一种双阀自动校正系统技术方案

本实用新型专利技术提供一种双阀自动校正系统，包含初级定位器、第一次级定位器及第二次级定位器，第一次级定位器及第二次级定位器分别连接第一流体涂覆器及第二流体涂覆器，初级定位器包括初级X轴定位器及初级Y轴定位器，第一次级定位器及第二次级定位器连接初级X轴定位器，相较于现有技术中将次级定位器安装在初级Z轴定位器上，能够起到减缓Z轴负重从而提升Z轴方向上校正精度的技术效果。向上校正精度的技术效果。向上校正精度的技术效果。

【技术实现步骤摘要】
一种双阀自动校正系统


[0001]本技术涉及双阀自动校正
，尤其涉及一种双阀自动校正系统。

技术介绍

[0002]近年来，由于电路板的微小化，关于如何将微小的电子元件(例如晶片等)以精密地、准确地方式固定于电路板上的技术越来越受重视，并进一步要求在维持上述精密度的情况下进行大量生产。
[0003]现有技术中，通常通过点胶的方式将电子元件固定于基板上，目前已经有很多自动点胶相关的技术，为了提高点胶的效率，目前提出了使用双阀的概念进行点胶，并且搭配定位器将两组流体涂覆器同时定位在特定的位置上，并使两组流体涂覆器同时进行涂胶。
[0004]关于定位器的结构，现有技术可分为初级定位结构及次级定位结构，初级定位结构为了使两组流体涂覆器同时在X轴、Y轴、Z轴上进行定位，通常包含初级X轴定位结构、初级Y轴定位结构和初级Z轴定位结构，同样地，次级定位结构也包含次级X轴定位结构、次级Y轴定位结构和次级Z轴定位结构，且次级定位结构通常是安装于初级Z轴定位结构上。
[0005]然而，上述定位器的结构存在有以下问题：
[0006](1)次级定位结构安装于初级Z轴定位结构上，即次级定位结构将带给初级Z轴定位结构额外的负重，导致初级Z轴定位结构的精密度下降。
[0007](2)初级定位结构及次级定位结构同时包含Z轴方向上的定位，彼此容易互相干扰从而降低整体定位的精密度与点胶效率，例如当初级定位结构提供沿Z轴向上，而次级定位结构提供沿Z轴向下的定位时，彼此抵消反而影响整体在Z轴上定位的精密度与点胶效率。
[0008](3)在两组流体涂覆器共用相同的次级定位结构的情况下，两组流体涂覆器彼此缺乏在特定方向上相对移动的灵活性；而当两组流体涂覆器各自包含一组次级定位结构的情况下，两组流体涂覆器各自的次级定位结构容易彼此干扰而降低整体定位的精密度与点胶效率。

技术实现思路

[0009]本申请实施例提供一种双阀自动校正系统，可以解决上述现有技术的各项缺点。
[0010]本申请实施例提供一种双阀自动校正系统，包括：第一流体涂覆器，用于在目标基板的第一涂覆区域涂覆流体；第二流体涂覆器，用于在目标基板的第二涂覆区域涂覆流体；初级定位器，包含初级X轴定位器及初级Y轴定位器，使所述第一流体涂覆器及所述第二流体涂覆器在X轴及Y轴的方向上移动并进行初级定位；第一次级定位器，包含第一次级Z轴定位器，且连接所述初级X轴定位器及所述第一流体涂覆器，使所述第一流体涂覆器沿Z轴方向移动并进行次级定位和自动校正；以及第二次级定位器，包含次级X轴定位器、次级Y轴定位器、以及第二次级Z轴定位器，且连接所述初级X轴定位器及所述第二流体涂覆器，使所述第二流体涂覆器在X轴、Y轴及Z轴的方向上移动并进行次级定位和自动校正。
[0011]一种可选的实施方式为，初级定位器无法使所述第一流体涂覆器及所述第二流体
涂覆器在Z轴的方向上移动。
[0012]一种可选的实施方式为，第一次级定位器无法使所述第一流体涂覆器在X轴及Y轴的方向上移动。
[0013]一种可选的实施方式为，第二次级Z轴定位器连接所述初级X轴定位器，并且支撑所述次级X轴定位器及所述次级Y轴定位器，所述次级X轴定位器及所述次级Y轴定位器连接所述第二流体涂覆器。
[0014]一种可选的实施方式为，次级X轴定位器及所述次级Y轴定位器连接所述初级X轴定位器，并且支撑所述第二次级Z轴定位器，所述第二次级Z轴定位器连接所述第二流体涂覆器。
[0015]一种可选的实施方式为，双阀自动校正系统还包括：
[0016]光学元件，用于侦测所述目标基板的所述第一涂覆区域及所述第二涂覆区域。
[0017]一种可选的实施方式为，光学元件包含电荷耦合装置及雷射感测器。
[0018]通过上述双阀自动校正系统，本申请实施例相较于传统的双阀点胶技术，由于本技术不将次级定位器安装于初级Z轴定位器，能够降低初级Z轴定位器的负重而提高Z轴定位的精密度；
[0019]由于本申请实施例中初级定位结构无法使两组流体涂覆器在Z轴的方向上移动，因此，在Z轴方向上不会产生初级定位结构与次级定位结构彼此之间的干扰，进而提升精密度与点胶效率；
[0020]并且，由于本申请实施例使两组流体涂覆器各自包含次级定位器，并使其中一组流体涂覆器的次级定位器包含次级Z轴定位器而无法在X、Y轴方向上移动、另一组流体涂覆器的次级定位器包含次级X、Y、Z轴定位器，上述结构可以降低两组次级定位器之间的干扰，进而提升整体定位的精密度与点胶效率。
附图说明
[0021]为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0022]图1为本申请实施例提供的一种双阀自动校正系统的正面示意图；
[0023]图2为本申请实施例提供的一种双阀自动校正系统的侧面示意图；
[0024]图3为本申请实施例提供的另一种双阀自动校正系统的正面示意图；
[0025]图4为本申请实施例提供的另一种双阀自动校正系统的侧面示意图。
[0026]附图标记：
[0027]1：第一流体涂覆器；2：第二流体涂覆器；
[0028]3：初级定位器；31：初级X轴定位器；32：初级Y轴定位器；
[0029]41：第一次级Z轴定位器；
[0030]5：第二次级定位器；51：第二次级Z轴定位器；52：次级X轴定位器；53：次级Y轴定位器；
[0031]6：光学元件；61：电荷耦合装置(CCD)；62：雷射；
[0032]X、Y、Z：方向。
具体实施方式
[0033]为了本领域普通人员能够充分了解本申请的技术特征、内容与优点及其所能达到的功效，下面将结合附图，对本申请实施例的技术方案进行清楚、完整地描述，本申请中所使用的附图，仅用于示意及辅助说明书，而不作为本申请实施后的真实比例与精准配置，因此不应就附图式的比例与配置关系解读、局限本申请实际实施上的专利申请范围。
[0034]请参阅图1和图2，本申请实施例提供一种双阀自动校正系统的正面及侧面示意图，如图所示，双阀自动校正系统包含：第一流体涂覆器1，用于在目标基板的第一涂覆区域涂覆流体；第二流体涂覆器2，用于在目标基板的第二涂覆区域涂覆流体；初级定位器3，包含初级X轴定位器31及初级Y轴定位器32，使第一流体涂覆器1及第二流体涂覆器2在X轴及Y轴的方向上移动并进行初级定位；第一次级定位器，包含第一次级Z轴定位器41，且连接初级X轴定位器31及第一流体涂覆器1，使第一流体涂覆器1沿Z轴方向移动并进行次级定位和自动校正；以及第二次级定位器5，包含次级X轴定位器52、次级Y轴定位器53、以及第二次级Z轴定位器51，且连接初级X轴定位器31及第二流体涂覆器2，使第二本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种双阀自动校正系统，其特征在于，包括：第一流体涂覆器，用于在目标基板的第一涂覆区域涂覆流体；第二流体涂覆器，用于在目标基板的第二涂覆区域涂覆流体；初级定位器，包含初级X轴定位器及初级Y轴定位器，使所述第一流体涂覆器及所述第二流体涂覆器在X轴及Y轴的方向上移动并进行初级定位；第一次级定位器，包含第一次级Z轴定位器，且连接所述初级X轴定位器及所述第一流体涂覆器，使所述第一流体涂覆器沿Z轴方向移动并进行次级定位和自动校正；以及第二次级定位器，包含次级X轴定位器、次级Y轴定位器、以及第二次级Z轴定位器，且连接所述初级X轴定位器及所述第二流体涂覆器，使所述第二流体涂覆器在X轴、Y轴及Z轴的方向上移动并进行次级定位和自动校正。2.如权利要求1所述的双阀自动校正系统，其特征在于，所述初级定位器无法使所述第一流体涂覆器及所述第二流体涂覆器在Z轴的方向上移动...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈律名，蔡宗霖，
申请(专利权)人：邑富股份有限公司，
类型：新型
国别省市：