本发明专利技术提供一种真空吸附及翻转装置，其特征在于，包括：基座单元、翻转单元及真空吸附单元，所述翻转单元包括旋转电机，所述旋转电机的固定端固连所述基座单元，旋转端固连所述真空吸附单元；其中，所述真空吸附单元吸附衬底，所述旋转电机驱动所述旋转端带动所述真空吸附单元及所述衬底翻转。通过真空吸附单元吸附衬底，翻转单元固设于基座单元上，并翻转所述真空吸附单元及所述衬底，具有结构简单，操作便捷，翻转精度高等优点。翻转精度高等优点。翻转精度高等优点。
【技术实现步骤摘要】
真空吸附及翻转装置
[0001]本专利技术涉及半导体
，更具体地，涉及一种真空吸附及翻转装置。
技术介绍
[0002]随着集成电路产业的迅猛发展，对设备处理多种规格半导体晶圆的能力提出了更高更严格的要求。在半导体晶圆生产制作及传输过程中，需要对半导体晶圆正反两面进行检测观察，保证工艺要求及其品质质量。此外，半导体晶圆既有Notch的又有Flat的，这种不规则的圆形，这对半导体晶圆翻转提出了更高的要求。
[0003]在实现本专利技术的过程中，发现目前现有技术存在以下问题没有得到很好的解决：
[0004]1.传统的半导体晶圆翻转装置，夹持间距难以调节，难以应对多种规格半导体晶圆；
[0005]2.传统的半导体晶圆翻转装置，夹持点一般是放在半导体晶圆的四等分点上，难以应对不规则的半导体晶圆夹持。
[0006]3.传统的半导体晶圆翻转装置，在夹持过程中，容易对半导体晶圆造成划伤破损，影响正常的使用。
技术实现思路
[0007]本专利技术的目的在于克服现有技术存在的上述缺陷，提供一种真空吸附及翻转装置。
[0008]为实现上述目的，本专利技术提供一种真空吸附及翻转装置，其特征在于，包括：基座单元、翻转单元及真空吸附单元，所述翻转单元包括旋转电机，所述旋转电机的固定端固连所述基座单元，旋转端固连所述真空吸附单元；其中，所述真空吸附单元吸附衬底，所述旋转电机驱动所述旋转端带动所述真空吸附单元及所述衬底翻转。
[0009]优选地，所述基座单元包括若干调平顶丝、底板及支撑组件，所述支撑组件固设于所述底板上，所述调平顶丝之间绕所述底板的中心，且沿所述底板的周向对称设置；其中，所述翻转单元固连所述支撑组件，所述旋转电机的旋转轴平行于所述底板；所述调平顶丝调整所述底板以平行于水平面。
[0010]优选地，所述底板为矩形板，4个调平顶丝对应分设于所述矩形板的四角。
[0011]优选地，所述支撑组件包括左/右侧板、及前/背侧板，所述翻转单元还包括联轴器；其中，所述左/右侧板及所述背侧板固设于所述底板上，所述左/右侧板相对分设于所述背板的两侧，前侧板相对所述背侧板，并两侧分别固连所述左/右侧板；所述旋转电机的固定端固连所述背侧板，旋转端设于所述前/背侧板之间，所述联轴器的一端固连所述旋转端，并穿过所述前侧板，另一端固连所述真空吸附单元。
[0012]优选地，所述翻转单元还包括左/右限位装置，所述左/右限位装置均固连所述前侧板，且对称分设于所述旋转电机的两侧，并限制所述旋转电机于预设角度内旋转。
[0013]优选地，所述预设角度为0
°
至180
°
。
[0014]优选地，所述左/右限位装置均包括带聚氨酯止动螺栓。
[0015]优选地，所述翻转单元还包括左/右传感器，所述左/右传感器分别对应所述左/右限位装置，并对称分设于所述旋转电机的两侧，且检测所述旋转电机的旋转角度。
[0016]优选地，所述真空吸附单元包括吸附臂、连接组件及真空阀，所述吸附臂的一端设有若干吸附孔，另一端固连所述连接组件并设有若干排气孔，所述排气孔对应所述连接组件的进气孔，所述连接组件固连所述旋转端，且出气孔旋转连接所述真空阀；其中，所述真空阀开启，所述吸附孔吸附所述衬底，所述旋转电机带动所述连接组件传动所述吸附臂及所述衬底水平翻转；所述真空阀关闭，所述吸附孔释放所述衬底。
[0017]优选地，所述连接组件包括气路相连的压块及定块，所述进气孔设于所述压块，所述出气孔设于所述定块，所述定块固连所述旋转轴，所述压块下压所述吸附臂的一端于所述定块上。
[0018]本专利技术通过真空吸附单元吸附衬底，翻转单元固设于基座单元上，并翻转所述真空吸附单元及所述衬底，具有结构简单，操作便捷，翻转精度高等优点。
附图说明
[0019]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0020]附图1为本专利技术实施例的真空吸附及翻转装置的轴视结构示意图；
[0021]附图2为本专利技术实施例的真空吸附及翻转装置的正视结构示意图；
[0022]附图3为本专利技术实施例的真空吸附及翻转装置的俯视结构示意图。
[0023]图中：101底板；102左侧板；103右侧板；104前侧板；105调平顶丝；201旋转电机；202右限位装置；203左限位装置；204右传感器；205左传感器；206联轴器；301定块；302压块；303吸附臂；304气管。
具体实施方式
[0024]为使本专利技术的内容更加清楚易懂，以下结合说明书附图，对本专利技术的内容作进一步说明。当然本专利技术并不局限于该具体实施例，本领域内的技术人员所熟知的一般替换也涵盖在本专利技术的保护范围内。
[0025]需要说明的是，在下述的具体实施方式中，在详述本专利技术的实施方式时，为了清楚地表示本专利技术的结构以便于说明，特对附图中的结构不依照一般比例绘图，并进行了局部放大、变形及简化处理，因此，应避免以此作为对本专利技术的限定来加以理解。
[0026]本专利技术的真空吸附及翻转装置，包括基座单元、翻转单元及真空吸附单元。
[0027]如图1所示，所述翻转单元包括旋转电机201，所述旋转电机201的固定端固连所述基座单元，旋转端固连所述真空吸附单元。所述真空吸附单元吸附衬底，所述旋转电机201驱动所述旋转端带动所述真空吸附单元及衬底翻转。
[0028]所述衬底可以是晶圆，所述晶圆的尺寸可以是2寸、3寸、4寸、6寸及12寸中的一种或多种。所述衬底还可以是玻璃及柔性基板等。
[0029]所述基座单元包括若干调平顶丝、底板及支撑组件。所述支撑组件固设于所述底板上，所述调平顶丝之间绕所述底板的中心，且沿所述底板的周向对称设置。所述旋转电机的固定端垂直相连所述支撑组件，旋转轴平行于所述底板，所述旋转电机201驱动所述旋转端带动所述真空吸附单元及所述衬底水平翻转。
[0030]本实施例中，底板101为矩形板，所述支撑组件垂直于底板101。所述支撑组件为立式柜体，并包括左侧板102、右侧板103、前侧板104及背侧板。
[0031]左侧板102、右侧板103及背侧板固设于所述底板上，左侧板102、右侧板103相对分设于所述背板的两侧，前侧板104相对所述背侧板，并两侧分别固连左侧板102及右侧板103。
[0032]4个调平顶丝105分设于底板101的四角。调平顶丝105调整底板101以平行于水平面，以确保所述支撑组件垂直于水平面。
[0033]如图3所示，旋转电机201设于前侧板104及背侧板之间，且固定端固连背侧板，旋转端设于前侧板104及背侧板之间，可以通过背侧板上的调节顶丝对旋转电机201的位置进行调整，从而使旋转电机201的旋转轴平本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种真空吸附及翻转装置，其特征在于，包括：基座单元、翻转单元及真空吸附单元，所述翻转单元包括旋转电机，所述旋转电机的固定端固连所述基座单元，旋转端固连所述真空吸附单元；其中，所述真空吸附单元吸附衬底，所述旋转电机驱动所述旋转端带动所述真空吸附单元及所述衬底翻转。2.如权利要求1所述的真空吸附及翻转装置，其特征在于，所述基座单元包括若干调平顶丝、底板及支撑组件，所述支撑组件固设于所述底板上，所述调平顶丝之间绕所述底板的中心，且沿所述底板的周向对称设置；其中，所述旋转电机的固定端固连所述支撑组件，旋转轴平行于所述底板；所述调平顶丝调整所述底板以平行于水平面。3.如权利要求2所述的真空吸附及翻转装置，其特征在于，所述底板为矩形板，4个调平顶丝对应分设于所述矩形板的四角。4.如权利要求2所述的真空吸附及翻转装置，其特征在于，所述支撑组件包括左/右侧板、及前/背侧板，所述翻转单元还包括联轴器；其中，所述左/右侧板及所述背侧板固设于所述底板上，所述左/右侧板相对分设于所述背板的两侧，前侧板相对所述背侧板，并两侧分别固连所述左/右侧板；所述旋转电机的固定端固连所述背侧板，旋转端设于所述前/背侧板之间，所述联轴器的一端固连所述旋转端，并穿过所述前侧板，另一端固连所述真空吸附单元。5.如权利要求4所述的真空吸附及翻转装置，其特征在于，所述翻转单元还包括左/右限位装...
【专利技术属性】
技术研发人员：张贤龙，刘恩龙，川辺哲也，马刚，乐佳浩，曹洁，
申请(专利权)人：上海广川科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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