本申请公开了一种钕铁硼磁体气相沉积镀膜用支架，涉及钕铁硼磁体生产技术领域，改善传动的气相沉积镀膜用支架挂钩高度固定，难以满足不同体积的磁体进行钩挂的问题。其包括上转盘，所述上转盘的内部中间位置处固定连接有转轴，所述转轴的外侧固定连接有下转盘，所述下转盘位于所述上转盘的下方，本申请通过安装盘、限位环和限位插孔的设置，使得在安装盘安装时可以将安装盘通过卡入槽卡入支撑轴的外侧，然后向下移动安装盘，使插杆插入限位插孔的内部，从而对安装盘支撑限位，使得安装盘的拆装方便快捷，从而便于对安装盘高度的调节，从而满足不同大小磁体的镀膜，有效提高了整个支架的空间利用率。支架的空间利用率。支架的空间利用率。
【技术实现步骤摘要】
一种钕铁硼磁体气相沉积镀膜用支架
[0001]本申请涉及钕铁硼磁体生产
，尤其是涉及一种钕铁硼磁体气相沉积镀膜用支架。
技术介绍
[0002]钕铁硼磁体现今磁性仅次于绝对零度钬磁铁的永久磁铁，也是最常使用的稀土磁铁。钕铁硼磁铁被广泛地应用于电子产品，例如硬盘、手机、耳机以及用电池供电的工具等。在钕铁硼磁体烧结生产过程中，烧结钕铁硼因易腐蚀，表面需镀层；物理气相沉积表面处理技术是一种替代电镀用于钕铁硼防护的技术。物理气相沉积主要依靠磁控溅射以及真空蒸镀两种方式实现，但是因为物理气相沉积镀膜过程中，溅射或蒸镀粒子仍然具有一定的方向性，因而无论是磁控溅射还是真空蒸镀技术，其应用于磁体表面防护产业化技术的难点是如何实现对磁体表面的均匀涂覆。
[0003]传统的气相沉积镀膜设备在对磁铁进行镀膜时需要将待镀膜的磁体勾挂在其内部的支架上，由于挂钩高度固定，使得难以满足不同体积的磁体进行钩挂，从而造成空间利用率较低。
技术实现思路
[0004]为了改善传动的气相沉积镀膜用支架挂钩高度固定，难以满足不同体积的磁体进行钩挂的问题，本申请提供一种钕铁硼磁体气相沉积镀膜用支架。
[0005]本申请提供一种钕铁硼磁体气相沉积镀膜用支架，采用如下的技术方案：
[0006]一种钕铁硼磁体气相沉积镀膜用支架，包括上转盘，所述上转盘的内部中间位置处固定连接有转轴，所述转轴的外侧固定连接有下转盘，所述下转盘位于所述上转盘的下方，所述转轴的底部转动连接有底板，所述转轴的顶部固定连接有电机，所述上转盘与所述下转盘之间均匀转动连接有支撑轴，各组所述支撑轴的外侧均匀间隔设置有若干个限位环，所述限位环的顶部设有安装盘，所述安装盘的外侧开设有与所述支撑轴相适配的卡入槽，所述限位环的顶部均匀固定连接有插杆，所述安装盘底部开设有与所述插杆相适配的限位插孔，所述安装盘的四周均匀固定连接有延伸挂杆，所述延伸挂杆的底部滑动连接有调节块，所述调节块的底部固定连接有螺杆，所述螺杆的底部可拆卸连接有挂钩。
[0007]通过采用上述技术方案，可根据磁体的体积大小，相应的将安装盘安装在同一支撑轴不同高度的限位环上，从而有效实现适配安装不同体积大的小磁体，提高整个支架的空间利用率。具体的，安装盘可以通过卡入槽卡入支撑轴的外侧，然后向下移动安装盘，使插杆插入限位插孔的内部，从而对安装盘支撑限位，使得安装盘的拆装方便快捷。此外，在电机启动工作时可以通过转轴带动上转盘和下转盘转动，同时带动支撑轴和挂钩以转轴为轴心公转，从而使磁体被均匀镀膜，在支撑轴公转的同时，齿环带动齿轮随之转动，从而带动支撑轴和挂钩自转，使得磁体被更加均匀的镀膜。
[0008]可选的，所述限位环的底部对称固定连接有直角撑块，所述直角撑块与所述支撑
轴固定连接。
[0009]通过采用上述技术方案，直角撑块可以对限位环进一步支撑，提高限位环与支撑轴连接的稳定性。
[0010]可选的，各组所述支撑轴的底部均固定连接有齿轮，所述底板的顶部固定连接有与各组所述齿轮相啮合的齿环。
[0011]通过采用上述技术方案，齿轮在支撑轴以转轴为轴心公转时沿着齿环的内壁滚动，从而带动支撑轴自转，进而使磁体镀膜更加均匀。
[0012]可选的，所述下转盘的顶部均匀转动连接有万向轮，所述万向轮与所述底板相接触。
[0013]通过采用上述技术方案，万向轮可以对下转盘起到支撑的作用，使下转盘保持稳定。
[0014]可选的，所述调节块的内部螺纹连接有调节螺杆，所述调节螺杆与所述延伸挂杆转动连接。
[0015]通过采用上述技术方案，调节螺杆在转动时带动调节块移动，实现对挂钩和位置的调节，以满足对不同体积大小的磁体支撑提供工件。
[0016]可选的，所述调节螺杆远离所述安装盘的一端固定连接有手轮。
[0017]通过采用上述技术方案，手轮可以便于对调节螺杆的转动调节，使得挂钩的位置调节更加方便快捷。
[0018]可选的，所述螺杆的外侧螺纹连接有内螺纹限位板。
[0019]通过采用上述技术方案，内螺纹限位板在转动至与挂钩接触时，减少钩挂在挂钩上的磁体发生脱落的风险。
[0020]可选的，所述挂钩的内部螺纹连接有固定螺栓，所述固定螺栓与所述螺杆螺纹连接。
[0021]通过采用上述技术方案，采用固定螺栓将挂钩与螺杆连接固定便于后续在挂钩损坏后拆装更换。
[0022]综上所述，本申请的有益效果如下：
[0023]本申请通过安装盘、限位环和限位插孔的设置，使得在安装盘安装时可以将安装盘通过卡入槽卡入支撑轴的外侧，然后向下移动安装盘，使插杆插入限位插孔的内部，从而对安装盘支撑限位，使得安装盘的拆装方便快捷，从而便于对安装盘高度的调节，从而满足不同大小磁体的镀膜，有效提高了整个支架的空间利用率。
附图说明
[0024]图1是本申请的整体结构剖视图；
[0025]图2是本申请图1中A部分结构放大图；
[0026]图3是本申请的安装盘结构俯视图。
[0027]附图标记说明：1、上转盘；2、转轴；3、底板；4、下转盘；5、电机；6、支撑轴；7、齿环；8、齿轮；9、万向轮；10、限位环；11、直角撑块；12、插杆；13、延伸挂杆；14、安装盘；15、调节螺杆；16、调节块；17、螺杆；18、挂钩；19、固定螺栓；20、内螺纹限位板；21、手轮；22、卡入槽；23、限位插孔。
具体实施方式
[0028]以下结合附图1
‑
3对本申请作进一步详细说明。
[0029]请参照图1，一种钕铁硼磁体气相沉积镀膜用支架，包括上转盘1，上转盘1的内部中间位置处固定连接有转轴2，转轴2的外侧固定连接有下转盘4，下转盘4位于上转盘1的下方，转轴2的设置用于在转动时带动上转盘1和下转盘4同步转动。转轴2的底部转动连接有底板3，转轴2的顶部固定连接有电机5，具体的，电机顶部用于与气相沉积镀膜设备固定安装。转轴2与电机5输出轴固定连接，电机5的设置用于在启动工作时驱动转轴2转动。上转盘1与下转盘4之间均匀转动连接有支撑轴6，具体的，支撑轴6一端转动连接于上转盘1且另一端转动连接于下转盘4上，设置的支撑轴6随着上转盘1与下转盘4的同步转动进行转动。
[0030]请参照图1
‑
3，在本实施例中，支撑轴6设置有若干组，各组支撑轴6的外侧沿竖直方向等间距固定连接有若干个限位环10，限位环10的顶部设有安装盘14，限位环10的设置用于对安装盘14提供支撑。限位环10的底部对称固定连接有直角撑块11，直角撑块11与支撑轴6固定连接，直角撑块11的设置用于对限位环10进一步支撑，提高限位环10与支撑轴6连接的稳定性。安装盘14的外侧开设有与支撑轴6相适配的卡入槽22，卡入槽22的设置便于安装盘14卡入支撑轴6的外侧，从而便于对安装盘14的拆装，通过在不同限位环10上进行安装实现了对安装盘14位置的调节，以满足不同体积磁体镀膜时的空间需求。限位环10的顶部均匀固定本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种钕铁硼磁体气相沉积镀膜用支架，包括上转盘（1），其特征在于：所述上转盘（1）的内部中间位置处固定连接有转轴（2），所述转轴（2）的外侧固定连接有下转盘（4），所述下转盘（4）位于所述上转盘（1）的下方，所述转轴（2）的底部转动连接有底板（3），所述转轴（2）的顶部固定连接有电机（5），所述上转盘（1）与所述下转盘（4）之间均匀转动连接有支撑轴（6），各组所述支撑轴（6）的外侧均匀间隔设置有若干个限位环（10），所述限位环（10）的顶部设有安装盘（14），所述安装盘（14）的外侧开设有与所述支撑轴（6）相适配的卡入槽（22），所述限位环（10）的顶部均匀固定连接有插杆（12），所述安装盘（14）底部开设有与所述插杆（12）相适配的限位插孔（23），所述安装盘（14）的四周均匀固定连接有延伸挂杆（13），所述延伸挂杆（13）的底部滑动连接有调节块（16），所述调节块（16）的底部固定连接有螺杆（17），所述螺杆（17）的底部可拆卸连接有挂钩（18）。2.根据权利要求1所述的一种钕铁硼磁体气相沉积镀膜用支架，其特征在于：所述限位环（10）的底部对称固定连接有直角撑块（11），所述直角撑块（...
【专利技术属性】
技术研发人员：周建军，葛海军，邓言方，周建春，杨玉章，
申请(专利权)人：余姚市宏伟磁材科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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