一种反射面板及其制备方法技术

本申请公开了一种反射面板及其制作方法，其中，所述反射面板包括：基底；以及，位于所述基底上的多个光电结构单元，所述多个光电结构单元中的每个光电结构单元针对特定频率的光能够产生光电效应；其中，当特定频率的光照射所述反射面板时，所述多个光电结构单元产生的光电效应致使所述反射面板的电磁性能发生改变。变。变。

【技术实现步骤摘要】
一种反射面板及其制备方法


[0001]本申请涉及超材料
，尤其涉及一种基于光控响应的智能反射面板及其制备方法。

技术介绍

[0002]超表面是一种具有超常物理性能的表面结构，物理性能体现在电磁性能。超表面的电磁性能可以被调控，能够对电磁性能进行调控的超表面又被称为智能反射面。
[0003]目前，对超表面的电磁性能的调控采用电控方式，这种超表面又被称为电控智能反射面。具体地，超表面上具有可调元器件(如可变电容、开关二极管等)，通过电控方式对超表面上的可调元器件进行调控(如改变电容的大小、控制二极管的通断等)，从而实现对超表面的电磁性能的调控。然而，通过电控方式对超表面上的可调元器件进行调控，有馈电需求。在实际应用过程中，超表面的架设点并不一定能够满足其对馈电的需求，需要一种全新的控制机制来实现对超表面的电磁特性的调控。

技术实现思路

[0004]为解决上述技术问题，本申请实施例提供了一种反射面板及其制备方法。
[0005]本申请实施例提供的反射面板，包括：
[0006]基底；以及，
[0007]位于所述基底上的多个光电结构单元，所述多个光电结构单元中的每个光电结构单元针对特定频率的光能够产生光电效应；
[0008]其中，当特定频率的光照射所述反射面板时，所述多个光电结构单元产生的光电效应致使所述反射面板的电磁性能发生改变。
[0009]在本申请一些可选实施方式中，所述基底上具有多个凹槽结构，所述多个凹槽结构与所述多个光电结构单元一一对应，其中，一个光电结构单元位于一个凹槽结构内。
[0010]在本申请一些可选实施方式中，所述光电结构单元包括：
[0011]半导体层，所述半导体层覆盖在所述基底上；以及，
[0012]金属层，所述金属层覆盖在所述半导体层上。
[0013]在本申请一些可选实施方式中，所述半导体层为掺杂氧化锌薄膜。
[0014]在本申请一些可选实施方式中，所述金属层为银纳米线薄膜。
[0015]在本申请一些可选实施方式中，所述金属层为透明金属层。
[0016]在本申请一些可选实施方式中，所述基底为透明基底。
[0017]在本申请一些可选实施方式中，所述多个光电结构单元在所述基底上呈周期性分布。
[0018]本申请实施例提供的反射面板的制备方法，包括：
[0019]获取基底；
[0020]在所述基底上刻出多个凹槽结构；
[0021]在所述多个凹槽结构内制作出多个光电结构单元，得到反射面板；
[0022]其中，所述多个光电结构单元中的每个光电结构单元针对特定频率的光能够产生光电效应。
[0023]在本申请一些可选实施方式中，所述在所述基底上刻出多个凹槽结构之前，所述方法还包括：在所述基底上覆盖一层掩膜；
[0024]所述在所述基底上刻出多个凹槽结构，包括：在覆盖有掩膜的基底上刻出多个凹槽结构。
[0025]在本申请一些可选实施方式中，所述在覆盖有掩膜的基底上刻出多个凹槽结构之后，所述方法还包括：
[0026]将带有所述多个凹槽结构的基底置于酸性溶液中，利用超声对其进行清洗。
[0027]在本申请一些可选实施方式中，所述在所述多个凹槽结构内制作出多个光电结构单元，包括：
[0028]制备半导体分散液和金属分散液；
[0029]在带有所述多个凹槽结构的基底上依次喷涂所述半导体分散液和所述金属分散液；
[0030]其中，所述半导体分散液风干后形成半导体层，所述金属分散液风干后形成金属层，所述半导体层覆盖在所述基底上，所述金属层覆盖在所述半导体层上；所述多个凹槽结构中的每个凹槽结构内的半导体层和金属层形成一个光电结构单元，所述多个凹槽结构内形成有多个光电结构单元。
[0031]在本申请一些可选实施方式中，所述半导体层为掺杂氧化锌薄膜，所述制备半导体分散液包括：
[0032]将锌盐和金属盐的掺杂物质倒入水性溶液中，并加入偶联剂后进行搅拌混合，得到前驱物；
[0033]利用溶剂热法将所述前驱物制备成掺杂氧化锌粉体；
[0034]将所述掺杂氧化锌粉体分散于水性溶液中，得到掺杂氧化锌分散液。
[0035]在本申请一些可选实施方式中，所述金属层为银纳米线薄膜，制备金属分散液，包括：
[0036]将银纳米线分散于水性溶液中，得到银纳米线分散液。
[0037]在本申请一些可选实施方式中，在所述多个凹槽结构内制作出多个光电结构单元后，所述方法还包括：
[0038]对带有所述多个光电结构单元的基底进行退火处理，致使所述基底表面上的掩膜分解掉。
[0039]在本申请一些可选实施方式中，所述基底为透明基底。
[0040]本申请实施例的技术方案中，提出了一种基于全新调控机制的反射面板——基于光控响应的智能反射面板(简称为光控智能反射面板)，反射面板包括基底以及位于基底上的多个光电结构单元，当特定频率的光照射反射面板时，多个光电结构单元能够产生光电效应，致使反射面板的电磁性能发生改变。由于通过光控方式对反射面板的电磁性能进行调控，因而没有馈电需求，反射面板上无需设置馈电线路。
附图说明
[0041]图1是一种电控智能反射面的实物图；
[0042]图2是电控智能反射面中的结构单元的示意图；
[0043]图3是电控智能反射面的制作流程图；
[0044]图4是本申请实施例提供的反射面板的结构示意图一；
[0045]图5是本申请实施例提供的光电结构单元内嵌在基底上的侧视；
[0046]图6是本申请实施例提供的光电结构单元的组成示意图；
[0047]图7是本申请实施例提供的光电结构单元的光照场景示意图一；
[0048]图8是本申请实施例提供的光电结构单元的光照场景示意图二；
[0049]图9是本申请实施例提供的光电结构单元的光照场景示意图三；
[0050]图10是本申请实施例提供的反射面板的结构示意图二；
[0051]图11是本申请实施例提供的反射面板的制备方法的流程示意图一；
[0052]图12是本申请实施例提供的反射面板的制备方法的流程示意图二。
具体实施方式
[0053]下面将参照附图更详细地描述本申请公开的示例性实施方式。虽然附图中显示了本申请的示例性实施方式，然而应当理解，可以以各种形式实现本申请，而不应被这里阐述的具体实施方式所限制。相反，提供这些实施方式是为了能够更透彻地理解本申请，并且能够将本申请公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。
[0054]在下文的描述中，给出了大量具体的细节以便提供对本申请更为彻底的理解。然而，对于本领域技术人员而言显而易见的是，本申请可以无需一个或多个这些细节而得以实施。在其他的例子中，为了避免与本申请发生混淆，对于本领域公知的一些技术特征未进行描述；即，这里不描述实际实施例的全部特征，不详细描述公知的功本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种反射面板，其特征在于，所述反射面板包括：基底；以及，位于所述基底上的多个光电结构单元，所述多个光电结构单元中的每个光电结构单元针对特定频率的光能够产生光电效应；其中，当特定频率的光照射所述反射面板时，所述多个光电结构单元产生的光电效应致使所述反射面板的电磁性能发生改变。2.根据权利要求1所述的反射面板，其特征在于，所述基底上具有多个凹槽结构，所述多个凹槽结构与所述多个光电结构单元一一对应，其中，一个光电结构单元位于一个凹槽结构内。3.根据权利要求1所述的反射面板，其特征在于，所述光电结构单元包括：半导体层，所述半导体层覆盖在所述基底上；以及，金属层，所述金属层覆盖在所述半导体层上。4.根据权利要求3所述的反射面板，其特征在于，所述半导体层为掺杂氧化锌薄膜。5.根据权利要求3所述的反射面板，其特征在于，所述金属层为银纳米线薄膜。6.根据权利要求3至5中任一项所述的反射面板，其特征在于，所述金属层为透明金属层。7.根据权利要求1至5中任一项所述的反射面板，其特征在于，所述基底为透明基底。8.根据权利要求1至5中任一项所述的反射面板，其特征在于，所述多个光电结构单元在所述基底上呈周期性分布。9.一种反射面板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：获取基底；在所述基底上刻出多个凹槽结构；在所述多个凹槽结构内制作出多个光电结构单元，得到反射面板；其中，所述多个光电结构单元中的每个光电结构单元针对特定频率的光能够产生光电效应。10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述在所述基底上刻出多个凹槽结构之前，所述方法还包括：在所述基底上覆盖一层掩膜；所述在所述基底上刻出多个凹槽结构，包括...

【专利技术属性】
技术研发人员：李亚，王安娜，张雁茗，
申请(专利权)人：中国移动通信集团有限公司，
类型：发明
国别省市：