光器件及光系统技术方案

本发明专利技术提供一种新型光器件。该光器件具备：至少一个磁性元件，其具有第一铁磁性层、第二铁磁性层、和被所述第一铁磁性层与所述第二铁磁性层夹持的间隔层；基板；以及波导，所述波导及所述磁性元件处于所述基板之上或上方，在所述波导中传播的光的至少一部分向所述磁性元件照射。元件照射。元件照射。

【技术实现步骤摘要】
光器件及光系统


[0001]本专利技术涉及一种光器件及光系统。

技术介绍

[0002]近年来，使用波导的光器件备受关注。例如，平面光波电路(Planar Lightwave Circuit：PLC)是光器件的一例，用于增强现实(AR)眼镜或小型投影仪。另外，例如，光调制器是光器件的一例，用于光通信。
[0003]例如，在专利文献1中记载了作为光器件的一例的波分复用电路。专利文献1所记载的波分复用电路将半导体光电二极管(PD)用作可变波长光源的波长监视器。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2017
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223738号公报

技术实现思路

[0007]专利技术所要解决的问题
[0008]作为单独部件制作的半导体光电二极管需要对光器件的波导调整光轴。另外，作为单独部件制作的半导体光电二极管的尺寸较大。为了光器件的进一步发展，需要新的突破。
[0009]本专利技术是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供一种新型的光器件。
[0010]用于解决问题的技术手段
[0011]为了解决上述课题，提供以下技术手段。
[0012](1)第一方式提供一种光器件，其具备：至少一个磁性元件，其具有第一铁磁性层、第二铁磁性层、和被所述第一铁磁性层与所述第二铁磁性层夹持的间隔层；基板；以及波导，所述波导及所述磁性元件处于所述基板之上或上方，在所述波导中传播的光的至少一部分向所述磁性元件照射。
[0013](2)根据上述方式的光器件，也可以是，还具备：电极，从所述电极向所述波导的至少一部分，能够施加基于来自所述磁性元件的电信号的电场。
[0014](3)根据上述方式的光器件，也可以是，还具备：反射器，所述反射器将所述光的至少一部分朝向所述磁性元件反射。
[0015](4)在上述方式的光器件中，也可以是，所述光的至少一部分从与所述磁性元件的层叠方向交叉的方向向所述磁性元件照射。
[0016](5)在上述方式的光器件中，也可以是，所述光的至少一部分从所述磁性元件的层叠方向向所述磁性元件照射。
[0017](6)在上述方式的光器件中，也可以是，所述波导还具备：监测波导，所述光的至少一部分在所述监测波导中传播。
[0018](7)根据上述方式的光器件，也可以是，还具备：激光二极管和光调制元件。所述激
光二极管与所述波导光学连接，所述光调制元件处于所述激光二极管与所述波导之间，调制到达所述波导的光的强度。
[0019](8)在上述方式的光器件中，也可以是，所述至少一个磁性元件为多个磁性元件，向所述多个磁性元件中的第一磁性元件照射在所述波导中沿从所述激光二极管朝向所述波导的方向传播的光的至少一部分，向所述多个磁性元件中的第二磁性元件照射从所述波导输出且由被照射体反射的光的至少一部分。
[0020](9)第二方式提供一种光系统，其具备上述方式的光器件、和将从所述光器件输出的光导光至被照射体的光学系统。
[0021]专利技术效果
[0022]上述方式的光器件及光系统能够以新的原理来检测光。
附图说明
[0023]图1是第一实施方式的光器件的框图。
[0024]图2是第一实施方式的光调制元件的俯视图。
[0025]图3是第一实施方式的光调制元件的截面图。
[0026]图4是第一实施方式的光调制元件的磁性元件附近的立体图。
[0027]图5是第一实施方式的光调制元件的磁性元件附近的截面图。
[0028]图6是第一实施方式的光调制元件的监测电路的一例。
[0029]图7是第一实施方式的光调制元件的监测电路的另一例。
[0030]图8是第一实施方式的磁性元件的截面图。
[0031]图9是用于对第一实施方式的磁性元件的第一机制进行说明的图。
[0032]图10是用于对第一实施方式的磁性元件的第二机制进行说明的图。
[0033]图11是第二实施方式的光调制元件的磁性元件附近的立体图。
[0034]图12是第二实施方式的光调制元件的磁性元件附近的截面图。
[0035]图13是第二实施方式的光调制元件的磁性元件附近的另一截面图。
[0036]图14是第三实施方式的光调制元件的俯视图。
[0037]图15是第三实施方式的光调制元件的磁性元件附近的第一例的立体图。
[0038]图16是第三实施方式的光调制元件的磁性元件附近的第二例的立体图。
[0039]图17是第一变形例的光调制元件的磁性元件附近的截面图。
[0040]图18是第二变形例的光调制元件的磁性元件附近的截面图。
[0041]图19是第三变形例的光调制元件的俯视图。
[0042]图20是第三变形例的光调制元件的截面图。
[0043]图21是第四变形例的光调制元件的截面图。
[0044]图22是第五变形例的光调制元件的俯视图。
[0045]图23是第五变形例的光调制元件的截面图。
[0046]图24是第六变形例的光器件的俯视图。
[0047]图25是第六变形例的光调制元件的截面图。
[0048]图26是第七变形例的光调制元件的俯视图。
[0049]图27是第七变形例的光调制元件的磁性元件附近的截面图。
[0050]图28是第七变形例的另一例的光调制元件的磁性元件附近的截面图。
[0051]图29是第七变形例的另一例的光调制元件的磁性元件附近的截面图。
[0052]图30是第七变形例的另一例的光调制元件的磁性元件附近的立体图。
[0053]图31是第八变形例的光器件的俯视图。
[0054]图32是使用光器件的光系统的概念图。
[0055]图33是第九变形例的光系统的概念图。
具体实施方式
[0056]以下，在实施方式中，适当地参照图详细地进行说明。在以下的说明中使用的附图有时为了方便而将成为特征的部分放大表示，以使特征容易理解，各构成要素的尺寸比率等有时与实际不同。在以下的说明中例示的材料、尺寸等为一例，本专利技术不限于此，在实现本专利技术的效果的范围内能够适当地变更而实施。
[0057]对方向进行定义。将基板10(参照图3)扩展的面内的一方向设为x方向，将与x方向正交的面内的方向设为y方向。将与基板10的正交的方向(与x方向及y方向正交的方向)设为Z方向。以下，有时将+Z方向表达为“上”，将
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Z方向表达为“下”。上下不一定与施加重力的方向一致。
[0058]“第一实施方式”[0059]图1是第一实施方式的光器件200的框图。光器件200具备光调制元件100和控制部150。控制部150例如具有驱动电路160、直流偏压施加电路170以及控制电路180。光器件200例如是光调制器。
[0060]图1所示的光调制元件100将电信号本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光器件，其中，具备：至少一个磁性元件，其具有第一铁磁性层、第二铁磁性层、和被所述第一铁磁性层与所述第二铁磁性层夹持的间隔层；基板；以及波导，所述波导及所述磁性元件处于所述基板之上或上方，在所述波导中传播的光的至少一部分向所述磁性元件照射。2.根据权利要求1所述的光器件，其中，还具备：电极，从所述电极向所述波导的至少一部分，能够施加基于来自所述磁性元件的电信号的电场。3.根据权利要求1或2所述的光器件，其中，还具备：反射器，所述反射器将所述光的至少一部分朝向所述磁性元件反射。4.根据权利要求1～3中任一项所述的光器件，其中，所述光的至少一部分从与所述磁性元件的层叠方向交叉的方向向所述磁性元件照射。5.根据权利要求1～3中任一项所述的光器件，其中，所述光的至少一部分从所述磁性元件的层叠方向向所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：柴田哲也，福泽英明，菊川隆，水野友人，
申请(专利权)人：TDK株式会社，
类型：发明
国别省市：