离子束清洗设备制造技术

本申请提供一种离子束清洗设备，包括：离子室，用于提供真空环境；阴极离子源，用于提供电子，与离子室连通，阳极装置，设置于离子室内，阳极装置与阴极离子源构成电场区域；治具组件，设置于离子室内并位于电场区域中，用于承载工件，治具组件包括连接件、第一磁铁和第二磁铁，第一磁铁和第二磁铁相对设置且均套设于连接件，以形成磁场区域，工件套设于连接件并位于第一磁铁和第二磁铁之间，且设置于磁场区域内，连接件与一外部电源的负极电连接，用于牵引电场区域内的正离子至磁场区域内的工件的表面，以清洗工件。该离子束清洗设备，代替传统的化学去膜层方案，避免化学废液的产生及排放，降低废水处理成本，节省成本，同时保护环境。境。境。

【技术实现步骤摘要】
离子束清洗设备


[0001]本申请涉及材料表面处理
，具体涉及一种离子束清洗设备。

技术介绍

[0002]目前3C材料应用中，不锈钢相比其他金属，拥有更好的触感、更好的金属光泽、更强的耐磨性、更高的硬度等优点，但在生产过程中，不锈钢表层容易产生无法修复的碰刮压伤及纹路等缺陷。在不锈钢产品经PVD(Physical Vapor Deposition，物理气相沉积)镀膜制程后，其表面的碰刮压伤、异色相对较多，成为产品的主要不良因素，为了减少报废，降低成本，产品重工修复尤为重要。不锈钢产品表面镀PVD后，要修复其表面缺陷，必须先把PVD膜层去除后才可修复，并重新镀PVD膜层，因此，如何去除PVD膜层是关键的一步。目前工业上去除PVD膜层采用化学方式处理。
[0003]然而，采用化学方式处理后产生的废水为重金属废水，废水处理费用高，对环境污染程度大。

技术实现思路

[0004]鉴于上述状况，有必要提供一种离子束清洗设备，代替传统的化学去膜层方案，避免化学废液的产生及排放，降低废水处理成本，同时保护环境。
[0005]本申请提供一种离子束清洗设备，包括：离子室，用于提供真空环境；阴极离子源，用于提供电子，设置于所述离子室，并与所述离子室连通，阳极装置，设置于所述离子室内，所述阳极装置与所述阴极离子源构成电场区域，以将所述离子室内的惰性气体从原子状态激发为离子状态，形成正离子；及治具组件，设置于所述离子室内并位于所述电场区域中，用于承载工件，所述治具组件包括连接件、第一磁铁和第二磁铁，所述第一磁铁和所述第二磁铁相对设置且均套设于所述连接件，以形成磁场区域，所述工件套设于所述连接件并位于所述第一磁铁和所述第二磁铁之间，且设置于所述磁场区域内，所述连接件与一外部电源的负极电连接，用于牵引电场区域内的正离子至所述磁场区域内的所述工件的表面，以清洗所述工件。
[0006]在一些实施例中，所述离子室包括壳体，和由壳体围合而成的腔体，所述腔体用于容纳所述阳极装置和所述治具组件。
[0007]在一些实施例中，所述离子束清洗设备还包括抽气装置和供气装置，所述抽气装置连接于所述离子室，用于对所述腔体抽真空，所述供气装置连接于所述离子室，用于向所述腔体内供应惰性气体。
[0008]在一些实施例中，所述阳极装置的一端连接于所述壳体顶部，所述阳极装置的另一端邻近所述壳体的底部设置，所述阳极装置悬挂设置在所述腔体内。
[0009]在一些实施例中，所述离子束清洗设备还包括承载装置，所述承载装置设置于所述腔体内，并与所述壳体转动连接，所述承载组件用于承载所述治具组件。
[0010]在一些实施例中，所述承载装置包括底盘和顶环，所述连接件的一端与所述底盘
连接，所述连接件的另一端与所述顶环连接。
[0011]在一些实施例中，所述治具组件还包括上盖和下盖，沿着所述顶环至所述底盘的方向，所述连接件上依次套设有第一磁铁、所述上盖、所述工件、所述下盖和第二磁铁。
[0012]在一些实施例中，所述承载装置还包括多个支撑件和多个卡合件，所述支撑件的一端与所述底盘连接，所述支撑件的另一端与所述顶环连接，所述底盘和所述顶环上均相对设置有卡合件，所述连接件通过所述卡合件卡合在所述底盘和所述顶环之间。
[0013]在一些实施例中，所述离子束清洗设备还包括驱动件，所述驱动件位于所述壳体底部且设置在所述底盘的下方，所述驱动件与所述底盘传动连接，用于驱动所述底盘转动。
[0014]在一些实施例中，所述离子束清洗设备还包括加热组件，所述加热组件环绕所述壳体内壁设置，所述加热组件用于对所述腔体进行加热。
[0015]上述离子束清洗设备，设置有离子室、阴极离子源、阳极装置和治具组件，离子室内的腔体具有真空环境并含有惰性气体，阴极离子源用于激发惰性气体产生大量电子，阳极装置与阴极离子源配合在腔体内形成电场区域，治具组件设置于电场区域内并用于放置工件，且治具组件上设置有第一磁铁和第二磁铁，第一磁铁和第二磁铁配合形成磁场；电子在迁移过程中，大量的电子会被束缚在治具组件磁场周围，在磁场作用下加速并与惰性气体撞击电离成正离子，增加工件周围惰性气体的离化率，同时提供大量高能量的正离子，工件通过连接件与外部电源的负极连接，会牵引大量的、高能量的正离子轰击工件表面，使工件表面膜层溅射出来，达到去膜层和工件清洗的目的。
附图说明
[0016]图1为本申请一些实施例提供的离子束清洗设备的立体示意图。
[0017]图2为本申请一些实施例提供的治具组件的立体示意图。
[0018]图3为图2所述的治具组件安装于承载治具上的立体示意图。
[0019]图4为图1所示的离子束清洗设备沿
Ⅳ‑Ⅳ
的剖面示意图。
[0020]图5为图1所示的承载治具的立体示意图。
[0021]主要元件符号说明
[0022]离子束清洗设备
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
100
[0023]离子室
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
10
[0024]壳体
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
11
[0025]腔体
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
12
[0026]阴极离子源
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
20
[0027]阳极装置
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
30
[0028]治具组件
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
40
[0029]连接件
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
41
[0030]第一磁铁
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
42
[0031]第二磁铁
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
43
[0032]上盖
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
44
[0033]下盖
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
45
[0034]抽气装置
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
50
[0035]供气装置
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
60
[0036]承载装置
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
70
[0037]底盘
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
71
[0038]顶环
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
72
[0039]支撑件
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
73
[0040]卡合件
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
74
[0041]驱动件
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种离子束清洗设备，其特征在于，包括：离子室，用于提供真空环境；阴极离子源，用于提供电子，设置于所述离子室，并与所述离子室连通，阳极装置，设置于所述离子室内，所述阳极装置与所述阴极离子源构成电场区域，以将所述离子室内的惰性气体从原子状态激发为离子状态，形成正离子；及治具组件，设置于所述离子室内并位于所述电场区域中，用于承载工件，所述治具组件包括连接件、第一磁铁和第二磁铁，所述第一磁铁和所述第二磁铁相对设置且均套设于所述连接件，以形成磁场区域，所述工件套设于所述连接件并位于所述第一磁铁和所述第二磁铁之间，且设置于所述磁场区域内，所述连接件与一电源的负极电连接，用于牵引电场区域内的所述正离子轰击所述磁场区域内的所述工件的表面，以清洗所述工件。2.如权利要求1所述的离子束清洗设备，其特征在于，所述离子室包括壳体和由所述壳体围合而成的腔体，所述腔体用于容纳所述阳极装置和所述治具组件。3.如权利要求2所述的离子束清洗设备，其特征在于，所述离子束清洗设备还包括抽气装置和供气装置，所述抽气装置连接于所述离子室，用于对所述腔体抽真空，所述供气装置连接于所述离子室，用于向所述腔体内供应所述惰性气体。4.如权利要求2所述的离子束清洗设备，其特征在于，所述阳极装置的一端连接于所述壳体顶部，所述阳极装置的另一端邻近所述壳体的底部设置，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：钟升，赵鹏，赫利权，王凤龙，张平，
申请(专利权)人：富联科技山西有限公司，
类型：新型
国别省市：