炉和炉系统技术方案

本申请公开了一种炉和炉系统。炉包括炉腔、传送带和数个上部红外器件。传送带安装在炉腔的内部，用于承载并使共烧陶瓷装置移动通过炉腔。数个上部红外器件布置在传送带上方。其中，炉腔被配置为执行以下两个过程中的任一过程：提供加热以从共烧陶瓷装置中移除粘结剂材料；或者提供加热以将共烧陶瓷装置形成整体烧结块状结构。本申请的炉和炉系统能够用于粘结剂移除循环和共烧烧结循环二者、尤其是在温升阶段，具有改善的加热均匀性，以提高温升速度、能够将红外光投射到处理中的陶瓷装置上，以改善温度均匀性，并且在炉中使用一种类型的加热器件来简化炉的加热结构。加热器件来简化炉的加热结构。加热器件来简化炉的加热结构。

【技术实现步骤摘要】
炉和炉系统


[0001]本申请涉及炉，并且更具体地涉及用于处理共烧陶瓷装置的炉。

技术介绍

[0002]共烧陶瓷装置以多层结构制造。共烧装置制造工艺从生产合成带开始，合成带由与粘结剂混合的陶瓷颗粒组成。在合成带的各个层上形成电气部件(比如电容器、电阻、电感器、谐振器、滤波器等)，然后合成带的多层被侵蚀并粘结在一起。合成带是柔性的，并且可以切成许多部件片。这些部件片放置在支撑结构上。部件片及其支撑结构在炉中共烧以形成共烧陶瓷装置。共烧装置制造工艺也可以用于生产混合电路板。
[0003]共烧可以分为两种应用：低温陶瓷装置(LTCC)应用和高温陶瓷装置(HCTC)应用，其中低温意味着烧结温度低于1000摄氏度，而高温是在1600摄氏度左右。

技术实现思路

[0004]本申请的第一方面公开了一种炉，其包括炉腔、传送带和数个上部红外器件。所述传送带安装在所述炉腔的内部，用于承载并使共烧陶瓷装置移动通过所述炉腔。所述数个上部红外器件布置在所述传送带上方。其中，所述炉腔被配置为执行以下两个过程中的任一过程：(1)提供加热以从共烧陶瓷装置中移除粘结剂材料；(2)提供加热以将共烧陶瓷装置形成整体烧结块状结构。
[0005]如上所述第一方面公开的炉，其中所述数个上部红外器件在所述炉腔内部产生热。
[0006]如上所述第一方面公开的炉，其进一步包括数个底部红外器件，所述数个底部红外器件投射红外光。其中，当所述陶瓷装置移动通过所述炉腔时，所述数个底部红外器件将红外光投射到所述共烧陶瓷装置上。
[0007]如上所述第一方面公开的炉，其进一步包括数个底部线圈，所述数个底部线圈布置在所述传送带下方。其中，所述数个底部线圈在所述炉腔内部产生热。
[0008]如上所述第一方面公开的炉，其中，所述数个上部红外器件是数个上部红外灯管。
[0009]如上所述第一方面公开的炉，其中，所述数个底部红外器件是数个底部红外灯管。
[0010]如上所述第一方面公开的炉，其中，所述传送带被配置为承载至少一个支撑器件，以将位于所述至少一个支撑器件上的所述共烧陶瓷装置容纳在所述炉腔内。
[0011]如上所述第一方面公开的炉，其中，所述至少一个支撑器件由允许红外光通过的材料制造。
[0012]如上所述第一方面公开的炉，其中，所述炉腔包括数个加热区域。
[0013]如上所述第一方面公开的炉，其进一步包括数个区域分隔件，所述数个区域分隔件将所述炉腔分成数个加热区域。
[0014]如上所述第一方面公开的炉，其中，所述数个区域分隔件中的每一个具有上部区段和底部区段，以使得当所述上部区段和所述底部区段放在一起时，在所述上部区段和所
述底部区段之间形成间隙。其中，所述上部区段和所述底部区段具有在所述两个区段上分布的小孔，以使得这些孔允许压缩空气(或气体)移动穿过，但将数个加热区域彼此分开，以改善所述数个加热区域之间的温度均匀性。
[0015]如上所述第一方面公开的炉，其中，在提供加热以将所述共烧陶瓷装置形成为整体烧结块状结构的过程中，所述炉腔内部的温度在摄氏度和摄氏度之间。
[0016]如上所述第一方面公开的炉，其进一步包括进入区段以及出口区段。所述进入区段位于所述炉腔之前。所述出口区段位于所述炉腔之后。
[0017]根据本申请的第二方面，其公开了一种用于处理共烧陶瓷装置的炉系统，其包括炉腔、传送带、数个上部红外器件以及至少一个支撑器件。所述传送带安装在所述炉腔的内部，用于承载并将所述共烧陶瓷装置移动到所述炉腔内部。所述数个上部红外器件布置在所述传送带上方。所述至少一个支撑器件用于将其上的所述共烧陶瓷装置容纳在所述炉腔内。其中，所述数个上部红外器件在所述炉腔内部产生热，并且当所述陶瓷装置移动通过所述炉腔时，将红外光投射到所述共烧陶瓷装置上。
[0018]如上所述第二方面公开的炉系统，其进一步包括数个底部红外器件，所述数个底部红外器件布置在所述传送带下方。其中，所述数个底部红外器件在所述炉腔内部产生热。
[0019]如上所述第二方面公开的炉系统，其中，当所述陶瓷装置移动通过所述炉腔时，所述数个底部红外器件将红外光投射到所述共烧陶瓷装置上。
[0020]如上所述第二方面公开的炉系统，其进一步包括数个底部线圈，所述数个底部线圈布置在所述传送带下方。其中，所述数个底部线圈在所述炉腔内部产生热。
[0021]如上所述第二方面公开的炉系统，所述至少一个支撑器件由对红外光透明的材料制造。
[0022]本申请的炉和炉系统包括以下先进的技术效果：
[0023]1，能够用于粘结剂移除循环和共烧烧结循环二者；
[0024]2，尤其是在温升阶段，具有改善的加热均匀性，以提高温升速度；
[0025]3，能够将红外光投射到处理中的陶瓷装置上，以改善温度均匀性；
[0026]4，在炉中使用一种类型的加热器件(比如红外灯)来简化炉的加热结构；
[0027]5，在炉膛之间设置了通气的分隔件，使得每个加热区域的加热均匀性更好。
[0028]由于具有以上的先进的技术效果，本申请的烧结炉对加工低温陶瓷装置(LTCC)有特别的好处。
附图说明
[0029]将在下面结合附图的详细描述中更全面地描述本专利技术，在附图中，相同或相似的部件使用相同的附图标记如下：
[0030]图1是根据本申请的炉的示例性框图；
[0031]图2描绘了图1所示的炉的立体图；
[0032]图3A至图3C描绘了炉的沿着图2中的线A
‑
A切割的三个截面视图，分别示出了炉的三个实施例；
[0033]图4A至图4C分别描绘了根据图3A至图3C所示的三个实施例的炉腔中的细节；
[0034]图5A至图5B是图3A所示的炉的俯视截面视图和仰视截面视图；
[0035]图6A描绘了托盘，该托盘用于在粘结剂移除循环或共烧烧结循环中将待处理的陶瓷装置固位在炉中；
[0036]图6B至图6C描绘了炉腔中的加热区域分隔件；
[0037]图7A至图7B分别示出了在粘结剂移除循环中的加热曲线和在共烧烧结循环中的加热曲线；
[0038]图8示出了数个支撑器件(比如托盘)放置在图4A所示的炉腔中；
[0039]图9描绘了如图1所示的控制器的框图；
[0040]图10描绘了用于操作本申请的炉的流程图。
具体实施方式
[0041]图1是根据本申请的炉100的示例性框图。如图1所示，炉100包括炉壳体102、炉入口101(即，进入区段)和炉出口103(即，出口区段)。炉入口101连接到炉壳体102的入口开口122，炉出口103连接到炉壳体102的出口开口124。在炉壳体102的上壁144上设有三个排气管道116.1、116.2、116.3，并且在三个排气管道116.1、116.2、116.3的顶部分别设有三个排气开口117.1、117.2、117.3。在炉壳体102的上壁1本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种炉，其特征在于，包括：炉腔(142)；传送带(306)，所述传送带安装在所述炉腔(142)的内部，用于承载并使共烧陶瓷装置移动通过所述炉腔(142)；以及数个上部红外器件，所述数个上部红外器件布置在所述传送带(306)上方；其中，所述炉腔被配置为执行以下两个过程中的任一过程：(1)提供加热以从共烧陶瓷装置中移除粘结剂材料；(2)提供加热以将共烧陶瓷装置形成整体烧结块状结构。2.如权利要求1所述的炉，其特征在于：其中所述数个上部红外器件在所述炉腔内部产生热。3.如权利要求2所述的炉，其特征在于，进一步包括：数个底部红外器件，所述数个底部红外器件投射红外光；其中，当所述陶瓷装置移动通过所述炉腔时，所述数个底部红外器件将红外光投射到所述共烧陶瓷装置上。4.如权利要求1所述的炉，其特征在于，进一步包括：数个底部线圈，所述数个底部线圈布置在所述传送带下方；其中，所述数个底部线圈在所述炉腔内部产生热。5.如权利要求3所述的炉，其特征在于：其中，所述数个上部红外器件是数个上部红外灯管。6.如权利要求5所述的炉，其特征在于：其中，所述数个底部红外器件是数个底部红外灯管。7.如权利要求1所述的炉，其特征在于：其中，所述传送带被配置为承载至少一个支撑器件，以将位于所述至少一个支撑器件上的所述共烧陶瓷装置容纳在所述炉腔内。8.如权利要求7所述的炉，其特征在于：其中，所述至少一个支撑器件由允许红外光通过的材料制造。9.如权利要求1所述的炉，其特征在于：其中，所述炉腔包括数个加热区域。10.如权利要求9所述的炉，其特征在于，进一步包括：数个区域分隔件，所述数个区域分隔件将所述炉腔分成数个加热区域。11.如权利要求10所述的炉，其特征在于：其中，所述数个区域分隔件中的每一个具有上部区段(614)和底部区段(616)，以使得当所述上部区段(614)和所述底部区段(6...

【专利技术属性】
技术研发人员：李宾，
申请(专利权)人：伊利诺斯工具制品有限公司，
类型：发明
国别省市：