方设置有抽拉槽，所述抽拉槽内部上方的两侧均设置有遮光伸缩挡板。
[0006]优选的，所述遮光伸缩挡板的上方设置有支撑杆，所述支撑杆的一端设置有转轴，所述转轴的下端设置有伸缩杆，所述伸缩杆的下方设置有吸盘组件。
[0007]优选的，所述光刻蚀机构本体前端面靠近下方的位置处设置有进出口，所述抽拉槽的两侧均设置有抽拉滑轨。
[0008]优选的，所述抽拉槽的中间位置处设置有放置槽，所述放置槽的内部设置有集成电路板。
[0009]优选的，所述光刻蚀机构本体内部的上方设置有上导轨组件，所述上导轨组件的前端设置有曝光机构，所述曝光机构后端的外壁设置有上电动滑块，且曝光机构通过上电动滑块与上导轨组件滑动连接。
[0010]优选的，所述光刻蚀机构本体前端面的外壁设置有显示屏。
[0011]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0012]1、本技术通过在散热通孔处安装遮光通道，在光刻蚀机构内安装遮光伸缩挡板，遮光通道内用于安装插接板以及遮光透气布，使其组成一个有效的遮挡外部光线的结构，在内部曝光的过程中下方光线通过遮光伸缩挡板进行伸缩展开，起到遮光的效果，使集成电路板在光刻蚀曝光过程中不会受到外界光的影响而导致曝光效果下降，影响光刻蚀效果的情况出现。
[0013]2、支撑杆用于起到支撑固定的作用，转轴可调节伸缩杆的角度，伸缩杆可带动下方的吸盘组件将集成电路板进行吸附，使其能够伸缩移动至遮光伸缩挡板上方，达到分隔下方漏光区域，减少外部光线影响的效果。
附图说明
[0014]图1为本技术的整体结构示意图；
[0015]图2为本技术的光刻蚀机构本体局部结构示意图；
[0016]图3为本技术的遮光通道局部结构示意图；
[0017]图中：1、光刻蚀机构本体；2、进出口；3、抽拉槽；4、放置槽；5、显示屏；6、散热通孔；7、上导轨组件；8、上电动滑块；9、曝光机构；10、遮光通道；11、集成电路板；12、支撑杆；13、转轴；14、伸缩杆；15、吸盘组件；16、遮光伸缩挡板；17、插接板；18、遮光透气布；19、抽拉滑轨。
具体实施方式
[0018]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0019]请参阅图1
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3，本技术提供的一种实施例：一种可调稳压集成电路用光刻蚀装置，包括光刻蚀机构本体1，光刻蚀机构本体1两侧的外壁均设置有散热通孔6，散热通孔6靠近内部的一端设置有遮光通道10，遮光通道10内壁两侧均设置有插接板17，插接板17的中间位置处设置有遮光透气布18，光刻蚀机构本体1的下方设置有抽拉槽3，抽拉槽3内部上方的两侧均设置有遮光伸缩挡板16，通过在散热通孔6处安装遮光通道10，在光刻蚀机构内安装遮光伸缩挡板16，遮光通道10内用于安装插接板17以及遮光透气布18，使其组成一个有效的遮挡外部光线的结构，在内部曝光的过程中下方光线通过遮光伸缩挡板16进行伸缩展开，起到遮光的效果，使集成电路板在光刻蚀曝光过程中不会受到外界光的影响而导致曝光效果下降，影响光刻蚀效果的情况出现。
[0020]进一步，遮光伸缩挡板16的上方设置有支撑杆12，支撑杆12的一端设置有转轴13，转轴13的下端设置有伸缩杆14，伸缩杆14的下方设置有吸盘组件15，支撑杆12用于起到支撑固定的作用，转轴13可调节伸缩杆14的角度，伸缩杆14可带动下方的吸盘组件15将集成电路板11进行吸附，使其能够伸缩移动至遮光伸缩挡板16上方，达到分隔下方漏光区域，减少外部光线影响的效果。
[0021]进一步，光刻蚀机构本体1前端面靠近下方的位置处设置有进出口2，抽拉槽3的两侧均设置有抽拉滑轨19，抽拉滑轨19可方便用户将抽拉槽3拉出与推入。
[0022]进一步，抽拉槽3的中间位置处设置有放置槽4，放置槽4的内部设置有集成电路板11，放置槽4用于放置集成电路板11。
[0023]进一步，光刻蚀机构本体1内部的上方设置有上导轨组件7，上导轨组件7的前端设置有曝光机构9，曝光机构9后端的外壁设置有上电动滑块8，且曝光机构9通过上电动滑块8与上导轨组件7滑动连接，上导轨组件7以及上电动滑块8可带动曝光机构9进行移动，使曝光机构9能够对集成电路板11进行全面曝光，达到光刻蚀所需的曝光需求。
[0024]进一步，光刻蚀机构本体1前端面的外壁设置有显示屏5，显示屏5用于方便用户在外部进行操控。
[0025]工作原理：使用时，通过在散热通孔6处安装遮光通道10，在光刻蚀机构内安装遮光伸缩挡板16，遮光通道10内用于安装插接板17以及遮光透气布18，使其组成一个有效的遮挡外部光线的结构，在内部曝光的过程中下方光线通过遮光伸缩挡板16进行伸缩展开，起到遮光的效果，使集成电路板在光刻蚀曝光过程中不会受到外界光的影响而导致曝光效果下降，影响光刻蚀效果的情况出现，支撑杆12用于起到支撑固定的作用，转轴13可调节伸缩杆14的角度，伸缩杆14可带动下方的吸盘组件15将集成电路板11进行吸附，使其能够伸缩移动至遮光伸缩挡板16上方，达到分隔下方漏光区域，减少外部光线影响的效果，上导轨组件7以及上电动滑块8可带动曝光机构9进行移动，使曝光机构9能够对集成电路板11进行全面曝光，达到光刻蚀所需的曝光需求，抽拉滑轨19可方便用户将抽拉槽3拉出与推入。
[0026]对于本领域技术人员而言，显然本技术不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本技术的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本技术。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本技术的范围由所附权本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种可调稳压集成电路用光刻蚀装置，包括光刻蚀机构本体(1)，其特征在于：所述光刻蚀机构本体(1)两侧的外壁均设置有散热通孔(6)，所述散热通孔(6)靠近内部的一端设置有遮光通道(10)，所述遮光通道(10)内壁两侧均设置有插接板(17)，所述插接板(17)的中间位置处设置有遮光透气布(18)，所述光刻蚀机构本体(1)的下方设置有抽拉槽(3)，所述抽拉槽(3)内部上方的两侧均设置有遮光伸缩挡板(16)。2.根据权利要求1所述的一种可调稳压集成电路用光刻蚀装置，其特征在于：所述遮光伸缩挡板(16)的上方设置有支撑杆(12)，所述支撑杆(12)的一端设置有转轴(13)，所述转轴(13)的下端设置有伸缩杆(14)，所述伸缩杆(14)的下方设置有吸盘组件(15)。3.根据权利要求1所述的一种可调稳压集成电路用光刻蚀装置，...
【专利技术属性】
技术研发人员：施娟，
申请(专利权)人：澳特翼南京电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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