一种双层UV转印工艺制造技术

技术编号:35242746 阅读:17 留言:0更新日期:2022-10-19 09:48
本发明专利技术提供了一种双层UV转印工艺,将基底切割成需要的尺寸;在基底上喷涂UV胶水,进行纹理模板转印,并进行第一次固化;根据需求选用不同形状的同菲林,在摄像孔、闪光灯孔内填充光油作为接着层,承接后面二次UV转印;填充孔内纹理,光面纹理模板填充,并将闪光灯孔或者摄像孔填充成平面;使用压花模板转印,并进行第二次固化。通过调整胶水的重涂性,使其胶水的软硬度,粘度,咬合力达到一个相对均衡的程度,既能对其他膜层产生稳定的咬合力,也能使胶水固化后两次粘合填充掉纹理线条,同时提升了二次转印的附着力。升了二次转印的附着力。

【技术实现步骤摘要】
一种双层UV转印工艺


[0001] 本专利技术属于UV转印
,尤其涉及 一种双层UV转印工艺。

技术介绍

[0002]UV胶水转印工艺是一种光固化型单组份成型涂胶工艺,主要通过模具模板滚压后成型于PC、PET、PMMA及TPU等其他聚酯薄膜表面。该工艺主要用于制作中高档手机后盖及摄像头等产品上。胶水纹理形状决定于模板原纹理。现有的产品,例如,摄像头装饰件,摄像头镜片等产品,为了保证外观美观,需要做大面纹理效果,但是在摄像头位置或者是闪光灯孔位置是不能存在纹理效果的,因此需要避空此位置,模板纹理制作时可按菲林形状进行纹理避空,但这种避空方案,会增加UV转印套位的难度,目前市场上UV转印机的套位精度在0.5mm以上,无法满足我们现有产品的套位精度需求,同时所做模板的纹理避空处契合度低,有明显段差,UV转印时将造成脱胶,附着力性能差的状况。

技术实现思路

[0003]本专利技术提供的一种双层UV转印工艺,目的在于解决现有的纹理模板小面积和不规则区域避空,简化套位UV转印的难度,提升良品率及生产效率。
[0004]本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是:一种双层UV转印工艺,包括以下步骤:(1)将基底切割成需要的尺寸;(2)在基底上喷涂UV胶水,进行纹理模板转印,并进行第一次固化;(3)根据需求选用不同形状的同菲林,在摄像孔、闪光灯孔内填充光油作为接着层,承接后面二次UV转印;(4)填充孔内纹理,光面纹理模板填充,并将闪光灯孔或者摄像孔填充成平面;(5)使用压花模板转印,并进行第二次固化。<br/>[0005]优选的,所述步骤2中采用UV胶水低硬度、高粘度、重涂性能高。
[0006]优选的,所述步骤2中第一次固化只使用LED灯进行表面固化。
[0007]优选的,所述步骤2中第一固化中LED灯能量为400

600mj/cm2,光照强度大于800lux。
[0008]优选的,所述步骤2中完成第一固化后在产品上镀膜。
[0009]优选的,所述镀膜后在背面盖上底色,防止透光。
[0010]优选的,所述步骤5中通过LED灯和汞灯进行双重固化成型。
[0011]优选的,所述步骤5中第二次固化中LED能量400

600mj/cm2,光照强度大于800lux;汞灯能量900

1100mj/cm2,光照强度大于100lux。
[0012]本专利技术的有益效果是:通过调整胶水的重涂性,使其胶水的软硬度,粘度,咬合力达到一个相对均衡的程度,既能对其他膜层产生稳定的咬合力,也能使胶水固化后两次粘合填充掉纹理线条,解决了UV转印模板无法对纹理区域进行避空、避空契合度低、段差高的
技术难点,提升了二次转印的附着力。
具体实施方式
[0013]下面结合实施例对本专利技术做进一步的详细描述,但本专利技术的保护范围并 不限于此。
[0014]本专利技术涉及 一种双层UV转印工艺,包括以下步骤:(1)将基底切割成需要的尺寸;(2)在基底上喷涂UV胶水,进行纹理模板转印,并进行第一次固化;(3)根据需求选用不同形状的同菲林,在摄像孔、闪光灯孔内填充光油作为接着层,承接后面二次UV转印;(4)填充孔内纹理,光面纹理模板填充,并将闪光灯孔或者摄像孔填充成平面;(5)使用压花模板转印,并进行第二次固化。
[0015]在本实施方式中, 第一次UV转印可采用不同纹理的模板,如CD纹、幻彩纹、拉丝纹等,其UV胶水采用特制的双涂胶水,该胶水特性低硬度、高粘度、重涂性能高;首次转印时只用LED灯进行表面固化;转印后增加菲林印刷工艺可依照不同菲林体现出所需形状,摄像孔、闪光灯孔内填充光油作为接着层,承接后面二次UV转印,稳定附着力效果,填充孔内纹理,光面纹理模板填充,将闪光灯孔或者摄像孔填充成平面;二次压花使用光面的压花模板,使其胶水填充进纹理当中,通过LED与汞灯的双重固化成型。
[0016]进一步的,步骤2中采用UV胶水低硬度、高粘度、重涂性能高。
[0017]进一步的,步骤2中第一次固化只使用LED灯进行表面固化。
[0018]在本实施方式中,步骤2中第一固化中LED灯能量为400

600mj/cm2,光照强度大于800lux。
[0019]在本实施方式中,压花的胶水厚度为8

12微米,压花所用的压力为0.24mpa,辊轮速度30% ,胶水出胶气压70+/

20mp ,胶水出胶速度80%

100%。
[0020]进一步的,步骤2中完成第一固化后在产品上镀膜。
[0021]在本实施方式中,镀膜增加产品表面亮亮,配套前工序的纹理,形成很炫光的纹理效果。
[0022]进一步的,镀膜后在背面盖上底色,防止透光。
[0023]在本实施方式中,背面盖底色防止透光,其中摄像孔、闪光灯孔镂空,不盖底色。
[0024]进一步的,步骤5中通过LED灯和汞灯进行双重固化成型。
[0025]在本实施方式中,步骤5中第二次固化中LED能量400

600mj/cm2,光照强度大于800lux;汞灯能量900

1100mj/cm2,光照强度大于100lux。
[0026]以上所述的实施例只是本专利技术的 一种双层UV转印工艺较佳的方案,并非对本专利技术作任何形式上的限制,在不超出权利要求所记载的技术方案的前提下还有其它的变体及改型。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种双层UV转印工艺,其特征在于:包括以下步骤:(1)将基底切割成需要的尺寸;(2)在基底上喷涂UV胶水,进行纹理模板转印,并进行第一次固化;(3)根据需求选用不同形状的同菲林,在摄像孔、闪光灯孔内填充光油作为接着层,承接后面二次UV转印;(4)填充孔内纹理,光面纹理模板填充,并将闪光灯孔或者摄像孔填充成平面;(5)使用压花模板转印,并进行第二次固化。2.根据权利要求1所述的 一种双层UV转印工艺,其特征在于:所述步骤2中采用UV胶水低硬度、高粘度、重涂性能高。3.根据权利要求1所述的 一种双层UV转印工艺,其特征在于:所述步骤2中第一次固化只使用LED灯进行表面固化。4.根据权利要求3所述的 一种双层UV转印工艺,其特征在于:所述步骤2中第一固化中LED灯能...

【专利技术属性】
技术研发人员:欧阳其海杨国银邵宜健
申请(专利权)人:浙江兆奕光电有限公司
类型:发明
国别省市:

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